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강유전체 기반의 데이터 저장 패턴 및 백 게이트를 포함하는 3차원 플래시 메모리의 동작 방법

  • 기술번호 : KST2023006028
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 강유전체 기반의 데이터 저장 패턴 및 백 게이트를 포함하는 3차원 플래시 메모리의 동작 방법이 개시된다. 일 실시예에 따르면, 3차원 플래시 메모리의 프로그램 동작 방법은, 워드 라인들 중 프로그램 동작의 대상이 되는 대상 메모리 셀에 대응하는 선택된 워드 라인에 프로그램 전압을 인가하는 단계; 워드 라인들 중 선택된 워드 라인을 제외한 비선택된 워드 라인들 각각을 플로팅시키는 단계; 수직 채널 구조체들 중 대상 메모리 셀을 포함하는 선택된 수직 채널 구조체의 백 게이트에 패스 전압을 인가하는 단계; 및 선택된 워드 라인에 프로그램 전압이 인가되고 비선택된 워드 라인들 각각이 플로팅되며 백 게이트에 패스 전압이 인가됨에 응답하여, 대상 메모리 셀에 대한 프로그램 동작을 수행하는 단계를 포함할 수 있다.
Int. CL G11C 16/10 (2006.01.01) G11C 16/08 (2006.01.01) G11C 11/22 (2006.01.01) H10B 43/27 (2023.01.01)
CPC G11C 16/10(2013.01) G11C 16/08(2013.01) G11C 11/221(2013.01) H10B 43/27(2013.01)
출원번호/일자 1020220017916 (2022.02.11)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0121270 (2023.08.18) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.02.11)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 송윤흡 서울특별시 성동구
2 심재민 서울특별시 성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 양성보 대한민국 서울특별시 강남구 선릉로***길 ** (논현동) 삼성빌딩 *층(피앤티특허법률사무소)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.02.11 수리 (Accepted) 1-1-2022-0154101-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상 수평 방향으로 연장 형성된 채 수직 방향으로 이격되며 적층된 워드 라인들; 및 상기 워드 라인들을 관통하며 상기 수직 방향으로 연장 형성되는 수직 채널 구조체들-상기 수직 채널 구조체들 각각은 상기 수직 방향으로 연장 형성되는 수직 채널 패턴, 상기 수직 채널 패턴의 내측벽을 덮으며 상기 수직 방향으로 연장 형성되는 백 게이트 및 상기 수직 채널 패턴의 외측벽을 덮으며 형성되는 강유전체 기반의 데이터 저장 패턴을 포함하고, 상기 데이터 저장 패턴 및 상기 수직 채널 패턴은 상기 워드 라인들에 대응하는 메모리 셀들을 구성함-을 포함하는 3차원 플래시 메모리의 프로그램 동작 방법에 있어서, 상기 워드 라인들 중 상기 프로그램 동작의 대상이 되는 대상 메모리 셀에 대응하는 선택된 워드 라인에 프로그램 전압을 인가하는 단계; 상기 워드 라인들 중 상기 선택된 워드 라인을 제외한 비선택된 워드 라인들 각각을 플로팅시키는 단계; 상기 수직 채널 구조체들 중 상기 대상 메모리 셀을 포함하는 선택된 수직 채널 구조체의 백 게이트에 패스 전압을 인가하는 단계; 및 상기 선택된 워드 라인에 프로그램 전압이 인가되고 상기 비선택된 워드 라인들 각각이 플로팅되며 상기 백 게이트에 패스 전압이 인가됨에 응답하여, 상기 대상 메모리 셀에 대한 상기 프로그램 동작을 수행하는 단계를 포함하는 3차원 플래시 메모리의 프로그램 동작 방법
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제1항에 있어서,상기 수직 채널 구조체들 중 상기 대상 메모리 셀을 포함하지 않는 비선택된 수직 채널 구조체의 비트 라인에 상기 비선택된 수직 채널 구조체의 수직 채널 패턴을 셀프 부스팅시키는 전압을 인가하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 프로그램 동작 방법
3 3
제1항에 있어서,상기 대상 메모리 셀을 포함하는 선택된 수직 채널 구조체의 수직 채널 패턴이 N 타입인 경우, 상기 선택된 워드 라인에 프로그램 전압을 인가하는 단계는, 양의 값의 프로그램 전압을 인가하는 단계인 것을 특징으로 하고, 상기 선택된 수직 채널 구조체의 백 게이트에 패스 전압을 인가하는 단계는, 양의 값의 패스 전압을 인가하는 단계인 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 프로그램 동작 방법
4 4
제1항에 있어서,상기 대상 메모리 셀을 포함하는 선택된 수직 채널 구조체의 수직 채널 패턴이 P 타입인 경우, 상기 선택된 워드 라인에 프로그램 전압을 인가하는 단계는, 음의 값의 프로그램 전압을 인가하는 단계인 것을 특징으로 하고, 상기 선택된 수직 채널 구조체의 백 게이트에 패스 전압을 인가하는 단계는, 음의 값의 패스 전압을 인가하는 단계인 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 프로그램 동작 방법
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기판 상 수평 방향으로 연장 형성된 채 수직 방향으로 이격되며 적층된 워드 라인들; 및 상기 워드 라인들을 관통하며 상기 수직 방향으로 연장 형성되는 수직 채널 구조체들-상기 수직 채널 구조체들 각각은 상기 수직 방향으로 연장 형성되는 수직 채널 패턴, 상기 수직 채널 패턴의 내측벽을 덮으며 상기 수직 방향으로 연장 형성되는 백 게이트 및 상기 수직 채널 패턴의 외측벽을 덮으며 형성되는 강유전체 기반의 데이터 저장 패턴을 포함하고, 상기 데이터 저장 패턴 및 상기 수직 채널 패턴은 상기 워드 라인들에 대응하는 메모리 셀들을 구성함-을 포함하는 3차원 플래시 메모리의 소거 동작 방법에 있어서, 상기 수직 채널 구조체들 중 소거 동작의 대상이 되는 블록에 포함되는 수직 채널 구조체들 각각의 비트 라인에 SSL(String Selection Line)과의 GIDL(Gate Induced Drain Leakage)을 발생시키기 위한 소거 전압을 인가하는 단계; 상기 워드 라인들 각각에 접지 전압을 인가하는 단계; 상기 블록에 포함되는 수직 채널 구조체들 각각의 백 게이트를 플로팅시키는 단계; 및 상기 블록에 포함되는 수직 채널 구조체들 각각에서 GIDL이 발생됨에 응답하여, 상기 블록에 포함되는 수직 채널 구조체들 각각의 메모리 셀들에 대한 소거 동작을 수행하는 단계를 포함하는 3차원 플래시 메모리의 소거 동작 방법
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제5항에 있어서,상기 블록에 포함되는 수직 채널 구조체들 각각의 수직 채널 패턴이 N 타입인 경우, 상기 소거 전압을 인가하는 단계는, 양의 값의 소거 전압을 인가하는 단계인 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 소거 동작 방법
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제5항에 있어서,상기 블록에 포함되는 수직 채널 구조체들 각각의 수직 채널 패턴이 P 타입인 경우, 상기 소거 전압을 인가하는 단계는, 음의 값의 소거 전압을 인가하는 단계인 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 소거 동작 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.