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전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치에 있어서,고분자용액을 전기방사(electrospinning)하는 실린지(syringe)부;상기 실린지부의 하부에 이격되어 설치되며, 상기 실린지부에서 방사된 섬유가 배열되어 섬유네트를 형성하고, 전도성 또는 비전도성의 소재로 형성되며, 제1전극과 제2전극을 구비하고, 프레임의 형상인 프레임부; 및상기 프레임부를 지지하도록 설치되며, 상기 프레임부를 상하이동 및 회전 운동시키고, 평행한 2개의 전극 형상인 지그부전극을 구비하는 지그(jig)부;를 포함하고,상기 프레임부가 전도성 소재로 형성되는 경우, 평행하게 설치된 2개의 전극으로 구성되는 상기 제1전극에 전기를 공급하여 전기장이 일정한 방향으로 형성됨으로써 상기 프레임부에 상기 나노섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 형성되며,상기 프레임부가 비전도성 소재로 형성되는 경우, 상기 지그부전극에 전기를 공급하여 전기장이 일정한 방향으로 형성됨으로써 상기 프레임부에 상기 나노섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 형성되는 것을 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치
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청구항1에 있어서,상기 지그부는, 상기 프레임부가 상하이동 또는 회전 운동하는 경우, 컬렉터(collector) 기능을 수행하는 것을 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치
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청구항1에 있어서,상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 생성하는 증착부를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치
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청구항5에 있어서,상기 증착물질은, 금(Au), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe), 마그네슘(Mg), 망간(Mn), 니켈(Ni), 타이타늄(Ti), 아연(Zn), 납(Pb), 바나듐(V), 코발트(Co), 어븀(Er), 칼슘(Ca), 홀뮴(Ho), 사마륨(Sm), 스칸듐(Sc), 터븀(Tb), 몰리브덴(Mo) 및 백금(Pt)으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 금속인 것을 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치
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청구항5에 있어서,상기 증착물질은 ITO(Indium tin oxide), IZO(Indium zinc oxide), SnO2, ZnO, AZO(Aluminium zinc oxide), IGZO(Indium gallium zinc oxide), AZTO(Aluminium zinc tin oxide), GZO(Gallium zinc oxide), ATO(Antimony tin oxide), ATO(Antimony tin oxide), ZTO(zinc tin oxide) 및 FTO(Fluorine-doped tin oxide)로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 산화물반도체인 것을 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치
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청구항5에 있어서,상기 나노구조체를 기판에 전사시키는 전사부를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치
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청구항8에 있어서,상기 기판은, 필름 형태인 것을 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치
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청구항8에 있어서,상기 기판은, 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리우레탄, 폴리에터 술폰(PES) 및 폴리스타이렌(PS)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 물질로 형성되는 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치
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청구항1의 제조장치를 이용한 나노구조체 필름 제조방법에 있어서,(ⅰ) 상기 실린지부로부터 상기 프레임부로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 섬유패턴을 형성하는 단계; (ⅱ) 상기 실린지부로부터 상기 프레임부로 고분자용액을 2차로 전기방사함으로써 섬유적층을 수행하여 상기 섬유네트를 형성하는 단계;(ⅲ) 상기 (ⅱ)단계의 상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 형성하는 단계; 및(ⅳ) 상기 (ⅲ)단계의 상기 나노구조체를 기판에 전사하여 나노구조체필름을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법
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청구항1의 제조장치를 이용한 나노구조체 필름 제조방법에 있어서,(ⅰ) 상기 실린지부로부터 상기 프레임부로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 부정형섬유층을 형성하는 단계; (ⅱ) 상기 실린지부로부터 상기 프레임부로 고분자용액을 2차로 전기방사함으로써, 상기 부정형섬유층 상에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 섬유패턴을 형성하여 상기 섬유네트를 형성하는 단계;(ⅲ) 상기 (ⅱ)단계의 상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 형성하는 단계; 및(ⅳ) 상기 (ⅲ)단계의 상기 나노구조체를 기판에 전사하여 나노구조체필름을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법
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청구항1의 제조장치를 이용한 나노구조체 필름 제조방법에 있어서,(ⅰ) 상기 실린지부로부터 상기 제1전극으로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 상기 제1전극에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 섬유패턴을 형성하는 단계; (ⅱ) 상기 제1전극에 상기 제2전극이 결합하여 상기 프레임부를 구성한 후, 상기 섬유패턴이 형성된 위로 상기 실린지부로부터 고분자용액을 2차로 전기방사함으로써 섬유적층을 수행하여 섬유네트를 형성하는 단계; (ⅲ) 상기 (ⅱ)단계의 상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 형성하는 단계; 및(ⅳ) 상기 (ⅲ)단계의 상기 나노구조체를 기판에 전사하여 나노구조체필름을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법
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청구항3의 제조장치를 이용한 나노구조체 필름 제조방법에 있어서, (ⅰ) 상기 실린지부로부터 상기 지그부로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 상기 프레임부에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 섬유패턴을 형성하는 단계; (ⅱ) 상기 지그부가 상기 프레임부를 회전시키고, 상기 실린지부로부터 상기 지그부로 고분자용액을 2차로 전기방사함으로써, 상기 섬유패턴 상에 섬유가 일정한 간격이며 다른 방향으로 배열되게 하여 상기 섬유네트를 형성하는 단계;(ⅲ) 상기 (ⅱ)단계의 상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 형성하는 단계; 및(ⅳ) 상기 (ⅲ)단계의 상기 나노구조체를 기판에 전사하여 나노구조체필름을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법
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청구항14에 있어서,상기 프레임부는, 비전도성인 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법
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청구항3의 제조장치를 이용한 나노구조체 필름 제조방법에 있어서, (ⅰ) 상기 실린지부로부터 상기 지그부로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 상기 지그부에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 제1섬유패턴을 형성하는 단계; (ⅱ) 상기 지그부가 상기 프레임부를 상승 이동시키고 상기 프레임부와 상기 제1섬유패턴을 접촉시켜, 상기 프레임부에 섬유패턴이 형성되도록 하는 단계;(ⅲ) 상기 지그부가 상기 프레임부를 회전 및 하강 이동시키고, 상기 실린지부로부터 상기 지그부로 고분자용액을 2차로 전기방사하여 제2섬유패턴을 형성시킨 후, 상기 지그부가 상기 프레임부를 상승 이동시키고 상기 프레임부와 상기 제2섬유패턴을 접촉시켜, 상기 프레임부에 상기 섬유네트를 형성하는 단계;(ⅳ) 상기 (ⅲ)단계의 상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 형성하는 단계; 및(ⅴ) 상기 (ⅳ)단계의 상기 나노구조체를 기판에 전사하여 나노구조체 필름을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법
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청구항16에 있어서,상기 프레임부는, 비전도성인 일부위를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법
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