맞춤기술찾기

이전대상기술

박막 트랜지스터 구동 소자 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2024000062
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 기판; 상기 기판 위에 위치하는 절연층; 상기 절연층의 적어도 일부 영역 위에 위치하고 금속 산화물을 포함하는 채널층; 및 상기 채널층과 연결되어 있으며, 상기 채널층을 중심으로 양측으로 마주하도록 상기 절연층 상에 위치하는 소스 전극 및 드레인 전극;을 포함하고, 상기 절연층은, 상기 기판의 바로 위에 형성되는 제1 절연층; 및 상기 제1 절연층의 상면의 중앙에 일정 높이로 폭 방향을 따라 형성되어 있는 제2 절연층을 포함하며, 상기 제2 절연층의 길이는 상기 제1 절연층의 길이보다 작고, 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극과 각각 마주하는 상기 제2 절연층의 양 측부에는 단차부가 형성되어 있으며, 상기 단차부는 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극에 대해 길이 방향으로 이격되어 있고, 상기 단차부에 의해 상기 채널층 중에 단차가 형성되는 것인, 구동 소자 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
Int. CL H01L 29/786 (2006.01.01) H01L 29/66 (2006.01.01) H01L 29/49 (2006.01.01)
CPC H01L 29/7869(2013.01) H01L 29/78696(2013.01) H01L 29/66969(2013.01) H01L 29/4908(2013.01)
출원번호/일자 1020230073437 (2023.06.08)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0169861 (2023.12.18) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020220069932   |   2022.06.09
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2023.06.08)
심사청구항수 14

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이수연 서울특별시 관악구
2 이진규 서울특별시 관악구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 석상용 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 **-*(도곡동) *층, 특허사무소 제스트(특허사무소제스트)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2023.06.08 수리 (Accepted) 1-1-2023-0629728-36
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
구동 소자로서,기판;상기 기판 위에 위치하는 절연층;상기 절연층의 적어도 일부 영역 위에 위치하고 금속 산화물을 포함하는 채널층; 및상기 채널층과 연결되어 있으며, 상기 채널층을 중심으로 양측으로 마주하도록 상기 절연층 상에 위치하는 소스 전극 및 드레인 전극;을 포함하고,상기 절연층은, 상기 기판의 바로 위에 형성되는 제1 절연층; 및상기 제1 절연층의 상면의 중앙에 일정 높이로 폭 방향을 따라 형성되어 있는 제2 절연층을 포함하며,상기 제2 절연층의 길이(LI2)는 상기 제1 절연층의 길이(LI1)보다 작고,상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극과 각각 마주하는 상기 제2 절연층의 양 측부에는 단차부가 형성되어 있으며,상기 단차부는 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극에 대해 길이 방향으로 이격되어 있고, 상기 단차부에 의해 상기 채널층 중에 단차가 형성되는 것인, 구동 소자
2 2
제1항에 있어서,상기 제2 절연층의 높이는 제1 절연층 및 제2 절연층 높이의 합의 10% 이상인 것인, 구동 소자
3 3
제2항에 있어서,상기 제2 절연층의 높이는 제1 절연층 및 제2 절연층 높이의 합의 30% 이상인 것인, 구동 소자
4 4
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 단차부와 상기 소스 전극 사이 및 상기 단차부와 상기 드레인 전극 사이의 채널층에 n+ 확산 영역이 형성되어 있는 것인, 구동 소자
5 5
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 채널층의 길이(Lc)는 상기 제2 절연층의 길이(LI2)보다 긴 것인, 구동 소자
6 6
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 채널층 상에 위치하는 게이트 절연층; 및상기 게이트 절연층 위에 위치하는 게이트 전극을 더 포함하는 구동 소자
7 7
제6항에 있어서,상기 제2 절연층의 길이(LI2)는 상기 게이트 전극의 길이 이하인 것인, 구동 소자
8 8
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 채널층의 금속 산화물은 인듐-갈륨-아연 산화물(IGZO)을 포함하는 것인, 구동 소자
9 9
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 절연층은 실리콘 산화물(SiO2), 실리콘 질화물(SiNy) 및 알루미나(Al2O3) 중 적어도 하나를 포함하는 것인, 구동 소자
10 10
제6항에 있어서,상기 게이트 절연층은 실리콘 산화물 또는 알루미나(Al2O3)를 포함하는 것인, 구동 소자
11 11
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 구동 소자는 상기 채널층의 길이(Lc)가 3 ㎛ 미만인 단 채널 구동 소자인 것인, 구동 소자
12 12
제1항 또는 제2항에 따른 구동 소자의 제조방법으로서,기판을 준비하는 단계;상기 기판 위에 제1 절연층을 형성하는 단계;상기 제1 절연층의 상면의 중앙에 일정 높이로 폭 방향을 따라 제2 절연층을 형성하는 단계;상기 제1 절연층의 적어도 일부 및 상기 제2 절연층 전부를 덮도록 금속 산화물을 포함하는 채널층을 형성하는 단계;상기 제2 절연층의 길이 이상의 길이로 상기 채널층 상에 게이트 절연층 및 게이트 전극을 형성하는 단계; 및상기 채널층을 중심으로 양측으로 마주하도록 소스 전극 및 드레인 전극을 형성하는 단계; 를 포함하고,상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극과 각각 마주하는 상기 제2 절연층의 양 측부에는 단차부가 형성되어 있으며,상기 단차부는 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극에 대해 길이 방향으로 이격되어 있고, 상기 단차부에 의해 상기 채널층 중에 단차가 형성되는 것인, 구동 소자의 제조방법
13 13
제12항에 있어서,상기 구동 소자는 상기 채널층의 길이(Lc)가 3 ㎛ 미만인 단 채널 구동 소자인 것인, 구동 소자의 제조방법
14 14
제12항에 있어서,상기 채널층의 금속 산화물은 인듐-갈륨-아연 산화물(IGZO)을 포함하는 것인, 구동 소자의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.