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다채널 링 공진기 기반 파장분할다중화 광학 소자

  • 기술번호 : KST2015082903
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 다채널 링 공진기 기반 파장분할다중화 광학 소자를 제공한다. 이 소자는 입력 도파관, 입력 도파관 주위에 배치된 복수개의 링 공진기들, 링 공진기들 각각의 주위에 배치된 출력 도파관들 및 링 공진기들 중의 적어도 하나에 인접하게 형성되어 해당 링 공진기의 표면 일부를 덮는 적어도 하나의 변조 클래드 패턴을 구비한다.
Int. CL G02B 6/293 (2006.01) G02B 6/12 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020070104920 (2007.10.18)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0907251-0000 (2009.07.03)
공개번호/일자 10-2009-0039339 (2009.04.22) 문서열기
공고번호/일자 (20090710) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.10.18)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이종무 대한민국 대전 유성구
2 김덕준 대한민국 대전 서구
3 김갑중 대한민국 대전 유성구
4 김경옥 대한민국 서울 강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 오세준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)(특허법인 고려)
2 권혁수 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(삼일빌딩, 역삼동)(KS고려국제특허법률사무소)
3 송윤호 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 *** (역삼동) *층(삼일빌딩)(케이에스고려국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.10.18 수리 (Accepted) 1-1-2007-0745221-46
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.10.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.11.11 수리 (Accepted) 9-1-2008-0071892-74
4 등록결정서
Decision to grant
2009.06.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0274814-12
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
입력 도파관(input waveguide); 상기 입력 도파관 주위에 배치된 복수개의 링 공진기들(ring resonators); 상기 링 공진기들 각각의 주위에 배치된 출력 도파관들(output waveguides); 및 상기 링 공진기들 중의 적어도 하나에 인접하게 형성되어, 해당 링 공진기의 표면 일부를 덮는 적어도 하나의 변조 클래드 패턴(clad pattern)을 구비하는 것을 특징으로 하는 파장분할다중화 소자
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 변조 클래드 패턴들은 이에 인접하는 해당 링 공진기와의 접촉 면적에서 서로 다른 것을 특징으로 하는 파장분할다중화 소자
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 변조 클래드 패턴은 상기 링 공진기보다 낮은 굴절률을 갖는 물질들 중의 적어도 한가지로 형성되는 것을 특징으로 하는 파장분할다중화 소자
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 링 공진기는 실리콘으로 형성되고, 상기 변조 클래드 패턴은 상기 실리콘보다 낮은 굴절률을 갖는 무기물들 및 유기물들 중의 적어도 한가지로 형성되되, 상기 실리콘보다 낮은 굴절률을 갖는 무기물들은 실리콘 산화물 및 실리콘 질화물을 포함하고, 상기 실리콘보다 낮은 굴절률을 갖는 유기물들은 피엠엠에이(Poly Methyl Meta Acrylate; PMMA) 계열의 폴리머들, 폴리이미드(polyimide) 계열의 폴리머들, 폴리에테르(polyether) 계열의 폴리머들 및 아크릴레이트(acrylate) 계열의 폴리머들 중의 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 파장분할다중화 소자
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 링 공진기들은 동일한 모양, 동일한 물질 및 동일한 크기로 형성되는 것을 특징으로 하는 파장분할다중화 소자
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 링 공진기들은 적어도 하나의 링 공진기를 포함하는 적어도 하나의 링 공진기 그룹을 포함하되, 하나의 링 공진기 그룹에 포함되는 링 공진기들은 모양, 물질 및 크기에서 동일하고, 서로 다른 링 공진기 그룹들에 포함되는 링 공진기들은 모양, 물질 및 크기 중의 적어도 하나에서 서로 다른 것을 특징으로 하는 파장분할다중화 소자
7 7
입력 도파관; 상기 입력 도파관 주위에 배치된 복수개의 링 공진기들; 상기 링 공진기들 각각의 주위에 배치된 출력 도파관들; 및 상기 링 공진기들의 표면을 덮는 상부 클래드층 및 적어도 하나의 변조 클래드 패턴을 포함하는 클래드 구조체를 포함하되, 상기 링 공진기와 변조 클래드 패턴의 접촉 면적 및 상기 링 공진기와 상기 상부 클래드층의 접촉 면적 사이의 비율은 상기 링 공진기들마다 다른 것을 특징으로 하는 파장분할다중화 소자
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20090103863 US 미국 FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2009103863 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 정보통신부 및 정보통신연구진흥원 한국전자통신연구원 IT원천기술개발 실리콘 기반 초고속 광인터커넥션 IC