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전압 프로그래밍을 기반으로 한 원자간 인력 현미경에의한 나노 전사법

  • 기술번호 : KST2015158980
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 원자간 인력 현미경(atomic force microscope : AFM)을 이용한 나노 전사법(nano-patterning method)에 관한 것으로, 기존 AFM의 구조를 변형시키지 않고, 전위차계(potentiometer)를 이용하여 복잡한 2차원 또는 3차원 패턴을 반복적이면서도 빠르게 구현하는 방법을 제공하는 것이 목적이다. 본 발명의 원자간 인력 현미경을 이용한 나노전사 방법은, 전사하고자 하는 2차원 또는 3차원 대상물을 픽셀(pixel)로 분할, 스캔하여 픽셀마다 인가전압을 결정하는 단계(A)와, (A)단계에서 얻어진 픽셀 단위로 결정된 인가전압 데이터를 시간에 대한 인가전압의 시그널로 전환하여 프로그램화 하는 단계(B)와, (B)단계에서 시간의 함수로 프로그램된 전압 패턴을 전위차계를 통하여 AFM에 인가하여 이미지를 구현하는 단계(C)와, (C)단계에서 양극산화반응을 통해 구현된 양각 패턴의 이미지를 음각 패턴으로 전환하거나 양각 패턴을 보다 뚜렷하게 구현하기 위하여 불산이나 인산으로 에칭하는 단계(D)를 포함하며, 본 발명에 의하면 광전사법보다 더욱 미세한 나노구조물을 구축할 수 있다. 원자간 힘 현미경, 원자간 인력 현미경, AFM, 전사, 나노 패터닝, 양극산화, 양각 패턴, 음각 패턴
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) G12B 21/08 (2011.01) G01Q 60/24 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01)
CPC B82B 3/0014(2013.01) B82B 3/0014(2013.01) B82B 3/0014(2013.01)
출원번호/일자 1020040045942 (2004.06.21)
출원인 재단법인서울대학교산학협력재단
등록번호/일자 10-0621790-0000 (2006.09.01)
공개번호/일자 10-2005-0120842 (2005.12.26) 문서열기
공고번호/일자 (20060914) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.06.21)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이종협 대한민국 서울 강남구
2 김영훈 대한민국 전라남도 순천시
3 최인희 대한민국 서울특별시 동작구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 강연승 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***(역삼동) 성지하이츠*차빌딩 ****호(아이피포스트특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2004.06.21 수리 (Accepted) 1-1-2004-0266294-07
2 출원인변경신고서
Applicant change Notification		 2004.08.07 수리 (Accepted) 1-1-2004-5124421-52
3 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 2004.10.25 수리 (Accepted) 1-1-2004-5168156-77
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2005.09.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2005.10.12 수리 (Accepted) 9-1-2005-0063556-02
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2006.04.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0248907-91
7 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2006.06.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0421168-79
8 의견서
Written Opinion		 2006.06.16 수리 (Accepted) 1-1-2006-0421162-06
9 등록결정서
Decision to grant		 2006.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0448520-61
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2008-5015497-73
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.08.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5100909-62
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2015-5036045-28
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
전사하고자 하는 2차원 또는 3차원 대상물을 픽셀(pixel)로 분할, 스캔하여 픽셀마다 인가전압을 결정하는 단계(A)와, (A)단계에서 얻어진 픽셀 단위로 결정된 인가전압 데이터를 시간에 대한 인가전압의 시그널로 전환하여 프로그램화 하는 단계(B)와, (B)단계에서 시간의 함수로 프로그램된 전압 패턴을 전위차계(potentiometer)를 통하여 AFM에 인가하여 이미지를 구현하는 단계(C)와, (C)단계에서 양극산화반응을 통해 구현된 양각 패턴의 이미지를 음각 패턴으로 전환하거나 양각 패턴을 보다 뚜렷하게 구현하기 위하여 불산이나 인산으로 에칭하는 단계(D)를 포함하는 원자간 인력 현미경을 이용한 나노전사 방법
2 2
제1항에 있어서, (A)단계에서 전사하고자 하는 대상물을 픽셀로 분할, 스캔함에 있어서, 대상물을 1,024, 4,096, 16,384 또는 65,536 픽셀로 분할하여 스캔하는 것을 특징으로 하는 원자간 인력 현미경을 이용한 나노전사 방법
3 3
제1항에 있어서, (C)단계에서 AFM으로 이미지를 구현함에 있어서, 탐침 홀더와 전도성 탐침 사이, 시료 홀더와 시료 사이를 비전도성 물질로 차폐시킨 탐침홀더를 사용하는 것을 특징으로 하는 원자간 인력 현미경을 이용한 나노전사 방법
4 4
제1항에 있어서, (C)단계를 상대습도 30 ~90%에서 수행하는 것을 특징으로 하는 원자간 인력 현미경을 이용한 나노전사 방법
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제1항에 있어서, (C)단계를 상대습도 30 ~90%에서 수행하는 것을 특징으로 하는 원자간 인력 현미경을 이용한 나노전사 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.