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(1) 접지된 반응기 내에서, 패터닝하고자 하는 기판 위에, 일면 또는 양면에 전극층 또는 이온층을 갖는 패턴-천공된 마스크를 올려 놓고, 전압을 인가하여 전기적 집속 렌즈(electrodynamic focusing lens)를 형성하는 단계; 및
(2) 하전입자를 도입하여, 마스크의 패턴을 통해 하전입자를 기판으로 유도하고 기판에 집속 부착시키는 단계
를 포함하는, 하전입자의 집속 패터닝(patterning) 방법
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제 1 항에 있어서,
단계 (1)의 패턴-천공된 마스크의 전극층이 20 내지 200nm의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는, 하전입자의 집속 패터닝 방법
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제 1 항에 있어서,
단계 (1)의 패턴-천공된 마스크의 전극층이 천공된 패턴의 벽면에 추가로 존재하는 것을 특징으로 하는, 하전입자의 집속 패터닝 방법
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제 1 항에 있어서,
단계 (1)의 패턴-천공된 마스크의 이온층이 하전입자와 동일한 극으로 하전된 기체 이온을 마스크의 표면에 대해 주입하여 형성되는 것을 특징으로 하는, 하전입자의 집속 패터닝 방법
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제 4 항에 있어서,
기체 이온이, 기체에 전압을 인가하여 제조된, 질소 이온, 헬륨 이온 또는 아르곤 이온임을 특징으로 하는, 하전입자의 집속 패터닝 방법
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제 1 항에 있어서,
단계 (1)에서, 양면에 전극층을 갖는 마스크를 기판 위에 올려 놓고 양 전극층 각각에 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는, 하전입자의 집속 패터닝 방법
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7
제 1 항에 있어서,
단계 (1)에서, 일면에 이온층을 갖는 마스크를 이온층 반대면이 기판과 접하도록 기판 위에 올려 놓고 기판에 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는, 하전입자의 집속 패터닝 방법
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제 1 항에 있어서,
단계 (1)의 패턴-천공된 마스크가, 전극층을 갖는 마스크, 이온층을 갖는 마스크 또는 이들의 조합을 복수 개 적층시킨 다층의 것임을 특징으로 하는, 하전입자의 집속 패터닝 방법
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9
제 1 항에 있어서,
단계 (2)에서, 전압 및 전류 공급장치, 배터리 또는 축전지를 이용한 전하와 전압의 제어를 통해 하전입자의 집속도를 변화시켜 패턴의 크기를 조절하는 것을 특징으로 하는, 하전입자의 집속 패터닝 방법
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10
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항의 방법에 사용되는, 판상 또는 필름상 부도체의 일면 또는 양면에 전극층 또는 이온층을 갖는 패턴-천공된 마스크
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11
제 10 항에 있어서,
마스크가, 전극층을 갖는 마스크, 이온층을 갖는 마스크 또는 이들의 조합을 복수 개 적층시킨 다층의 것임을 특징으로 하는 패턴-천공된 마스크
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