| 1 |
1
액정이 주입된 패브리 페롯 공진계를 이용한 표면 형상 측정 장치에서의 표면 형상 측정 방법에 있어서, (a) 패브리 페롯 공진계로 전압을 인가하지 않은 상태에서 패브리 페롯 공진계로부터 출사되어 기준면에 투영된 간섭 패턴을 촬상하여 기준 간섭 패턴으로 저장하는 단계;(b) 패브리 페롯 공진계로 전압을 인가하지 않은 상태에서 패브리 페롯 공진계로부터 측정 대상물의 표면으로 기준 간섭 패턴을 주사하고, 상기 측정 대상물의표면에 투영된 투영 간섭 패턴을 촬상하는 단계;(c) 상기 투영 간섭 패턴과 기준 간섭 패턴을 비교하여, 상기 투영 간섭 패턴에서 상기 기준 간섭 패턴과 다른 왜곡 영역들을 검출하는 단계;(d) 상기 검출된 왜곡 영역들에 대하여 상기 투영 간섭 패턴과 상기 기준 간섭 패턴과의 차이값들을 구하는 단계;(e) 상기 차이값들을 이용하여 각 왜곡 영역들에 대한 높이를 계산하는 단계;(f) 각 왜곡 영역들에 대하여 계산된 높이들에 따라 측정 대상물의 표면의 형상을 추출하는 단계;를 구비하고,상기 기준면은 상기 패브리 페롯 공진계의 출사면으로부터 일정 거리 이격된 위치에 배치된 평탄한 면인 것을 특징으로 하는 광학식 표면 형상 측정 방법
|
| 2 |
2
액정이 주입된 패브리 페롯 공진계를 이용한 표면 형상 측정 장치에서의 표면 형상 측정 방법에 있어서, (a) 패브리 페롯 공진계로 다수 개의 전압을 순차적으로 인가시키면서, 각 인가전압에 대하여 패브리 페롯 공진계로부터 출사되어 기준면에 투영된 동적 간섭 패턴들을 촬상하여 각 인가전압에 대한 기준 간섭 패턴들로 저장하는 단계;(b) 패브리 페롯 공진계로 다수 개의 전압을 순차적으로 인가시켜 패브리 페롯 공진계로부터 측정 대상물의 표면으로 기준 간섭 패턴을 순차적으로 주사하고, 각 인가 전압에 따라 상기 측정 대상물의 표면에 투영된 투영 간섭 패턴들을 순차적으로 촬상하는 단계;(c) 각 인가 전압에 대하여 상기 투영 간섭 패턴과 기준 간섭 패턴을 비교하여, 상기 투영 간섭 패턴에서 상기 기준 간섭 패턴과 다른 왜곡 영역들을 검출하는 단계;(d) 각 인가 전압에 대하여 상기 검출된 왜곡 영역들에 대하여 상기 투영 간섭 패턴과 상기 기준 간섭 패턴과의 차이값들을 구하는 단계;(e) 각 인가 전압에 대하여 상기 차이값들을 이용하여 각 왜곡 영역들에 대한 높이를 계산하는 단계;(f) 각 왜곡 영역들에 대하여 계산된 높이들에 따라 측정 대상물의 표면의 형상을 추출하는 단계;를 구비하여 측정 대상물의 표면을 스캐닝하는 것을 특징으로 하고,상기 기준면은 상기 패브리 페롯 공진계의 출사면으로부터 일정 거리 이격된 위치에 배치된 평탄한 면인 것을 특징으로 하는 광학식 표면 형상 측정 방법
|
| 3 |
3
제1항 내지 제2항 중 어느 한 항에 있어서, 각 왜곡 영역들에 대한 높이(h)는 수학식 에 의해 계산되며, 여기서, 이며, 는 기준 간섭 패턴의 직경이며, 는 투영된 간섭 패턴의 직경인 것을 특징으로 하는 광학식 표면 형상 측정 방법
|
| 4 |
4
제2항에 있어서, 패브리 페롯 공진계로 인가하는 다수 개의 전압들은 기준 전압으로부터 사전에 설정된 단위 전압만큼 순차적으로 증가되는 값인 것을 특징으로 하는 광학식 표면 형상 측정 방법
|
| 5 |
5
제4항에 있어서, 상기 단위 전압의 크기는 해상도에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 광학식 표면 형상 측정 방법
|
| 6 |
6
제1항 내지 제2항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기준 간섭 패턴 및 투영 간섭 패턴은 동일한 중심을 갖는 다수 개의 원형의 프린지(fringe)들이 비선형적으로 배치되어 구성되는 것을 특징으로 하는 광학식 표면 형상 측정 방법
|
