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음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 방법, 그 시스템 및 이를 이용한 광학기기

  • 기술번호 : KST2014011565
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 방법, 그 시스템 및 이것을 이용한 광학기기에 관한 것으로, 음향광학변조필터의 분광 및 편광 특성을 이용하여 정상파와 비정상파로 분광되어 서로 다른 정보가 담긴 2개의 회절광을 듀얼모드로 측정함으로써, 다층 박막을 포함한 반도체 박막의 굴절률이나 두께 또는 그 형상 및 세포의 굴절률 및 분광 물성치 등을 고속으로 정밀하게 측정할 수 있는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 방법, 그 시스템 및 이것을 이용한 광학기기를 제공하는데 그 목적이 있다. 이를 해결하기 위한 수단으로서 본 발명에 따른 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템은, 광원으로부터 생성된 광을 측정광과 기준광으로 분광시켜 조사해 주는 광원부; 측정광을 시편에 조사하여 반사된 측정광을 얻는 시편부; 기준광을 편광시켜 주는 기준부; 반사된 측정광과 편광된 기준광을 편광시켜 얻은 간섭광으로부터 편광 상태가 다른 2개의 회절광으로 분광시켜 주는 음향광학변조필터; 각 회절광을 검출하는 검출부; 및 검출된 회절광을 이용하여 결상처리 및 음향광학변조필터를 제어하는 신호처리 및 제어부;를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명은 이러한 이미징 시스템을 이용하여 이미징하는 방법 및 이미징 방법을 수행하는 광학부재를 포함하는 광학기기를 제공한다.
Int. CL G01J 3/02 (2006.01)
CPC G01J 3/027(2013.01) G01J 3/027(2013.01) G01J 3/027(2013.01)
출원번호/일자 1020070109389 (2007.10.30)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0926034-0000 (2009.11.03)
공개번호/일자 10-2009-0043697 (2009.05.07) 문서열기
공고번호/일자 (20091111) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.10.30)
심사청구항수 21

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김수현 대한민국 대전 유성구
2 유장우 대한민국 대전 유성구
3 류성윤 대한민국 부산 부산진구
4 오세백 대한민국 대전 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손은진 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길*, *층(대치동 삼성빌딩)(특허법인 아이퍼스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.10.30 수리 (Accepted) 1-1-2007-0777958-60
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.05.02 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.06.10 수리 (Accepted) 9-1-2008-0034563-56
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.07.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0313161-55
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.08.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0484330-94
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.08.07 수리 (Accepted) 1-1-2009-0484333-20
7 등록결정서
Decision to grant
2009.10.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0440459-01
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
광원(11)으로부터 생성된 광을 측정광과 기준광으로 분광시켜 조사해 주는 광원부(10); 상기 측정광을 시편(21)에 조사하여 반사된 측정광을 얻는 시편부(20); 상기 기준광을 편광시켜 주는 기준부(30); 상기 반사된 측정광과 편광된 기준광을 편광시켜 얻은 간섭광으로부터 편광 상태가 다른 2개의 회절광으로 분광시켜 주는 음향광학변조필터(40); 상기 각 회절광을 검출하는 검출부(50); 및 검출된 회절광을 이용하여 결상처리 및 상기 음향광학변조필터(40)를 제어하는 신호처리 및 제어부(60);를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 광원부(10)는 광을 생성하는 광원(11), 생성된 광을 집광하는 렌즈부(12) 및 집광된 광을 분리시켜 주는 광분리부(13)를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 광원(11)은 백색광 또는 가변 파장을 갖는 레이저인 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템
4 4
제 2 항에 있어서, 상기 렌즈부(12)는 광을 평행광으로 바꿔주거나 광량 조절이 가능하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 시편부(20)는 상기 측정광의 촛점을 맞추기 위한 렌즈(22)와, 시편(21)을 장착하기 위한 시편장착부(23)를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템
6 6
제 5 항에 있어서, 상기 시편(21)은 박막이 도포되어 있거나 특정 세포 또는 광학소자인 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 기준부(30)는 기준광을 집광하는 렌즈부(32), 집광된 기준광을 편광시켜 주는 편광기(31), 편광된 기준광을 다시 반사시켜 주는 반사경(33)을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템
8 8
제 1 항 또는 제 7 항에 있어서, 상기 기준부(30)는 선형 편광의 방향을 전환시켜 주기 위해 회전가능하도록 구성된 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템
9 9
제 8 항에 있어서, 상기 기준부(30)는 위상 지연기 또는LCVR(Liquid Crystal Variable Retarder) 또는 울라스톤 프리즘(Wollaston Prism)를 포함하여 편광 상태를 바꿀 수 있는 광학소자인 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템
10 10
제 9 항에 있어서, 상기 기준부(30)는 상기 기준광을 선형 편광시켜 정상파 또는 비정상파인 형태로 상기 음향광학변조필터에 조사시켜 주는 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템
11 11
제 1 항에 있어서, 상기 검출부(50)는 비정상파의 회절방향과 정상파의 회절방향에서 각각 분광신호를 얻는 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템
12 12
제 11 항에 있어서, 상기 분광신호는 상기 기준광과 측정광이 서로 간섭된 분광신호 및 측정광만의 분광신호인 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템
13 13
제 1 항 또는 제 11 항에 있어서, 상기 검출부(50)는 각각의 회절광을 결상하기 위한 2개의 2차원 결상소자(51,52)를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템
14 14
제 13 항에 있어서, 상기 검출부(50)는 결상 또는 집광을 위한 렌즈부(53)를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템
15 15
제 1 항에 있어서, 상기 신호처리 및 제어부(60)는 상기 음향광학변조필터(40)에 입력되어 분광되는 빛의 파장을 변화시켜 주는 음향광학변조필터 드라이버(41)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템
16 16
제 1 항 또는 제 15 항에 있어서, 상기 신호처리 및 제어부(60)는 RF 신호로 상기 음향광학변조필터(40)를 제어하는 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 시스템
17 17
광원으로부터 생성된 광을 측정광과 기준광으로 분광하는 단계(S100); 상기 측정광을 시편에 조사하여 그 반사된 측정광을 얻는 단계(S200); 상기 기준광을 편광시켜 주는 단계(S300); 음향광학변조필터(40)로 상기 반사된 측정광 및 편광된 기준광을 집광하여 편광 상태가 다른 2개의 회절광을 형성시켜 주는 단계(S400); 및 상기 각 회절광으로부터 데이터를 검출하여 처리하는 단계(S500);를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 방법
18 18
제 17 항에 있어서, 상기 회절광 형성단계(S400)에서, 상기 각 회절광은 복굴절 현상을 이용하여 편광되는 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 방법
19 19
제 17 항에 있어서, 상기 회절광 형성단계(S400)에서, 상기 각 회절광은 상기 음향광학변조필터(40)를 통과하면서 직교방향으로 편광된 회절광인 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 방법
20 20
제 17 항에 있어서, 상기 데이터 검출단계(S500)에서, 상기 어느 하나의 회절광으로부터 측정광과 기준광에 관한 데이터를 검출하고, 나머지 하나의 회절광으로부터 측정광에 관한 데이터를 검출하는 것을 특징으로 하는 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 방법
21 21
청구항 제 17 항 내지 제 20 항중 어느 한항의 이미징 방법을 수행하는 광학부재를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 광학기기
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.