요약 | 본 발명은 등자기영동 기술을 이용하여 미세입자의 자기 자화율을 측정하여 미세입자를 분리하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 등자기영동기술을 이용한 미세입자 분리 장치는 서로 다른 자기 자화율을 갖는 유체와 측정 대상인 미세입자를 미세유체 채널에 주입하여 유체의 자화율 구배를 형성시키고, 채널에 강한 자기장을 인가하여 주입된 미세입자의 거동을 제어함으로써 각 미세입자들이 자기와 같은 자화율을 갖는 유체가 있는 위치로 이동시킨다. 본 발명에 의할 때에 근소한 자화율 차이를 갖는 미세입자의 자화율을 측정하여 분리할 수 있다. 등자기영동, 자기 자화율, 미세유체소자, 랩온어칩 |
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Int. CL | G01N 35/00 (2006.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020070126893 (2007.12.07) |
출원인 | 한국과학기술원 |
등록번호/일자 | 10-0907213-0000 (2009.07.03) |
공개번호/일자 | 10-2009-0059837 (2009.06.11) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20090710) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2007.12.07) |
심사청구항수 | 12 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
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1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
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1 | 박제균 | 대한민국 | 대전시 유성구 |
2 | 강주헌 | 대한민국 | 서울 서대문구 |
3 | 최성용 | 대한민국 | 경기 수원시 장안구 |
4 | 이원혜 | 대한민국 | 부산광역시 부산진구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 이원희 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2007.12.07 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0882470-22 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2008.08.08 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2008.09.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-2008-0057070-32 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2009.01.16 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0021572-91 |
5 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2009.02.26 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2009-0119869-18 |
6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2009.02.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0119870-65 |
7 | 등록결정서 Decision to grant |
2009.07.01 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0278047-92 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
번호 | 청구항 |
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1 |
1 서로 다른 자화율을 갖는 유체들과 소정의 미세입자들이 주입되는 주입구; 상기 주입된 유체들과 상기 주입된 미세입자들이 이동하는 미세유체 채널; 상기 미세유체 채널의 수직방향으로 자기장을 인가하는 자기 에너지원; 및 상기 미세유체 채널을 통과한 미세입자들을 배출하는 배출부를 포함하며, 상기 주입되어 이동하는 유체들은 상기 미세유체 채널 내부에서 자화율 구배되고, 상기 자기 에너지원은 상기 미세유체 채널에 자기장을 형성하여 상기 주입된 미세입자들이 자신과 동일한 자화율을 갖는 유체가 있는 위치로 거동하게 하는 것을 특징으로 하는 등자기영동 기술을 이용한 미세입자 분리 장치 |
2 |
2 제 1 항에 있어서, 상기 서로 다른 자화율을 갖는 유체들과 상기 미세입자들은 동시에 주입되는 것을 특징으로 하는 등자기영동 기술을 이용한 미세입자 분리 장치 |
3 |
3 제 1 항에 있어서, 상기 주입구에 주입되는 유체들과 미세입자들은 상기 미세유체 채널의 중심부 또는 특정 부위로 정렬되어 흐르는 것을 특징으로 하는 등자기영동 기술을 이용한 미세입자 분리 장치 |
4 |
4 제 1 항에 있어서, 상기 미세입자 분리 장치는 상기 자기 에너지원에 의해 인가된 자기장 구배를 증폭하기 위한 강자성체 미세 구조물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 등자기영동 기술을 이용한 미세입자 분리 장치 |
5 |
5 제 1 항에 있어서, 상기 자기 에너지원은 전자석이나 영구자석으로 구성되는 것을 특징으로 하는 등자기영동 기술을 이용한 미세입자 분리 장치 |
6 |
6 제 4 항에 있어서, 상기 강자성체 미세 구조물은 반복적인 돌출 구조로 형성되는 것을 특징으로 하는 등자기영동 기술을 이용한 미세입자 분리 장치 |
7 |
7 제 1 항에 있어서, 상기 배출부는 상기 미세유체 채널에 인가된 자기장에 의해 진행 경로가 변경된 미세입자들이 배출되도록 상기 미세유체 채널보다 폭이 큰 것을 특징으로 하는 등자기영동 기술을 이용한 미세입자 분리 장치 |
8 |
8 서로 다른 자화율을 갖는 유체들과 미세입자들이 주입되는 주입구, 상기 주입된 유체들과 상기 주입된 미세입자들이 이동하는 미세유체 채널, 및 상기 미세유체 채널을 통과한 미세입자를 배출하는 배출부가 일체화되어 형성되는 상층부 고분자 기판; 상기 상층부 고분자 기판의 하부에 형성된 유리 기판; 및 상기 상층부 고분자 기판과 상기 유리 기판 사이에 형성되며, 상기 미세유체 채널 외곽에 형성되는 강자성체 미세 구조물을 포함하여 구성되며, 상기 주입되어 이동하는 유체들은 상기 미세유체 채널 내부에서 자화율 구배되고, 상기 주입된 미세입자들은 자신과 동일한 자화율을 갖는 유체가 있는 위치로 거동하게 되는 등자기영동 기술을 이용하여 미세입자를 분리하는 미세유체 칩 |
9 |
9 제 8 항에 있어서, 상기 고분자 기판은 폴리다이메틸실록산(PDMS), 폴리메틸메타크릴레이트 (PMMA), 폴리아크릴레이트, 폴리카보닐레이트, 폴리사이클릭올레핀, 폴리이미드 및 폴리우레탄으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 고분자인 것을 특징으로 하는 등자기영동 기술을 이용하여 미세입자를 분리하는 미세유체 칩 |
10 |
10 자화율이 서로 다른 유체들을 미세유체 채널에 주입하여 미세유체 채널 내에서 자화율 구배를 형성하는 제 1 단계; 측정 대상인 미세입자들을 상기 미세유체 채널에 주입하는 제 2 단계; 상기 미세유체 채널의 수직 방향으로 자기장을 인가하여 상기 미세입자가 자신과 동일한 자기 자화율을 갖는 유체가 있는 위치로 거동하게 하는 자기장을 인가하는 제 3 단계; 및 상기 미세유체 채널을 통과한 미세입자들의 자화율을 측정하는 제 4 단계를 포함하는 등자기영동 기술을 이용한 미세입자 분리 방법 |
