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나노 입자가 분산된 콜로이드 용액을 준비하는 단계;상기 콜로이드 용액을 알파-시누클레인 단백질과 혼합하여 배양시켜 상기 나노 입자와 상기 알파-시누클레인 단백질이 결합된 결합체(conjugate)를 형성시키는 단계;상기 결합체를 포함한 콜로이드 용액을 고분자 기판 상에 도포한 후 소정시간 유지시켜 상기 결합체를 상기 고분자 기판 상에 흡착시켜 결합체로 이루어진 필름을 형성하는 단계; 및상기 고분자 기판을 식각용액으로 선택적으로 제거하는 단계;를 포함하는, 나노 입자를 포함하는 자유기립형 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 고분자 기판은 폴리카보네이트를 포함하는, 나노 입자를 포함하는 자유기립형 필름의 제조방법
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제2항에 있어서, 상기 폴리카보네이트는 상기 결합체가 도포되는 영역에는 플라즈마 처리가 수행된 것인, 나노 입자를 포함하는 자유기립형 필름의 제조방법
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제2항에 있어서, 상기 식각용액은 클로로포름을 포함하는, 나노 입자를 포함하는 자유기립형 필름의 제조방법
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고분자 기판 상에 채널구조를 포함한 패턴이 형성된 몰드가 결합된 구조체를 준비하는 단계;상기 몰드의 채널구조로 나노 입자와 알파-시누클레인 단백질이 결합된 결합체를 포함하는 콜로이드를 주입한 후 소정시간 유지시키는 단계; 및 상기 몰드 및 상기 고분자 기판을 제거하는 단계;를 포함하고, 상기 알파-시누클레인 단백질이 결합된 결합체를 포함하는 콜로이드는,상기 나노 입자가 분산된 콜로이드 용액을 준비하는 단계;상기 콜로이드 용액을 알파-시누클레인 단백질과 혼합하여 배양시켜 상기 나노 입자와 상기 알파-시누클레인 단백질이 결합된 결합체(conjugate)를 형성시키는 단계;를 포함하는, 나노 입자를 포함하는 자유기립형 필름의 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 몰드 및 상기 고분자 기판을 제거하는 단계;는, 상기 몰드 및 상기 고분자 기판을 식각용액으로 선택적으로 제거하는 단계;를 포함하는, 나노 입자를 포함하는 자유기립형 필름의 제조방법
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제 1 영역 및 제 2 영역을 포함하는 고분자 기판을 준비하는 단계; 상기 고분자 기판의 상기 제 1 영역에 제 1 나노 입자와 알파-시누클레인 단백질이 결합된 결합체를 포함하는 콜로이드를 주입한 후 소정시간 유지시켜, 상기 결합체를 상기 고분자 기판 상에 흡착시켜 결합체로 이루어진 제 1 필름을 형성하는 단계;상기 고분자 기판의 상기 제 2 영역에 제 2 나노 입자와 알파-시누클레인 단백질이 결합된 결합체를 포함하는 콜로이드를 주입한 후 소정시간 유지시켜, 상기 결합체를 상기 고분자 기판 상에 흡착시켜 결합체로 이루어진 제 2 필름을 형성하는 단계; 및상기 고분자 기판을 제거하는 단계;를 포함하는, 나노 입자를 포함하는 자유기립형 필름의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 제 1 나노 입자는 상기 제 2 나노 입자보다 더 큰 나노 입자인, 나노입자를 포함하는 자유기립형 필름의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 알파-시누클레인 단백질이 결합된 결합체를 포함하는 콜로이드는,상기 제 1 나노 입자 또는 상기 제 2 나노 입자가 분산된 콜로이드 용액을 준비하는 단계; 및상기 콜로이드 용액을 알파-시누클레인 단백질과 혼합하여 배양시켜 상기 제 1 나노 입자 또는 상기 제 2 나노 입자와 상기 알파-시누클레인 단백질이 결합된 결합체(conjugate)를 형성시키는 단계;를 포함하는, 나노 입자를 포함하는 자유기립형 필름의 제조방법
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10
제 7 항에 있어서,상기 고분자 기판을 제거하는 단계;는,상기 고분자 기판을 식각용액으로 선택적으로 제거하는 단계;를 포함하는, 나노 입자를 포함하는 자유기립형 필름의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 나노 입자는 금속 나노 입자를 포함하는, 나노 입자를 포함하는 자유기립형 필름의 제조방법
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제 11 항에 있어서,상기 금속 나노 입자는 금 나노 입자를 포함하는, 나노 입자를 포함하는 자유기립형 필름의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 나노 입자는 자성 나노 입자를 포함하는, 나노 입자를 포함하는 자유기립형 필름의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 나노 입자는 양자점(quantum dot)을 포함하는, 나노 입자를 포함하는 자유기립형 필름의 제조방법
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