요약 | 나노선 기반의 메모리 소자 구현에 사용되는 다원계 나노선을 다원계 용액을 사용하는 전기도금 방식으로 일시에 성장시킬 수 있는 다원계 나노선 제조방법이 개시된다. 본 발명에 따른 다원계 나노선 제조방법은 (a) 복수개의 기공(12)을 갖는 양극 산화 알루미늄(anodized aluminum oxide) 나노틀(nanotemplate)(10)을 준비하는 단계; (b) 양극 산화 알루미늄 나노틀(10)의 일측면 상에 전극층(20)을 형성하는 단계; (c) 양극 산화 알루미늄 나노틀(10)을 소정의 다원계 용액에 주입한 후 이를 음극(cathode)으로 하는 전기도금 방식을 이용하여 양극 산화 알루미늄 나노틀(10)의 기공을 통하여 다원계 나노선(30)을 성장시키는 단계; 및 (d) 양극 산화 알루미늄 나노틀(10)을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 다원계, 나노선, 나노틀, 전구체, 양극 산화 알루미늄, 전기도금 |
---|---|
Int. CL | B82Y 40/00 (2011.01) B82B 3/00 (2006.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020080137859 (2008.12.31) |
출원인 | 고려대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | 10-1093364-0000 (2011.12.06) |
공개번호/일자 | 10-2010-0079391 (2010.07.08) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20111214) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2008.12.31) |
심사청구항수 | 8 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 고려대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 성북구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 김영근 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 |
2 | 지혜민 | 대한민국 | 경기도 수원시 영통구 |
3 | 안부현 | 대한민국 | 경기도 고양시 덕양구 |
4 | 조문규 | 대한민국 | 서울특별시 마포구 |
5 | 민지현 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 김한 | 대한민국 | 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 고려대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 성북구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2008.12.31 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0908846-29 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2009.06.09 | 수리 (Accepted) | 4-1-2009-5111177-32 |
3 | [출원서등 보정]보정서 [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment |
2009.08.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0485433-66 |
4 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2010.08.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2010-5149278-93 |
5 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2011.01.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0047091-98 |
6 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2011.03.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0216355-19 |
7 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2011.04.25 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0307838-72 |
8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2011.04.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0307787-31 |
9 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.11.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0708685-79 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.02.11 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5018243-16 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.04.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5049934-62 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.10.10 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5210941-09 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 (a) 복수개의 기공을 갖는 양극 산화 알루미늄(anodized aluminum oxide) 나노틀(nanotemplate)을 준비하는 단계; (b) 상기 양극 산화 알루미늄 나노틀의 일측면 상에 전극층을 형성하는 단계; (c) 상기 양극 산화 알루미늄 나노틀을 Ge-Sb-Te계 용액에 주입한 후 이를 음극(cathode)으로 하는 전기도금 방식을 이용하여 상기 양극 산화 알루미늄 나노틀의 기공을 통하여 Ge-Sb-Te계 나노선을 성장시키는 단계; 및 (d) 상기 양극 산화 알루미늄 나노틀을 제거하는 단계 를 포함하는 것을 특징으로 하는 Ge-Sb-Te계 나노선 제조방법 |
2 |
2 제1항에 있어서, 상기 기공의 직경은 수십 내지 수백 나노미터인 것을 특징으로 하는 Ge-Sb-Te계 나노선 제조방법 |
3 |
3 제1항에 있어서, 상기 전극층은 금(Au)을 포함하는 것을 특징으로 하는 Ge-Sb-Te계 나노선 제조방법 |
4 |
4 삭제 |
5 |
5 삭제 |
6 |
6 삭제 |
7 |
7 제1항에 있어서, 상기 Ge-Sb-Te계 용액은 전구체(precursor)로서 GeO2, SbO2 및 TeO2, 용매로서 염산 및 에틸글리세롤을 포함하는 것을 특징으로 하는 Ge-Sb-Te계 나노선 제조방법 |
8 |
8 제1항에 있어서, 상기 (c) 단계에서 양극(anode)으로는 백금 전극을 사용하는 것을 특징으로 하는 Ge-Sb-Te계 나노선 제조방법 |
9 |
9 제1항에 있어서, 상기 (c) 단계에서 상기 Ge-Sb-Te계 용액 내의 전구체의 혼합 비율 및 상기 전기도금 과정에서 인가되는 전류밀도값 중 적어도 하나의 변화에 따라 다원계 나노선의 조성이 결정되는 것을 특징으로 하는 Ge-Sb-Te계 나노선 제조방법 |
