맞춤기술찾기

이전대상기술

이산화티탄 입자 표면에 나노크기의 다공성 산화물코팅층을 형성하는 방법 및 그에 의해 제조되는 이산화티탄분말 및 필름

  • 기술번호 : KST2015159128
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노크기의 미세기공을 갖는 금속산화물 나노층을 이산화티탄입자 또는 막에 코팅하여 광활성을 증진시키는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 이산화티탄에 초미세 나노 기공을 갖는 다공성 산화물 나노층을 코팅하는 방법에 있어서, 금속염을 포함하는 용액을 제공하는 단계, 상기 금속염 용액에 이산화티탄 분말을 제공하는 단계, 상기 금속염을 수화시켜 상기 이산화티탄 분말 표면에 수화물을 코팅하는 단계 및 상기 이산화티탄 분말 상에 코팅된 수화물로부터 산화물을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 형성된 다공성 산화물 코팅층은 이산화티탄 입자의 비표면적을 증가시켜 수분이나 염료 분자의 흡착량을 증가시키며, 결과적으로 TiO2의 광촉매 특성 내지는 염료 감응형 연료 전지 특성을 향상시킨다.광촉매, 염료감응형 태양전지, 다공성, 나노 기공, 이산화티탄, 토포텍틱 상전이
Int. CL C01G 23/047 (2011.01) B01J 21/06 (2011.01) C01G 23/053 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01)
CPC C01G 23/047(2013.01) C01G 23/047(2013.01) C01G 23/047(2013.01)
출원번호/일자 1020050027221 (2005.03.31)
출원인 재단법인서울대학교산학협력재단
등록번호/일자 10-0643054-0000 (2006.10.31)
공개번호/일자 10-2006-0104782 (2006.10.09) 문서열기
공고번호/일자 (20061110) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.03.31)
심사청구항수 16

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 정현석 대한민국 서울 광진구
2 홍국선 대한민국 서울 서초구
3 김정렬 대한민국 경기 성남시 분당구
4 김진영 대한민국 서울 서초구
5 박종성 대한민국 경기 부천시 원미구
6 이상욱 대한민국 서울 관악구
7 김동욱 대한민국 서울 강남구
8 노준홍 대한민국 서울 구로구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인충정 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로***,*층(역삼동,성보역삼빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2005-0172161-41
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.04.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.05.11 수리 (Accepted) 9-1-2006-0028291-77
4 등록결정서
Decision to grant
2006.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0443524-82
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2008-5015497-73
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.08.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5100909-62
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2015-5036045-28
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
이산화티탄에 초미세 나노 기공을 갖는 다공성 산화물 나노층을 코팅하는 방법에 있어서,금속염을 포함하는 용액을 제공하는 단계;상기 금속염 용액에 이산화티탄 분말을 제공하는 단계;상기 금속염을 수화시켜 상기 이산화티탄 분말 표면에 수화물을 코팅하는 단계; 및상기 이산화티탄 분말 상에 코팅된 수화물로부터 산화물을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
2 2
이산화티탄에 초미세 나노기공을 갖는 다공성 산화물 나노층을 코팅하는 방법에 있어서,금속염을 포함하는 용액을 제공하는 단계;상기 금속염을 수화시켜 수화물을 형성하는 단계;상기 용액에 이산화티탄 분말을 제공하여 상기 수화물을 상기 이산화티탄 분말 표면에 코팅하는 단계; 및상기 이산화티탄 분말 상에 코팅된 상기 수화물로부터 산화물을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
3 3
이산화티탄에 초미세 나노기공을 갖는 다공성 산화물 나노층을 코팅하는 방법에 있어서,금속염을 포함하는 용액을 제공하는 단계;상기 금속염 용액에 이산화티탄 필름을 침지하는 단계;상기 금속염을 수화시켜 상기 이산화티탄 필름 표면에 수화물을 코팅하는 단계; 및상기 이산화티탄 필름 상에 코팅된 상기 수화물로부터 산화물을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
4 4
이산화티탄에 초미세 나노기공을 갖는 다공성 산화물 나노층을 코팅하는 방법에 있어서,금속염을 포함하는 용액을 제공하는 단계;상기 금속염을 수화시켜 수화물을 형성하는 단계;상기 용액에 이산화티탄 필름을 침지하여 상기 이산화티탄 필름 표면에 수화물을 코팅하는 단계; 및상기 이산화티탄 필름 상에 코팅된 상기 수화물로부터 산화물을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
5 5
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수화물은 수산화마그네슘(Mg(OH)2), 수산화란타늄(La(OH)3), 수산화니켈(Ni(OH)2), 수산화칼슘(Ca(OH)2), 수산화철(FeOOH), 수산화알루미늄(Al(OH)3), 수산화알루미늄(AlOOH) 및 수산화코발트(Co(OH)2)를 포함하는 군에서 선택된 최소한 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
6 6
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 금속염은 탄산염, 질산염, 황산염, 암모늄 염, 클로라이드, 유기산 염 및 알콕사이드를 포함하는 군에서 선택된 최소한 1종의 염을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
7 7
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 산화물은 산화마그네슘(MgO), 산화칼슘(CaO), 산화알루미늄(Al2O3), 산화철(Fe2O3), 산화란타늄(La2O3), 산화니켈(NiO), 산화코발트(CoO)에서 선택된 최소한 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
8 8
제7항에 있어서,형성된 상기 산화물의 함량이 이산화티탄 대비 0
9 9
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 수화물은 5 ∼ 90 ℃의 온도에서 형성되는 것을 특징으로 하는 방법
10 10
두께 10 nm이하이고 표면 등전위점이 염기성인 다공성 산화물층을 표면에 포함하는 이산화티탄 입자로 구성되는 이산화티탄 분말
11 11
제10항에 있어서,상기 다공성 산화물층을 형성하는 산화물은 산화마그네슘(MgO), 산화칼슘(CaO), 산화알루미늄(Al2O3), 산화철(Fe2O3), 산화란타늄(La2O3), 산화니켈(NiO) 및 산화코발트(CoO)로 이루어진 군에서 선택된 최소한 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 이산화티탄 분말
12 12
제11항에 있어서,상기 다공성 산화물층은 금속 수화물로부터 토포텍틱 상전이된 것을 특징으로 하는 이산화티탄 분말
13 13
기판상에 형성되며, 두께 10 nm이하이고 표면 등전위점이 염기성인 다공성 산화물층을 표면에 포함하는 이산화티탄 필름
14 14
제13항에 있어서,상기 산화물층을 형성하는 산화물은 산화마그네슘(MgO), 산화칼슘(CaO), 산화알루미늄(Al2O3), 산화철(Fe2O3), 산화란타늄(La2O3), 산화니켈(NiO), 산화코발트(CoO)로 이루어진 군에서 선택된 최소한 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 이산화티탄 필름
15 15
제13항에 있어서,상기 산화물층의 기공은 금속 수화물로부터의 토포텍틱 상전이에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 이산화티탄 필름
16 16
기판상에 형성되며, 두께 10 nm이하이고 표면 등전위점이 염기성인 다공성 산화물층을 표면에 포함하는 이산화티탄 입자로 구성되는 이산화티탄 필름
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR100645066 KR 대한민국 FAMILY
2 US20060223700 US 미국 FAMILY
3 US20060289938 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2006223700 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US2006289938 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.