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휘발 성분이 포함된 다성분 산화물 강유전체 박막의 제조방법

  • 기술번호 : KST2014011450
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 RF 마그네트론 스퍼터링시 스퍼터링이 일어나는 진공 챔버 내의 압력을 200 내지 300 밀리토르(mTorr)로 유지하여 휘발 성분의 손실을 감소시킨 다성분 산화물 강유전체 박막, 특히 비스무트 층상 산화물로 된 강유전체 박막의 제조 방법을 제공한다. 본 발명은 또한 스퍼터링시 타겟과 기판과의 거리를 3 내지 5 cm로 하고 기판을 타겟 중심선에서 벗어나게 위치시켜 우수한 강유전 특성을 부여하는, RF 마그네트론 스퍼터링법을 이용한 강유전체 박막의 제조 방법을 제공한다. 그 밖에도 본 발명은, 스퍼터링시 타겟면에 대한 기판면의 각도를 30°내지 60°로 하여 우수한 강유전 특성을 부여하는, RF 마그네트론 스퍼터링법을 이용한 강유전체 박막의 제조 방법을 제공한다. 강유전체, 마그네트론 스퍼터링, 비스무트 산화물, 다성분 산화물 박막, 휘발 성분, 불휘발성 기억소자
Int. CL H01L 21/8247 (2006.01)
CPC H01L 21/02197(2013.01) H01L 21/02197(2013.01) H01L 21/02197(2013.01)
출원번호/일자 1019990050777 (1999.11.16)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0321561-0000 (2002.01.09)
공개번호/일자 10-2001-0046843 (2001.06.15) 문서열기
공고번호/일자 (20020123) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1999.11.16)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이전국 대한민국 경기도성남시분당구
2 정형진 대한민국 서울특별시동대문구
3 이시형 대한민국 울산광역시울주군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 주성민 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)
2 장수길 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
1999.11.16 수리 (Accepted) 1-1-1999-0149837-46
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
3 등록결정서
Decision to grant
2001.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2001-0337642-79
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
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번호 청구항
1 1

고주파 (RF) 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 다성분 산화물로 된 타겟을 스퍼터링하여 기판 위에 다성분 산화물 박막을 형성시킨 다음 후열처리하여 다성분 산화물 강유전체 박막을 제조하는 방법에 있어서, 스퍼터링이 일어나는 진공 챔버 내의 압력을 200 내지 300 밀리토르(mTorr)로 유지하여 스퍼터링 중 박막의 휘발 성분의 손실을 감소시키는 것을 특징으로 하는 다성분 산화물 강유전체 박막의 제조 방법

2 2

제1항에 있어서, 진공 챔버 내의 압력을 300 mTorr로 유지하는 것을 특징으로 하는 방법

3 3

고주파 (RF) 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 다성분 산화물로 된 타겟을 스퍼터링하여 기판 위에 다성분 산화물 박막을 형성시킨 다음 후열처리하여 다성분 산화물 강유전체 박막을 제조하는 방법에 있어서, 스퍼터링시 타겟과 기판과의 거리를 3 내지 5 cm로 하고 기판을 타겟 중심선에서 벗어나게 위치시키는 것을 특징으로 하는 다성분 산화물 강유전체 박막의 제조 방법

4 4

고주파 (RF) 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 다성분 산화물로 된 타겟을 스퍼터링하여 기판 위에 다성분 산화물 박막을 형성시킨 다음 후열처리하여 다성분 산화물 강유전체 박막을 제조하는 방법에 있어서, 스퍼터링시 타겟면에 대한 기판면의 각도를 30°내지 60°로 하는 것을 특징으로 하는 다성분 산화물 강유전체 박막의 제조 방법

5 5

제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 강유전체 박막이 층상 페로브스카이트 구조를 갖는 비스무트계 다성분 산화물로 되는 것을 특징으로 하는 방법

6 6

제5항에 있어서, 강유전체 박막이 스트론튬-비스무트-탄탈륨 산화물 (SrBi2Ta2O9)로 되는 것을 특징으로 하는 방법

7 7

제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 휘발 성분이 비스무트, 바륨, 스트론튬 및 납 중에서 선택되는 1 종 이상의 원소인 것을 특징으로 하는 방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.