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다중 적층 나노갭 구조 및 그 제조방법
- 기술번호 : KST2014047332
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명은 원자의 크기레벨로 나노갭(nanogap)의 위치, 폭 및 깊이의 조정이 가능하고 다수의 나노갭을 동시에 형성할 수 있는 다중 적층 나노갭 구조 및 그 제조방법에 관한 것으로써, 표면 증강 라만 산란(SERS)를 이용한 단분자 검출 센서에 적용될 수 있는, 직선형의 나노갭이 일정 간격을 두고 반복적으로 나타나는 배열의 나노갭 구조와 그 제조방법을 제공한다. 보다 더 구체적으로 본 발명은, 표면 증강 라만 산란(SERS)를 이용한 단분자 검출 센서용 구조에 있어서, 기판; 및 상기 기판 위에 순차적으로 증착되는 희생층 및 강화층;을 포함하되, 상기 희생층 및 강화층은 적어도 한 번 이상 반복적으로 증착되고, 상기 기판, 희생층 및 강화층으로 형성된 구조에서 적어도 하나의 측면부에는, 상기 기판과 강화층 사이 또는 각각의 강화층 사이의 희생층의 소정영역이 제거되어 상기 기판 또는 강화층이 돌출됨으로써 형성되는 적어도 하나 이상의 나노갭을 구비하는 것을 특징으로 하는 다중 적층 나노갭 구조를 제공한다. |
|---|---|
| Int. CL | G01N 35/00 (2006.01) G01N 33/48 (2006.01) |
| CPC | G01N 21/658(2013.01) G01N 21/658(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020100017158 (2010.02.25) |
| 출원인 | 한국과학기술원 |
| 등록번호/일자 | 10-1078184-0000 (2011.10.25) |
| 공개번호/일자 | 10-2011-0097354 (2011.08.31) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20111101) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2010.02.25) |
| 심사청구항수 | 15 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 최양규 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 2 | 설명록 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 3 | 김주현 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 황이남 | 대한민국 | 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2010.02.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0124454-16 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2011.07.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2011.08.12 | 수리 (Accepted) | 9-1-2011-0065440-58 |
| 4 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.09.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0562273-92 |
| 5 | [일부 청구항 포기]취하(포기)서 [Abandonment of Partial Claims] Request for Withdrawal (Abandonment) |
2011.10.25 | 수리 (Accepted) | 2-1-2011-0249373-83 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 표면 증강 라만 산란(SERS)를 이용한 단분자 검출 센서용 구조에 있어서, 기판; 및 상기 기판 위에 순차적으로 증착되는 희생층 및 강화층;을 포함하되,상기 희생층 및 강화층은 적어도 한 번 이상 반복적으로 증착되고, 상기 기판, 희생층 및 강화층으로 형성된 구조에서 적어도 하나의 측면부에는, 상기 기판과 강화층 사이 또는 각각의 강화층 사이의 희생층의 소정영역이 제거되어 상기 기판 또는 강화층이 돌출됨으로써 형성되는 적어도 하나 이상의 나노갭(nanogap)을 구비하는 것을 특징으로 하는 다중 적층 나노갭 구조 |
| 2 |
2 청구항 2은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다 |
| 3 |
3 청구항 3은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다 |
| 4 |
4 제 1항에 있어서, 상기 강화층은 금(Au) 또는 은(Ag)으로 형성되는 것을 특징으로 하는 다중 적층 나노갭 구조 |
| 5 |
5 청구항 5은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다 |
| 6 |
6 청구항 6은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다 |
| 7 |
7 제 1항에 있어서, 상기 기판, 희생층 및 강화층으로 형성된 구조의 측면부에서 상기 소정영역이 제거된 희생층까지의 거리, 즉 상기 나노갭의 깊이는 1nm 내지 100nm 인 것을 특징으로 하는 다중 적층 나노갭 구조 |
| 8 |
8 표면 증강 라만 산란(SERS)를 이용한 단분자 검출 센서용 구조의 제조 방법에 있어서, (a) 기판상에 희생층 및 강화층을 순차적으로 적어도 한 번 이상 반복적으로 증착하는 단계; 및(b) 상기 기판, 적어도 하나이상의 반복적으로 형성된 희생층 및 강화층으로 이루어지는 적층구조의 측면부의 희생층의 소정영역을 제거하여 상기 기판 또는 강화층이 돌출됨으로써 생성되는 적어도 하나 이상의 나노갭을 형성하는 단계;를 포함하는 다중 적층 나노갭 구조의 제조 방법 |
| 9 |
