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기판상에 양자점을 배열하는 방법에 있어서, 상기 나노입자 농도의 콜로이드 용액이 담긴 욕을 상승시켜 상기 욕에 기판이 투입되는 단계 ; 일정한 각도 및 속도로 상기 욕이 하강하여 콜로이드 용액 박막을 기판에 코팅하는 단계로 이루어지는 것을 특징을 하는 양자점의 배열 방법
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제1항에 있어서, 상기 코팅된 기판에 자기장 또는 전기장을 가하여 양자점이 임의로 조절되는 것을 특징으로 하는 양자점의 배열 방법
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제1항에 있어서, 상기 기판의 각도는 0°~ 90°임을 특징으로 하는 양자점의 배열 방법
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제1항에 있어서, 상기 기판의 각도가 90°일 때 상기 용액의 기판상 흐름속도는 0
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제1항에 있어서, 상기 기판의 각도가 30°일 때 상기 상기 용액의 기판상 흐름속도 0
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제1항에 있어서, 상기 콜로이드 욕이 상승하여 상기 기판이 콜로이드 용액에 투입되는 속도는 0
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제1항에 있어서, 용매로서 끊는점이 70℃ 이상인 용매를 사용하는 것을 특징으로 하는 양자점의 배열 방법
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제7항에 있어서, 용매로서 옥탄, 데칸, 도데칸을 사용하는 것을 특징으로 하는 양자점의 배열 방법
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제1항에 있어서, 상기 코팅된 기판은 가열되어 코팅된 용액의 증발속도를 증가시키는 것을 특징으로 하는 양자점의 배열 방법
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제1항에 있어서, 용매로서 옥탄을 사용하고, 콜로이드 욕의 하강하여 기판이 끌어올려지는 속도가 0
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제1항에 있어서, 공정 중 분위기를 불활성기체 또는 불활성기체/용매가스를 사용하는 것을 특징으로 하는 양자점의 배열방법
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기판상에 양자점을 균일하게 배열하는 장치에 있어서, 나노입자 농도의 콜로이드 용액을 담는 욕과, 상기 욕을 담고 상하로 움직이는 저장조와, 상기 욕을 상하로 움직도록 하는 모우터와, 기판 홀더 위에 장착되어 기판의 각도를 조절하는 로테이터와, 상기 욕 옆에 위치하여 기판상의 코팅된 용액을 가열수단과, 로테이터 상부에 위치하여 자기장 또는 전기장을 가할 수 있는 서플라이어로 구성됨을 특징으로 하는 양자점을 균일하게 배열하는 장치
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