| 1 |
1
플라즈마처리를 통하여 나노미터의 두께의 덴드리틱 고분자나 응용가능한 물질로 치환된 덴드리틱 고분자가 부착된 고분자 막 또는 필름
|
| 2 |
2
제 1항에 있어서, 공기 중에서 또는 무수말레산 존재하에서 플라즈마 처리를 통해서 말단 반응기를 갖는 덴드리틱 고분자가 부착된 것을 특징으로 하는 고분자 막 또는 필름
|
| 3 |
3
제 1항에 있어서, 무수말레산 존재하에 플라즈마처리 후 아자이드기를 도입하고 UV를 조사하여 말단 반응기가 없는 덴드리틱 고분자가 공유결합으로 부착된 것을 특징으로 하는 고분자 막 또는 필름
|
| 4 |
4
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 덴드리틱 고분자의 말단 반응기는 아민, 카르복시, 카르복실릭 에스테르, 에폭시, 이소시아네이트, 하이드록시 및 설프하이드릴에서 선택된 하나 또는 그 이상의 반응기인 것을 특징으로 하는 고분자 막 또는 필름
|
| 5 |
5
제 1항에 있어서, 덴드리틱 고분자는 제 2세대 이상의 덴드리머, 하이퍼 브렌치 고분자, 가지가 많은 별모양의 고분자인 것을 특징으로 하는 고분자 막 또는 필름
|
| 6 |
6
제 1항에 있어서, 고분자 필름은 폴리다이메틸실리콘(PDMS), 폴리술폰, 폴리이미드, 폴리에테르술폰, 셀룰로우스, 폴리프로필렌 및 폴리에틸렌등 고분자 필름이 될 수 있는 범용 또는 특수 고분자로 구성된 군에서 선택되고, 고분자 막은 덴스(dense)막이거나 비대칭막인 것을 특징으로 하는 고분자 막 또는 필름
|
| 7 |
7
제 1항에 있어서, 덴드리틱 고분자는 사슬에 산소, 질소 또는 황으로 구성된 그룹에서 선택된 하나 또는 그 이상의 원소를 갖는 화합물로 치환된 것을 특징으로 하는 고분자 막 또는 필름
|
| 8 |
8
고분자막 또는 필름에 플라즈마 처리를 하여 고분자막 또는 필름 표면에 활성을 주는 공정; 처리된 고분자막 또는 필름을 덴드리틱 고분자 용액에 담그는 공정; 을 포함하는 덴드리틱 고분자가 부착된 고분자막 또는 필름의 제조 방법
|
| 9 |
9
제 8항에 있어서, 플라즈마 처리는 공기 중에서 또는 무수말레산 존재하에서 처리하는 것을 특징으로 하는 고분자막 또는 필름의 제조방법
|
| 10 |
10
제 8항에 있어서, 무수말레산 존재하에 플라즈마처리 후 아자이드기를 도입하고 UV를 조사하여 말단 반응기가 없는 덴드리틱 고분자가 공유결합으로 부착되는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 막 또는 필름의 제조방법
|
| 11 |
11
제 8항에 있어서, 응용 가능한 물질로 치환된 덴드리틱 고분자는 사슬에 산소, 질소 또는 황으로 구성된 그룹에서 선택된 하나 또는 그 이상의 원소를 갖는 화합물로 치환된 것을 특징으로 하는 고분자 막 또는 필름의 제조방법
|
| 12 |
12
제 1항에 있어서, 덴드리틱 고분자가 부착된 고분자 막 또는 고분자 필름위에 덴드리틱 고분자의 말단 반응기를 이용하여 사슬에 산소, 질소 또는 황으로 구성된 그룹에서 선택된 하나 또는 그 이상의 원소를 갖는 화합물로 치환된 것을 특징으로 하는 고분자 막 또는 필름
|
