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양극 산화와 연마를 이용한 표면 처리 방법

  • 기술번호 : KST2014037065
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 금속 표면을 다이아몬드를 이용하여 연마한 다음, 양극 산화 공정을 수행하여 나노 기공층을 형성한다. 다이아몬드에 의한 연마에 의해 금속표면이 오염없이 연마되고, 다이아몬드 연마는 후속 양극 산화 공정에 영향을 주지 않아 균일하고 부식없는 나노 기공층을 형성할 수 있다.
Int. CL C25D 11/16 (2006.01.01) B24B 37/04 (2006.01.01) C25D 11/02 (2006.01.01)
CPC C25D 11/16(2013.01) C25D 11/16(2013.01)
출원번호/일자 1020100038605 (2010.04.26)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2011-0119100 (2011.11.02) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.04.27)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박익재 대한민국 서울특별시 관악구
2 이상욱 대한민국 서울특별시 영등포구
3 정현석 대한민국 서울특별시 성북구
4 서영권 대한민국 서울특별시 성동구
5 박정극 대한민국 서울특별시 성동구
6 홍국선 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 제일특허법인(유) 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)
2 김원준 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.04.26 수리 (Accepted) 1-1-2010-0269278-98
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.09.27 수리 (Accepted) 4-1-2011-5195109-43
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-5007213-54
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
5 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2015.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2015-0407851-27
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2016.01.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2016.03.10 수리 (Accepted) 9-1-2016-0011181-12
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.03.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0204986-13
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2016.07.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0526340-03
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
금속 표면을 다이아몬드를 이용하여 연마하는 단계; 및상기 연마된 표면을 양극 산화시키는 단계를 포함하는 표면 처리 방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 다이아몬드를 이용하여 연마하는 공정은 다이아몬드 서스펜션을 이용하는 공정인표면 처리 방법
3 3
제 1 항에 있어서,상기 다이아몬드를 이용하여 연마하는 공정 이전에, 그라인더를 이용하여 상기 금속 표면을 연마하는 공정을 더 포함하는 표면 처리 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.