맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

나노 크기의 멜라닌 입자 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2014053245
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 도파민·H+X- 함유 수용액(여기서, H+X-는 산임)에 염기(base)를 첨가하여 산 염기 중화반응시키는 단계; 및 도파민을 공기 중에서 산화시키면서 중합(polymerization)시키는 단계를 동시 또는 연속적으로 수행하여 멜라닌을 형성하되, 상기 염기 첨가시 도파민·H+X-(a)과 염기(b)의 몰비를 a : b = 1 : 0.1 ~ 1로 조절하여 나노 크기의 멜라닌 입자를 형성시키는 것이 특징인 멜라닌 입자 제조 방법, 및 나노 크기의 멜라닌 입자를 제공한다.본 발명에 따른 제조방법은 단시간 내에 나노 크기의 멜라닌 입자를 제조할 수 있다. 나아가, 본 발명에 따라 제조된 나노 크기의 멜라닌 입자는 천연 멜라닌 또는 종래 합성 멜라닌과 달리 용매 내 분산성이 우수하여 다양한 분야에 응용될 수 있다.
Int. CL C08J 3/12 (2006.01.01) C08H 1/06 (2006.01.01) B82B 3/00 (2017.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020100103413 (2010.10.22)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1227322-0000 (2013.01.22)
공개번호/일자 10-2011-0044712 (2011.04.29) 문서열기
공고번호/일자 (20130128) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020090101188   |   2009.10.23
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.10.22)
심사청구항수 24

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이진규 대한민국 서울특별시 강남구
2 주국연 대한민국 경기도 평택시 고덕