10 |
10 제1항에 있어서, 상기 (d) 단계에서 상기 양극 산화 알루미늄 나노틀은 NaOH 용액을 이용하여 제거되는 것을 특징으로 하는 Ge-Sb-Te계 나노선 제조방법 |
11 |
11 제1항 내지 제3항, 제7항 내지 제10항 중 어느 한 항의 방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는 Ge-Sb-Te계 나노선 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | EP02204474 | EP | 유럽특허청(EPO) | FAMILY |
2 | EP02204474 | EP | 유럽특허청(EPO) | FAMILY |
3 | JP05525090 | JP | 일본 | FAMILY |
4 | JP22156038 | JP | 일본 | FAMILY |
5 | JP25177696 | JP | 일본 | FAMILY |
6 | US20100163419 | US | 미국 | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | EP2204474 | EP | 유럽특허청(EPO) | DOCDBFAMILY |
2 | EP2204474 | EP | 유럽특허청(EPO) | DOCDBFAMILY |
3 | JP2010156038 | JP | 일본 | DOCDBFAMILY |
4 | JP2013177696 | JP | 일본 | DOCDBFAMILY |
5 | JP5525090 | JP | 일본 | DOCDBFAMILY |
6 | US2010163419 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
국가 R&D 정보가 없습니다. |
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특허 등록번호 | 10-1093364-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20081231 출원 번호 : 1020080137859 공고 연월일 : 20111214 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20111130 청구범위의 항수 : 8 유별 : B82B 3/00 발명의 명칭 : 다원계 나노선 제조방법 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
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1 |
(권리자) 고려대학교 산학협력단 서울특별시 성북구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 178,500 원 | 2011년 12월 06일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 151,200 원 | 2014년 08월 25일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 151,200 원 | 2015년 10월 30일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 151,200 원 | 2016년 09월 28일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 282,800 원 | 2017년 10월 30일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 202,000 원 | 2018년 10월 25일 | 납입 |
제 9 년분 | 금 액 | 202,000 원 | 2019년 10월 17일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2008.12.31 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0908846-29 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2009.06.09 | 수리 (Accepted) | 4-1-2009-5111177-32 |
3 | [출원서등 보정]보정서 | 2009.08.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0485433-66 |
4 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2010.08.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2010-5149278-93 |
5 | 의견제출통지서 | 2011.01.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0047091-98 |
6 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2011.03.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0216355-19 |
7 | [명세서등 보정]보정서 | 2011.04.25 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0307838-72 |
8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2011.04.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0307787-31 |
9 | 등록결정서 | 2011.11.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0708685-79 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.02.11 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5018243-16 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.04.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5049934-62 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.10.10 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5210941-09 |
기술정보가 없습니다 |
---|
과제고유번호 | 1345161991 |
---|---|
세부과제번호 | 과C6A2001 |
연구과제명 | 첨단부품소재사업단 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 고려대학교 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 200603~201302 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
과제고유번호 | 1345071051 |
---|---|
세부과제번호 | 과C6A2001 |
연구과제명 | 첨단부품소재사업단 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국학술진흥재단 |
연구주관기관명 | 고려대학교 |
성과제출연도 | 2008 |
연구기간 | 200603~201302 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | 기타 |
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