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전계효과트랜지스터 제작을 위한 패턴화된 이황화몰리브덴 박막층 형성 장치 및 패턴화된 이황화 몰리브덴 박막층을 이용한 전계 효과 트랜지스터 제작 방법

  • 기술번호 : KST2019011530
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 패턴화된 이황화 몰리브덴 박막층을 이용한 전계효과트랜지스터 제작 방법으로, 전계 효과 트랜지스터를 위한 개구 패턴이 형성된 쉐도우 마스크를 제작하는 단계와, 상기 쉐도우 마스크를 기판에 배치시키는 단계와, 증착 공정을 수행하여 상기 기판상에 상기 개구 패턴을 통과하는 이황화몰리브덴의 박막 패턴을 형성하는 단계와, 상기 박막 패턴 상에 전극 마스크를 이용하여 전극을 형성하는 단계를 포함한다.
Int. CL H01L 21/335 (2006.01.01) H01L 29/78 (2006.01.01) H01L 21/20 (2006.01.01)
CPC H01L 29/41733(2013.01) H01L 29/41733(2013.01) H01L 29/41733(2013.01) H01L 29/41733(2013.01)
출원번호/일자 1020140131731 (2014.09.30)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1567579-0000 (2015.11.03)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20151120) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.09.30)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이탁희 대한민국 서울특별시 관악구
2 박완서 대한민국 서울특별시 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 신지 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **, *층 ***호실(역삼동, 청원빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.09.30 수리 (Accepted) 1-1-2014-0936395-37
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.06.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0379165-69
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.08.05 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0761081-92
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.08.05 수리 (Accepted) 1-1-2015-0761082-37
7 등록결정서
Decision to grant
2015.10.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0738096-83
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
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번호 청구항
1 1
전계 효과 트랜지스터를 위한 개구 패턴이 형성된 세라믹 쉐도우 마스크를 제작하는 단계와, 상기 세라믹 쉐도우 마스크를 기판에 배치시키는 단계와, 증착 공정을 수행하여 이황화 몰리브덴이 상기 개구 패턴을 통과하여 상기 기판에 증착되어 단일층 박막 패턴을 형성하는 단계와, 상기 단일층 박막 패턴 상에 전극 마스크를 이용하여 전극을 형성하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 패턴화된 이황화 몰리브덴 박막층을 이용한 전계효과트랜지스터 제작 방법
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삭제
3 3
제 1항에 있어서, 상기 형성하는 단계는상기 세라믹 쉐도우 마스크가 배치된 기판을 석영 튜브에 삽입시키는 단계와, 삼산화 몰리브덴() 및 황()을 각각 상이한 온도로 가열하는 단계와, 상기 황()이 배치된 위치에서 상기 삼산화 몰리브덴()이 배치된 위치로 흐르도록 아르곤을 주입하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 패턴화된 이황화 몰리브덴 박막층을 이용한 전계 효과 트랜지스터 제작 방법
4 4
제 3항에 있어서, 상기 형성하는 단계는상기 삼산화 몰리브덴()의 양을 10mg 이하로 조절하여 이황화몰리브덴 단일층 박막을 형성함을 특징으로 하는 패턴화된 이황화 몰리브덴 박막층을 이용한 전계 효과 트랜지스터 제작 방법
5 5
제 3항에 있어서,상기 삼산화 몰리브덴()은 섭씨 700도까지 가열되고, 상기 황()은 섭씨 200도까지 가열됨을 특징으로 하는 패턴화된 이황화 몰리브덴 박막층을 이용한 전계 효과 트랜지스터 제작 방법
6 6
내부에 진공관을 형성하는 석영 튜브와, 상기 석영 튜브의 상부에 삽입되는 전계 효과 트랜지스터를 위한 개구 패턴이 형성된 세라믹 쉐도우 마스크가 부착된 기판과, 상기 기판의 하부 중앙에 배치되어 삼산화 몰리브덴()을 수용하는 도가니와,상기 도가니의 삼산화 몰리브덴()을 가열하는 용광로와, 황()을 상기 용광로에서의 온도와는 상이한 온도로 가열하는 전기 히터와, 상기 황()의 위치에서 상기 삼산화 몰리브덴()의 위치의 방향으로 아르곤이 흐르도록 주입하는 주입부를 포함하되,상기 황()과 상기 삼산화 몰리브덴()이 결합되어, 이황화 몰리브덴 가스가 합성되고, 상기 아황화 몰리브덴 가스가 상기 세라믹 쉐도우 마스크를 통과하여 상기 기판에 증착되어 단일층 박막 패턴을 형성함을 특징으로 하는 패턴화된 이황화 몰리브덴 박막층 형성 장치
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제 6항에 있어서, 상기 삼산화 몰리브덴()은그 양이 10mg 이하임을 특징으로 하는 패턴화된 이황화 몰리브덴 박막층 형성장치
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제 6항에 있어서,상기 삼산화 몰리브덴()은 섭씨 700도까지 가열되고, 상기 황()은 섭씨 200도까지 가열됨을 특징으로 하는 패턴화된 이황화 몰리브덴 박막층 형성장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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1 교육과학기술부 서울대학교 기초연구사업 (리더연구자지원사업) 분자나노소자 창의연구단