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 손민 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, *층(문정동)(특허법인한얼)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 주식회사 멜라니스 서울특별시 강남구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.10.22 수리 (Accepted) 1-1-2010-0684034-33
2 보정요구서
Request for Amendment		 2010.11.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2010-0099449-04
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2010.11.11 수리 (Accepted) 1-1-2010-0735586-09
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2011.05.26 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2011.06.17 수리 (Accepted) 9-1-2011-0053700-09
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.09.27 수리 (Accepted) 4-1-2011-5195109-43
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.02.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0093592-18
8 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2012.03.27 수리 (Accepted) 1-1-2012-0245954-62
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2012.04.17 수리 (Accepted) 1-1-2012-0305601-57
10 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2012.05.17 수리 (Accepted) 1-1-2012-0396717-55
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.05.17 수리 (Accepted) 1-1-2012-0396682-45
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.05.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0396691-56
13 등록결정서
Decision to grant		 2012.10.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0631122-48
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-5007213-54
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
도파민·H+X- 함유 수용액(여기서, H+X-는 산임)에 염기(base)를 첨가하여 산 염기 중화반응시키는 단계; 및 형성되는 도파민을 공기 중에서 산화시키면서 중합(polymerization)시키는 단계를 동시 또는 연속적으로 수행하여 멜라닌을 형성하되,상기 염기 첨가시 도파민·H+X-(a)과 염기(b)의 몰비를 a : b = 1 : 0
2 2
제1항에 있어서, 상기 H+X-에서 X-는 할라이드 이온, HSO4-, NO3-, H2PO4- 및 CH3COO-로 이루어진 군에서 선택된 것이 특징인 멜라닌 입자의 제조 방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 염기는 알칼리 금속 수산화물, 알칼리 토금속 수산화물, 알칼리 금속의 탄산염, 알칼리 토금속의 탄산염, 알칼리 금속의 중탄산염, 알칼리 토금속의 중탄산염, 알칼리 금속의 아세트산염, 알칼리 금속의 인산염, 알칼리 금속 알콕사이드(탄소수 1 ~ 20), 암모니아(NH3), 암모니아수(NH4OH) 및 아민으로 이루어진 군에서 선택된 것이 특징인 멜라닌 입자의 제조 방법
4 4
제1항에 있어서, 도파민·H+X-는 도파민 염산염(dopamine hydrochloride, C8H11NO2·HCl)이고, 염기는 NaOH인 것이 특징인 멜라닌 입자의 제조 방법
5 5
제1항에 있어서, 도파민·H+X- 함유 수용액의 pH는 2 내지 7인 것이 특징인 멜라닌 입자의 제조 방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 도파민·H+X- 함유 수용액에 염기 첨가 직후의 pH는 8 내지 11인 것이 특징인 멜라닌 입자의 제조 방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 도파민·H+X- 함유 수용액의 몰 농도가 1 m㏖/ℓ(mM) 내지 1 ㏖/ℓ(M) 범위인 것이 특징인 멜라닌 입자의 제조 방법
8 8
제1항에 있어서, 상기 염기의 첨가는 20 내지 100 ℃의 온도에서 수행되는 것이 특징인 멜라닌 입자의 제조 방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 산 염기 중화반응 단계, 중합반응 단계 또는 이들 모두는 티올기(thiol group, -SH)를 함유하는 화합물의 존재하에서 추가적으로 수행되는 것이 특징인 멜라닌 입자의 제조 방법
10 10
제9항에 있어서, 상기 티올기를 함유하는 화합물(β)은 도파민·H+X-(α) 및 염기(γ)와의 혼합비율이 α : β : γ = 3 : 1~3 : 2~3의 몰 비율인 것이 특징인 멜라닌 입자의 제조 방법
11 11
제1항에 있어서, 상기 멜라닌 입자는 구형인 것이 특징인 멜라닌 입자의 제조 방법
12 12
표준환원 전위가 1
13 13
제12항에 있어서, 상기 산화제는 과망산칼륨(potassium permanganate, KMnO4), 과요드산 칼륨(potassium periodate, KIO4) 및 과요드산 나트륨(sodium periodate, NaIO4)으로 이루어진 군에서 선택된 것이 특징인 멜라닌 입자의 제조 방법
14 14
제1항에 있어서, 형성된 멜라닌 입자를, 고분자 말단 부분에 티올기를 함유하는 알콕시 폴리에틸렌 글리콜(알콕시기의 탄소수 1 ~ 50)로 표면 처리하는 단계를 더 포함하는 것이 특징인 멜라닌 입자의 제조방법
15 15
제14항에 있어서, 상기 표면 처리 단계는 물에 멜라닌 입자를 분산시켜 얻은 분산용액에 상기 분산용액의 pH를 6 ~ 8에서 9
16 16
제12항에 있어서, 상기 표면 처리 단계는 물에 멜라닌 입자를 분산시켜 얻은 분산용액에 상기 분산용액의 pH를 6 ~ 8에서 9
17 17
제1항 내지 제16항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 멜라닌 입자
18 18
제17항에 있어서, 상기 멜라닌 입자는 물에 분산되는 것이 특징인 멜라닌 입자
19 19
제17항에 있어서, 상기 멜라닌 입자는 말단 부분에 티올기를 함유하는 알콕시 폴리에틸렌 글리콜(알콕시기의 탄소수 1 ~ 50)로 표면 처리된 것이 특징인 멜라닌 입자
20 20
제19항에 있어서, 상기 표면 처리된 멜라닌 입자는 인산염 버퍼용액(phosphate buffer solution, PBS) 및 우태아 혈청(Fatal bovin serum, FBS)으로 이루어진 군에서 선택된 생물학적 용액에 분산되는 것이 특징인 멜라닌 입자
21 21
제17항에 있어서, 상기 멜라닌 입자는 금속 제거제(metal scavenger), 항산화 물질, 금속 감지 수단, 조영제, 광 반응 물질 및 광 보호 물질로 이루어진 군에서 선택된 것으로 사용되는 것이 특징인 멜라닌 입자
22 22
도파민·H+X-(a)과 염기(b)의 몰비를 a : b = 1 : 0
23 23
제22항에 있어서, 상기 산 염기 중화반응 온도는 1 내지 5 ℃인 것이 특징인 멜라닌 입자 제조용 중간체
24 24
제22항에 있어서, 상기 건조하기 전에 반응 결과물을 여과하여 염을 제거한 것이 특징인 멜라닌 입자 제조용 중간체
25 25
삭제
26 26
삭제
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN102666671 CN 중국 FAMILY
2 CN104017202 CN 중국 FAMILY
3 EP02492302 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
4 US08937149 US 미국 FAMILY
5 US20120205590 US 미국 FAMILY
6 WO2011049406 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
7 WO2011049406 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
8 WO2011049406 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN102666671 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN102666671 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 CN104017202 CN 중국 DOCDBFAMILY
4 CN104017202 CN 중국 DOCDBFAMILY
5 EP2492302 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
6 EP2492302 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
7 US2012205590 US 미국 DOCDBFAMILY
8 US8937149 US 미국 DOCDBFAMILY
9 WO2011049406 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
10 WO2011049406 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
11 WO2011049406 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 서울대학교 산학협력단 기술료사업 기초원천기술의 산업화탐색