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적어도 일면에 소수성 박막이 형성된 기판을 준비하는 단계;풀러렌 단량체 분말을 가열하여 승화시키고 상기 소수성 박막 상에 증착시켜 풀러렌 회합체를 생성하는 단계; 및상기 생성된 풀러렌 회합체에 광이나 전자빔을 조사하여 중합반응을 유도하는 단계를 포함하는 풀러렌 다량체의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 소수성 박막은 물방울과의 접촉각이 적어도 150°이상인 초소수성 박막인 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 제조방법
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제 2항에 있어서, 상기 초소수성 박막은 촉매 화학 증착법에 의해 기판상에 형성되는 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 제조방법
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제 3항에 있어서, 상기 촉매 화학 증착법은챔버 내부에 기판을 부착시키고, 상기 챔버 내부를 진공 상태로 만드는 단계; 상기 기판과 일정 거리 이격되어 구비된 촉매체에 전류를 흘려 상기 촉매체를 제2 온도로 상승시키고, 상기 기판을 제1 온도로 냉각시키는 단계; 상기 챔버 내부로 피드 가스를 주입하는 단계; 및상기 주입된 피드 가스의 분압, 상기 기판의 온도 및 상기 촉매체의 온도를 조절하여 상기 기판에 초소수성 박막을 증착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 제조방법
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제 4항에 있어서, 상기 기판은 유리기판, 금속기판, 플리스틱 기판, 실리콘 기판 또는 전도성 무기물 기판인 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 제조방법
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제 4항에 있어서, 상기 초소수성 박막은 폴리테트라풀루오로에틸렌(Polytetrafluoroethylene, PTFE) 박막인 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 제조방법
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제 4항에 있어서, 상기 피드 가스는 헥사플루오로프로필렌옥사이드(Hexafluoropropylene oxide, HFPO) 가스인 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 제조방법
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제 4항에 있어서,상기 제1 온도는 10~50℃의 범위이고, 상기 제2 온도는 500~1200℃의 범위인 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 제조방법
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제 4항에 있어서, 상기 촉매체는 텅스텐(W), 니켈크롬(NiCr), 니켈-크롬-철 합금(Ni-Cr-F alloy), 철(Fe), 스테인리스 강(stainless steel), 몰리브덴(MO), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta) 및 백금(Pt)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 제조방법
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제 7항에 있어서, 상기 헥사플루오로프로필렌옥사이드(Hexafluoropropylene oxide, HFPO) 가스는 100~800 mTorr의 분압 및 4~20 sccm의 유량으로 챔버 내부에 주입되는 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 제조방법
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제 4항에 있어서, 상기 초소수성 물질의 박막은 기판에 5분 내지 3시간 동안 증착되는 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 풀러렌 단량체 분말의 가열 온도는 400~450℃인 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 풀러렌 단량체 분말은 진공 상태에서 승화되는 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 풀러렌 회합체에 조사되는 광은 자외선인 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 제조방법
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제 14항에 있어서, 상기 자외선의 조사 시간은 1분 내지 20시간인 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 풀러렌 회합체에 조사되는 전자빔의 세기는 100~500eV인 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 제조방법
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풀러렌 다량체가 형성된 기판을 풀러렌 다량체의 불용성 용매가 수용된 초음파 분쇄기(sonicator)에 넣고 초음파 처리하는 단계를 포함하고,상기 풀러렌 다량체가 형성된 기판은 제 1항 내지 제 16항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 분리방법
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제 17항에 있어서, 상기 풀러렌 다량체의 불용성 용매는 톨루엔인 것을 특징으로 하는 풀러렌 다량체의 분리방법
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