9 제 8항에 있어서, 상기 (a)단계와 (b)단계 사이에,상기 기판에 희생층 및 강화층이 반복적으로 증착된 적층구조를 소정의 크기별로 분할하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 적층 나노갭 구조의 제조방법 |
| 10 |
10 청구항 10은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다 |
| 11 |
11 청구항 11은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다 |
| 12 |
12 청구항 12은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다 |
| 13 |
13 청구항 13은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다 |
| 14 |
14 청구항 14은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다 |
| 15 |
15 청구항 15은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1078184-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20100225 출원 번호 : 1020100017158 공고 연월일 : 20111101 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20110929 청구범위의 항수 : 5 유별 : G01N 33/48 발명의 명칭 : 다중 적층 나노갭 구조 및 그 제조방법 존속기간(예정)만료일 : 20151026 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 120,000 원 | 2011년 10월 26일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 105,000 원 | 2014년 09월 30일 | 납입 |
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
- 해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2010.02.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0124454-16 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 | 2011.07.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 | 2011.08.12 | 수리 (Accepted) | 9-1-2011-0065440-58 |
| 4 | 등록결정서 | 2011.09.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0562273-92 |
| 5 | [일부 청구항 포기]취하(포기)서 | 2011.10.25 | 수리 (Accepted) | 2-1-2011-0249373-83 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 기술번호 | KST2014047332 |
|---|---|
| 자료제공기관 | NTB |
| 기술공급기관 | 한국과학기술원 |
| 기술명 | 다중 적층 나노갭 구조 및 그 제조방법 |
| 기술개요 |
본 발명은 원자의 크기레벨로 나노갭(nanogap)의 위치, 폭 및 깊이의 조정이 가능하고 다수의 나노갭을 동시에 형성할 수 있는 다중 적층 나노갭 구조 및 그 제조방법에 관한 것으로써, 표면 증강 라만 산란(SERS)를 이용한 단분자 검출 센서에 적용될 수 있는, 직선형의 나노갭이 일정 간격을 두고 반복적으로 나타나는 배열의 나노갭 구조와 그 제조방법을 제공한다. 보다 더 구체적으로 본 발명은, 표면 증강 라만 산란(SERS)를 이용한 단분자 검출 센서용 구조에 있어서, 기판; 및 상기 기판 위에 순차적으로 증착되는 희생층 및 강화층;을 포함하되, 상기 희생층 및 강화층은 적어도 한 번 이상 반복적으로 증착되고, 상기 기판, 희생층 및 강화층으로 형성된 구조에서 적어도 하나의 측면부에는, 상기 기판과 강화층 사이 또는 각각의 강화층 사이의 희생층의 소정영역이 제거되어 상기 기판 또는 강화층이 돌출됨으로써 형성되는 적어도 하나 이상의 나노갭을 구비하는 것을 특징으로 하는 다중 적층 나노갭 구조를 제공한다. |
| 개발상태 | 기술개발완료 |
| 기술의 우수성 | |
| 응용분야 | 나노공정기술 |
| 시장규모 및 동향 | |
| 희망거래유형 | 기술매매,라이센스, |
| 사업화적용실적 | |
| 도입시고려사항 |
| 과제고유번호 | 1345151486 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2007-0056950 |
| 연구과제명 | 나노소자를 위한 trans-scale 융합 기술 개발 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200707~201206 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1415115198 |
|---|---|
| 세부과제번호 | C1080-1101-0001 |
| 연구과제명 | KAIST-ICU 통합지원(ICC 교육여건 개선) |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200903~201112 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | 기타 |
| 과제고유번호 | 1345120280 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2007-0056950 |
| 연구과제명 | 나노소자를 위한 trans-scale 융합 기술 개발 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2010 |
| 연구기간 | 200707~201206 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
특허성과
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