11 |
11 제 10 항에 있어서, 상기 제 1 단계에서 주입되는 유체들과 상기 제 2 단계에서 주입되는 미세입자들은 동시에 상기 미세유체 채널로 주입되는 것을 특징으로 하는 등자기영동 기술을 이용한 미세입자 분리 방법 |
12 |
12 제 10 항에 있어서, 상기 제 2 단계에서 주입되는 미세입자들은 상기 미세유체 채널의 중심부 또는 특정 부위로 정렬되어 흐르는 것을 특징으로 하는 등자기영동 기술을 이용한 미세입자 분리 방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
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순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US08465987 | US | 미국 | FAMILY |
2 | US20100252436 | US | 미국 | FAMILY |
3 | WO2009072763 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
4 | WO2009072763 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US2010252436 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
2 | US8465987 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
3 | WO2009072763 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | DOCDBFAMILY |
4 | WO2009072763 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | DOCDBFAMILY |
국가 R&D 정보가 없습니다. |
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특허 등록번호 | 10-0907213-0000 |
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표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20071207 출원 번호 : 1020070126893 공고 연월일 : 20090710 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20090701 청구범위의 항수 : 12 유별 : G01N 35/00 발명의 명칭 : 등자기영동 기술을 이용한 미세입자 분리 장치 및등자기영동 기술을 이용한 미세입자 분리 방법 존속기간(예정)만료일 : 20160704 |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 256,500 원 | 2009년 07월 06일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 304,000 원 | 2012년 06월 29일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 304,000 원 | 2013년 06월 28일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 212,800 원 | 2014년 06월 30일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 556,000 원 | 2015년 06월 29일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2007.12.07 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0882470-22 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2008.08.08 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 | 2008.09.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-2008-0057070-32 |
4 | 의견제출통지서 | 2009.01.16 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0021572-91 |
5 | [명세서등 보정]보정서 | 2009.02.26 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2009-0119869-18 |
6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2009.02.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0119870-65 |
7 | 등록결정서 | 2009.07.01 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0278047-92 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
기술번호 | KST2014011562 |
---|---|
자료제공기관 | NTB |
기술공급기관 | 한국과학기술원 |
기술명 | 등자기영동 기술을 이용한 미세입자 분리 장치 및 등자기영동 기술을 이용한 미세입자 분리 방법 |
기술개요 |
본 발명은 등자기영동 기술을 이용하여 미세입자의 자기 자화율을 측정하여 미세입자를 분리하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 등자기영동기술을 이용한 미세입자 분리 장치는 서로 다른 자기 자화율을 갖는 유체와 측정 대상인 미세입자를 미세유체 채널에 주입하여 유체의 자화율 구배를 형성시키고, 채널에 강한 자기장을 인가하여 주입된 미세입자의 거동을 제어함으로써 각 미세입자들이 자기와 같은 자화율을 갖는 유체가 있는 위치로 이동시킨다. 본 발명에 의할 때에 근소한 자화율 차이를 갖는 미세입자의 자화율을 측정하여 분리할 수 있다. 등자기영동, 자기 자화율, 미세유체소자, 랩온어칩 |
개발상태 | 기술개발완료 |
기술의 우수성 | |
응용분야 | 미세 종합 분석시스템(μ-TAS : micro-Total AnalysisSystem), 랩온어칩(lab-on-a-chip) |
시장규모 및 동향 | |
희망거래유형 | 기술매매,라이센스, |
사업화적용실적 | |
도입시고려사항 |
과제고유번호 | 1345100328 |
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세부과제번호 | 2008-0060165 |
연구과제명 | 미세유체제어기반등자기영동기술을이용한다중검출초고감도나노바이오센서개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
성과제출연도 | 2009 |
연구기간 | 200806~201305 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1350008819 |
---|---|
세부과제번호 | 2005-02437 |
연구과제명 | 나노자성체를이용한초고감도나노바이오센서시스템개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국과학재단 |
연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
성과제출연도 | 2006 |
연구기간 | 200212~200705 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
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