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나노와이어의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015160411
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 다조성 나노와이어 및 이의 제조방법이 제공된다. 미세 유체 채널(microfluidic channel)로 복수의 수지들을 공급하고, 공급된 수지들을 광에 노출시켜 나노 와이어를 형성한다.
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC H01L 21/02603(2013.01) H01L 21/02603(2013.01)
출원번호/일자 1020080084082 (2008.08.27)
출원인 재단법인서울대학교산학협력재단
등록번호/일자 10-1061966-0000 (2011.08.29)
공개번호/일자 10-2010-0025366 (2010.03.09) 문서열기
공고번호/일자 (20110905) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.08.27)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 권성훈 대한민국 서울특별시 관악구
2 정수은 대한민국 서울특별시 강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김태홍 대한민국 서울특별시 서대문구 충정로 ** (충정로*가, 풍산빌딩) **층(리인터내셔널 특허법률사무소)
2 신정건 대한민국 부산광역시 연제구 법원로**, ,****호 (거제동, 정림빌딩)(특허법인 티앤아이(부산분사무소))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.08.27 수리 (Accepted) 1-1-2008-0612113-73
2 보정요구서
Request for Amendment
2008.09.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0109984-30
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2008.10.01 수리 (Accepted) 1-1-2008-0691805-34
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.08.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0385236-15
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2010.11.01 수리 (Accepted) 1-1-2010-0710921-72
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2010-0789910-09
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.11.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0789907-61
8 등록결정서
Decision to grant
2011.05.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0294925-98
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.08.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5100909-62
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2015-5036045-28
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
나노와이어(polymeric nanostructure)를 제조하는 방법으로서, 복수의 가지점들을 갖는 유체 네트워크를 통해 복수의 수지들을 흘려주어, 상기 복수의 수지들이 층류를 형성하도록 하는 단계; 유체 채널(microfluidic channel) 내로 상기 층류를 형성한 복수의 수지들을 공급하는 단계; 상기 층류를 형성한 복수의 수지들이 상기 유체 채널을 통해 흐르는 동안 상기 층류를 형성한 복수의 수지들을 광에 노출시켜, 상기 층류를 형성한 복수의 수지들로부터 이광자 흡수(TPA)에 의해 중합된 나노와이어를 제조하는 단계 를 포함하는, 나노와이어 제조 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 복수의 수지들은 서로 다른 조성을 갖는, 나노와이어 제조 방법
3 3
제2항에 있어서, 상기 서로 다른 조성은 p형 실리콘 및 n형 실리콘을 포함하는, 나노와이어 제조 방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 복수의 수지들은, 광 개시제(photo-initiator)와 함께, 우레탄 아크릴산 모노머, 또는 우레탄 아크릴산 올리고머, 또는 둘 다를 포함하는, 나노와이어 제조 방법
5 5
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 나노와이어를 제조하는 단계는, 소정의 노출 패턴을 갖는 상기 광에 상기 층류를 형성한 복수의 수지들을 노출시키는 단계를 포함하는, 나노와이어 제조 방법
6 6
제5항에 있어서, 상기 나노와이어를 제조하는 단계는, 상기 유체 채널의 폭 내에서 상기 소정의 노출 패턴을 갖는 상기 광을 상하로 이동시키는 단계를 더 포함하는, 나노와이어 제조 방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 층류를 형성한 복수의 수지들은 농도 구배(concentration gradient)를 갖는 것인, 나노와이어 제조 방법
8 8
나노와이어(nanowires)를 제조하는 방법으로서, 복수의 가지점들을 갖는 유체 네트워크를 통해 복수의 수지들을 흘려주어, 상기 복수의 수지들이 층류를 형성하도록 하는 단계; 유체 채널을 통해 상기 층류를 형성한 복수의 수지들을 계속적으로 흘려주는 단계; 및 나노와이어를 제조하기 위하여, 이광자 흡수(two-photon absorption; TPA)에 의해 상기 층류를 형성한 복수의 수지들 중 적어도 일부분을 경화시키기 위해 상기 유체 채널을 통해 흐르는 상기 층류를 형성한 복수의 수지들을 광으로 조사하는 단계 를 포함하는, 나노와이어 제조 방법
9 9
제8항에 있어서, 상기 층류를 형성한 복수의 수지들은 농도 구배(concentration gradient)를 갖는 것인, 나노와이어 제조 방법
10 10
제8항에 있어서, 상기 유체 채널을 통해 흐르는 상기 층류를 형성한 복수의 수지들의 적어도 일부분은 소정의 노출 패턴을 갖는 상기 광으로 조사되는, 나노와이어 제조 방법
11 11
제10항에 있어서, 상기 소정의 노출 패턴은 점 모양인, 나노와이어 제조 방법
12 12
제10항 또는 제11항에 있어서, 상기 소정의 노출 패턴의 상기 광은 상기 유체 채널의 폭 내에서 상하로 이동하는, 나노와이어 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.