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실리카 외피층과, 상기 실리카 외피층에 내포된 무기계 나노입자 그리고 상기 실리카 외피층을 관통하는 직경 2nm 내지 10nm의 세공을 갖는, 무기계 나노입자가 내포된 메조 세공 실리카 나노입자
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제 1항에 있어서, 상기 실리카 나노입자의 직경이 50nm 내지 250nm 인 것을 특징으로 하는, 무기계 나노입자가 내포된 메조 세공 실리카 나노입자
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제 1항에 있어서, 상기 세공의 직경이 2nm 내지 5nm 인 것을 특징으로 하는, 무기계 나노입자가 내포된 메조 세공 실리카 나노입자
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제 1항에 있어서, 상기 무기계 나노입자가, 마그네타이트(Fe3O4), 마그헤마이트(gamma-Fe2O3), 코발트 페라이트(CoFe2O4), 망간 페라이트(MnFe2O4), 아이언-플래티늄 합금(Fe-Pt alloy), 코발트-플래티늄 합금(Co-Pt alloy) 그리고 코발트(Co)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 그들의 혼합물로 이루어진 자성체 나노입자인 것을 특징으로 하는, 무기계 나노입자가 내포된 메조 세공 실리카 나노입자
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제 1항에 있어서, 상기 무기계 나노입자가, 카드뮴 셀레나이드(CdSe), 카드뮴 셀레나이드/징크 설파이드 코어셀(CdSe/ZnS core/shell), 징크 설파이드(ZnS), 카드뮴 설파이드(CdS), 인듐 알세나이드(InAs), 인듐 포스파이드(InP) 그리고 인듐 알세나이드포스파이드/인듐 포스파이드/징크 셀레나이드(InAsxP1-x/InP/ZnSe)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 그들의 혼합물로 이루어진 반도체 나노입자인 것을 특징으로 하는, 무기계 나노입자가 내포된 메조 세공 실리카 나노입자
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제 1항에 있어서, 상기 무기계 나노입자가, 금(Au), 팔라듐(Pd) 그리고 백금(Pt)으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 그들의 혼합물로 이루어진 금속 나노입자인 것을 특징으로 하는, 무기계 나노입자가 내포된 메조 세공 실리카 나노입자
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제 1항에 있어서, 상기 무기계 나노입자가, 자성체 나노입자와 반도체 나노입자의 혼합물인 것을 특징으로 하는, 무기계 나노입자가 내포된 메조 세공 실리카 나노입자
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제 1항에 있어서, 상기 메조 세공 실리카 나노입자가 약물 운반체로서 사용되는 것임을 특징으로 하는, 무기계 나노입자가 내포된 메조 세공 실리카 나노입자
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제 1항에 있어서, 상기 메조 세공 실리카 나노입자가 서방형 약물 운반체로서 사용되는 것임을 특징으로 하는, 무기계 나노입자가 내포된 메조 세공 실리카 나노입자
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제 1항에 있어서, 상기 메조 세공 실리카 나노입자가 외표면에 약물이 흡착된 약학제형 운반체로서 사용되는 것임을 특징으로 하는, 무기계 나노입자가 내포된 메조 세공 실리카 나노입자
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i) 유기 용매에 분산된 소수성 무기계 나노입자를 계면활성제가 용해된 수용액에 분산시켜서, 계면활성제로 둘러싸인 무기계 나노입자의 수분산액을 제조하는 단계와 ; 그리고 ii) 상기 제조된 수분산액에 실리카 전구체를 넣어 상기 무기계 나노입자에 메조 세공 실리카로 된 외피층을 형성시키는 단계를 포함하는, 무기계 나노입자가 내포된 메조 세공 실리카 나노입자 제조 방법
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제 11항의 방법에 있어서, 상기 ii)단계의 실리카 전구체는 TEOS (tetraethyl orthosilicate), TMOS (tetramethyl orthosilicate), TBOS (tetrabutyl orthosilicate), SiCl4 (tetrachlorosilane), 소듐 실리케이트(sodium silicate)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 그들의 혼합물인 것을 특징으로 하는, 무기계 나노입자가 내포된 메조 세공 실리카 나노입자 제조 방법
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제 11항의 방법에 있어서, 상기 ii)단계에서, 실리카 졸-겔 반응의 촉매로서, NH4OH, NaOH의 염기성 화합물들과 HCl, HNO3 의 산성 화합물들로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 선택하는 것을 특징으로 하는, 무기계 나노입자가 내포된 메조 세공 실리카 나노입자 제조 방법
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제 11항의 방법에 있어서, 상기 ii)단계에서 분산안정화제를 첨가하는 것을 특징으로 하는, 무기계 나노입자가 내포된 메조 세공 실리카 나노입자 제조 방법
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제 14항의 방법에 있어서, 상기 분산안정화제가 에틸아세테이트인 것을 특징으로 하는, 무기계 나노입자가 내포된 메조 세공 실리카 나노입자 제조 방법
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제 11항의 방법에 있어서, 상기 i)단계의 계면활성제가, 세틸트리메틸암모늄브로마이드(CTAB), 옥틸트리메틸암모늄브로마이드(OCTAB), 도데실트리메틸암모늄브로마이드(DTAB)와 같은, 8 내지 25개의 탄소로 이루어진 알킬트리메틸암모늄염((CH3)3RX, 여기서 R은 C8 내지 C25의 탄화수소이고 X는 Br, Cl, I이다
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제 11항의 방법에 있어서, 상기 계면활성제가, 알리파틱 아마솔트인 것을 특징으로 하는, 무기계 나노입자가 내포된 메조 세공 실리카 나노입자 제조 방법
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