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박막태양전지를 성장시키는 기판;상기 기판 위에 형성되는 후면 전극;상기 후면 전극 위에 형성되는 CIGS 광흡수층;상기 광흡수층 위에 형성되는 황화아연(ZnS) 버퍼층; 및상기 버퍼층 위에 형성되는 투명전도막;을 포함하며,상기 투명전도막은 낮은 스퍼터링법으로 증착하는 제 1 산화아연층 및 높은 스퍼터링법으로 증착하는 제 2 산화아연층을 포함하는 ZnS/CIGS 박막태양전지
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제 1항에 있어서,상기 제 1 산화아연층의 스퍼터링 파워는 10 내지 50 W 이하이고,상기 제 2 산화아연층의 스퍼터링 파워는 200 내지 500 W 이상인 것을 특징으로 하는 ZnS/CIGS 박막태양전지
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제 1항에 있어서,상기 제 2 산화아연층은 상기 제 1 산화아연층보다 두껍게 증착하는 것을 특징으로 하는 ZnS/CIGS 박막태양전지
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제 3항에 있어서,상기 제 1 산화아연층은 5 내지 50 nm의 두께로 증착하고,상기 제 2 산화아연층은 150 내지 1000 nm의 두께로 증착하는 것을 특징으로 하는 ZnS/CIGS 박막태양전지
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제 1항에 있어서,상기 버퍼층은 6 내지 8M 농도의 암모니아 반응용액에서 1회의 용액성장법으로 황화아연을 성장하여 형성하는 것을 특징으로 하는 ZnS/CIGS 박막태양전지
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제 5항에 있어서,상기 버퍼층은 10 내지 30 nm의 두께로 형성된 것을 특징으로 하는 ZnS/CIGS 박막태양전지
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제 1항에 있어서,상기 투명전도막은 n형 반도체 특성을 띄는 산화아연으로 형성되는 것을 특징으로 하는 ZnS/CIGS 박막태양전지
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제 7항에 있어서,상기 산화아연은 ZnO:Al 또는 ZnO:Ga인 것을 특징으로 하는 ZnS/CIGS 박막태양전지
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기판 위에 후면전극층을 형성하는 1단계;상기 후면전극층 위에 CIGS 광흡수층을 형성하는 2단계;상기 광흡수층 위에 황화아연 버퍼층을 형성하는 3단계;상기 버퍼층 위에 낮은 스프터링법으로 산화아연을 증착하는 4단계; 및상기 4단계 이후에 높은 스퍼터링법으로 산화아연을 증착하는 5단계;를 포함하는 ZnS/CIGS 박막태양전지 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 4단계의 스퍼터링 파워는 10 내지 50 W 이고,상기 5단계의 스퍼터링 파워는 200 내지 500 W 인 것을 특징으로 하는 ZnS/CIGS 박막태양전지 제조방법
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제 10항에 있어서,상기 5단계의 산화아연층은 상기 4단계의 산화아연층보다 두껍게 증착하는 것을 특징으로 하는 ZnS/CIGS 박막태양전지 제조방법
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제 11항에 있어서,상기 4단계의 산화아연층은 5 내지 50 nm 의 두께로 증착하고,상기 5단계의 산화아연층은 150 내지 1000 nm 의 두께로 증착하는 것을 특징으로 하는 ZnS/CIGS 박막태양전지 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 3단계는 6 내지 8M 농도의 암모니아 반응용액에서 1회의 용액성장법으로 황화아연을 성장하여 버퍼층을 형성하는 것을 특징으로 하는 ZnS/CIGS 박막태양전지 제조방법
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제 13항에 있어서,상기 버퍼층은 10 내지 30 nm의 두께로 형성된 것을 특징으로 하는 ZnS/CIGS 박막태양전지 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 4단계 및 5단계의 산화아연은 n형 반도체 특성을 띄는 산화아연인 것을 특징으로 하는 ZnS/CIGS 박막태양전지 제조방법
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제 15항에 있어서,상기 산화아연은 ZnO:Al 또는 ZnO:Ga인 것을 특징으로 하는 ZnS/CIGS 박막태양전지 제조방법
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