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전기장을 이용한 막 증착 장치 및 막 증착 방법

  • 기술번호 : KST2015160188
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 높은 증착 속도로 양질의 결정화 실리콘막 증착이 가능한 막 증착 장치 및 막 증착 방법을 제공한다. 본 발명에 따른 막 증착 장치는, 내부에 기판이 장입되며 상압으로 유지되는 챔버, 반응 가스를 챔버 내에 도입하는 가스 공급계, 도입되는 반응 가스를 해리시키기 위하여 열을 방출하는 발열체, 및 기판에 전기장을 인가하기 위한 전기장 인가부를 포함한다. 본 발명에 따른 막 증착 방법은 이러한 막 증착 장치를 이용하며, 챔버에 기판을 장입하고 반응 가스를 도입하는 단계, 발열체를 이용하여 반응 가스를 해리시키는 단계, 해리된 반응 가스에서 핵생성이 일어나는 단계, 핵생성으로부터 생겨난 나노입자가 성장을 하면서 하전된 나노입자가 형성되는 단계, 및 전기장 인가부를 이용해 기판에 전기장을 인가하여 하전된 나노입자를 기판에 끌어당겨 막을 증착하는 단계를 포함한다. 본 발명에 따르면, 결정화된 하전된 나노입자를 선택적으로 기판에 끌어당겨 증착하므로 결정화된 막을 빠른 증착 속도로 얻을 수 있으며 특히 결정화 실리콘막을 쉽게 얻을 수 있다.
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) H01L 21/205 (2011.01)
CPC C23C 16/45559(2013.01) C23C 16/45559(2013.01) C23C 16/45559(2013.01)
출원번호/일자 1020070045402 (2007.05.10)
출원인 재단법인서울대학교산학협력재단
등록번호/일자 10-0875712-0000 (2008.12.17)
공개번호/일자 10-2008-0099616 (2008.11.13) 문서열기
공고번호/일자 (20081223) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.05.10)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 황농문 대한민국 서울 서초구
2 김찬수 대한민국 서울 동작구
3 정용빈 대한민국 강원 강릉시
4 윤웅규 대한민국 인천 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 송경근 대한민국 서울특별시 서초구 서초대로**길 ** (방배동) 기산빌딩 *층(엠앤케이홀딩스주식회사)
2 박보경 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로 **, *층(서초동, 준영빌딩)(특허법인필앤온지)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2007.05.10 수리 (Accepted) 1-1-2007-0347030-08
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2008-5015497-73
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.06.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0314625-72
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.07.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0528047-53
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.07.23 수리 (Accepted) 1-1-2008-0528043-71
6 등록결정서
Decision to grant		 2008.11.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0599304-82
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.08.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5100909-62
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2015-5036045-28
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
내부에 기판이 장입되며 상압으로 유지되는 챔버;반응 가스를 상기 챔버 내에 도입하는 가스 공급계;도입되는 상기 반응 가스를 해리시키기 위하여 열을 방출하는 발열체; 및상기 기판에 전기장을 인가하기 위한 전기장 인가부를 포함하는 것을 특징으로 하는 막 증착 장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 전기장 인가부는 상기 기판의 상부에 설치된 제1 플레이트;상기 기판의 하부에 상기 제1 플레이트에 대향하여 설치된 제2 플레이트; 상기 제1 및 제2 플레이트 중 어느 하나에 일정한 교류 및 직류 전압을 인가할 수 있는 전원; 및상기 제1 및 제2 플레이트 중 다른 하나를 접지시키는 접지 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 막 증착 장치
3 3
제2항에 있어서, 상기 기판은 상기 제2 플레이트의 상기 제1 플레이트 대향면 상에 놓이며, 상기 제1 플레이트에 상기 접지 장치가 연결되고, 상기 제2 플레이트에 상기 전원이 연결된 것을 특징으로 하는 막 증착 장치
4 4
제1항에 있어서, 상기 전기장 인가부는 해리된 상기 반응 가스로부터 핵생성 및 성장된 하전된 나노입자를 상기 기판까지 끌어오는 것을 특징으로 하는 막 증착 장치
5 5
제4항에 있어서, 상기 가스 공급계는 상기 하전된 나노입자의 이동을 돕는 캐리어 가스를 상기 챔버 내에 더 도입하며, 상기 캐리어 가스의 유량 조절을 통해 상기 하전된 나노입자의 이동속도를 조절하도록 가스 유량계를 포함하는 것을 특징으로 하는 막 증착 장치
6 6
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항의 기재에 따른 막 증착 장치를 이용하며,챔버에 기판을 장입하고 반응 가스를 도입하는 단계;발열체를 이용하여 상기 반응 가스를 해리시키는 단계;해리된 상기 반응 가스에서 핵생성이 일어나는 단계;상기 핵생성으로부터 생겨난 나노입자가 성장을 하면서 하전된 나노입자가 형성되는 단계; 및전기장 인가부를 이용해 상기 기판에 전기장을 인가하여 상기 하전된 나노입자를 상기 기판에 끌어당겨 막을 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 막 증착 방법
7 7
제6항에 있어서, 상기 방법으로 결정화 실리콘막, 탄소 나노 튜브 및 나노 와이어 중의 어느 하나를 증착하는 것을 특징으로 하는 막 증착 방법
8 8
제6항에 있어서, 상기 전기장의 극성을 주기적 또는 임의적으로 번갈아가며 인가하는 것을 특징으로 하는 막 증착 방법
지정국 정보가 없습니다
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1 KR100846718 KR 대한민국 FAMILY
2 US20100183818 US 미국 FAMILY
3 WO2008030047 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2010183818 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.