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진공챔버와 피코팅제와 전원공급부를 구비한 전도성 탄소계 나노구조 코팅장치에 있어서, 상기 진공챔버와 서로 대향되는 양측에 각각 구성되어 상기 피코팅재 상에 전도성 나노구조 탄소층을 합성하기 위한 제1 및 제2 타겟이 각각 장착된 제1 및 제2 마그네트론원, 상기 진공챔버 내에 진공챔버와 절연되도록 구성되며, 상기 전원공급부에서 공급된 직류 바이어스 전압(-)이 공급된 상태에서 상기 피코팅재를 회전시켜 상기 제1 및 제2 타겟으로부터 방출된 타겟 재료에 의해 전도성 나노구조 탄소층이 상기 피콩팅재 상에 합성되도록 하는 회전식 지그, 및 상기 전원공급부를 제어하여 상기 제1 및 제2 타겟에 동시 또는 어느 하나에만 직류 바이어스 전압(-)이 공급되도록 제어함과 동시에 상기 회전식 지그에 직류 바이어스 전압(-)이 공급되도록 제어하는 제어부를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅장치
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제1항에 있어서,상기 제1 및 제2 마그네트론원중 어느 하나에는 카본 타겟이 장착되고, 다른 하나에는 Pt, Cr, Si, W, Ti, Cu, Ni, Au, Ag, N중 어느 하나 또는 하나 이상이 타겟으로 장착되는 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅장치
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제1항에 있어서,상기 나노구조 탄소층은 카본과 Pt, Cr, Si, W, Ti, Cu, Ni, Au, Ag, N, H 중 어느 하나 또는 하나 이상이 합성되는 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅장치
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제3항에 있어서,상기 나노구조 탄소층은 수소를 함유하는 것과 그렇지 않은 것으로 합성되는 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅장치
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제1항, 제3항 또는 제4항중 어느 한 항에 있어서,상기 나노구조 탄소층은 비정질 탄소기지와 탄소 나노 클러스터로 형성됨을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅장치
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제5항에 있어서,상기 탄소 나노 클러스터는 불규칙적인 약 5~10㎚의 sp2 결합구조를 지니는 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅장치
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제1항에 있어서,상기 피코팅재와 나노구조 탄소층 사이에 중간층이 더 합성되는 것을 특징으로 하는 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅장치
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제7항에 있어서,상기 중간층과 나노구조 탄소층은 상기 피코팅재상에 다층으로 형성된 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅장치
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제7항 또는 제8항에 있어서,상기 중간층은 Pt, Cr, Si, W, Ti, Cu, Ni, Au, Ag중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅장치
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피코팅재, 회전식 저그, 제1 및 제2 마그네트론원을 구비하여 상기 피코팅재 상에 코팅을 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅방법에 있어서, 상기 제1 및 제2 마그네트론원에 각각 장착된 제1 및 제2 타겟에 동시 또는 어느 하나에만 직류 버이어스 전압(-)을 공급시에 전압을 제어하여 타겟 재료를 스퍼터링하는 단계, 및 상기 단계 이후에 각각 스퍼터링된 타겟 재료가 회전식 저그에 의해 회전되는 피코팅재 상에 합성되어 전도성 나노구조 탄소층을 형성하도록 하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅방법
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제10항에 있어서, 상기 제1 및 제2 타겟중 어느 하나에는 카본이 장착되고, 다른 하나에는 Pt, Cr, Si, W, Ti, Cu, Ni, Au, Ag, N중 어느 하나 또는 하나 이상이 장착되는 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅방법
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제10항에 있어서,상기 나노구조 탄소층은 카본과 Pt, Cr, Si, W, Ti, Cu, Ni, Au, Ag, N, H 중 어느 하나 또는 하나 이상이 합성된 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅방법
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제10항에 있어서,상기 나노구조 탄소층은 수소를 함유하는 것과 그렇지 않은 것으로 합성되는 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅방법
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제12항 또는 제13항 중 어느 한 항에 있어서,상기 나노구조 탄소층은 비정질 탄소기지와 탄소 나노 클러스터로 형성됨을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅방법
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제14항에 있어서,상기 탄소 나노 클러스터는 불규칙적인 약 5~10㎚의 sp2 결합구조를 지니는 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅방법
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피코팅재와, 회전식 지그와, 제1 및 제2 마그네트론원을 구비한 전도성 탄소계 나노구조 코팅방법에 있어서, 상기 제1 및 제2 마그네트론원에 각각 장착된 제1 및 제2 타겟중 어느 하나에 직류 바이어스 전압을 공급하여 타겟 재료를 스퍼터링하는 단계와; 상기 제1 및 제2 타겟중 어느 하나에서 스퍼터링된 타겟 재료에 의해 상기 회전식 지그에 의해 회전되는 피코팅재상에 중간층을 형성하는 단계와; 상기 제1 및 제2 마그네트론원에 각각 장착된 제1 및 제2 타겟에 동시에 직류 바이어스 전압을 공급하여 타겟 재료를 스퍼터링하는 단계와; 상기 제1 및 제2 타겟에서 각각 스퍼터링된 타겟 재료의 합성에 의해 상기 회전식 지그에 의해 회전되는 피코팅재상에 전도성 나노구조 탄소층을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅방법
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제16항에 있어서, 상기 제1 및 제2 타겟중 어느 하나에는 카본이 장착되고, 다른 하나에는 Pt, Cr, Si, W, Ti, Cu, Ni, Au, Ag, N중 어느 하나 또는 하나 이상이 장착되는 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅방법
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18
제16항에 있어서,상기 중간층은 Pt, Cr, Si, W, Ti, Cu, Ni, Au, Ag중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅방법
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제16항에 있어서,상기 나노구조 탄소층은 카본과 Pt, Cr, Si, W, Ti, Cu, Ni, Au, Ag, N, H 중 어느 하나 또는 하나 이상이 합성된 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅방법
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제16항에 있어서,상기 나노구조 탄소층은 수소를 함유하는 것과 그렇지 않은 것으로 합성되는 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅방법
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제16항, 제19항 또는 제20항중 어느 한 항에 있어서,상기 나노구조 탄소층은 비정질 탄소기지와 탄소 나노 클러스터로 형성됨을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅방법
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제21항에 있어서,상기 탄소 나노 클러스터는 불규칙적인 약 5~10㎚의 sp2 결합구조를 지니는 것을 특징으로 하는 전도성 탄소계 나노구조 코팅방법
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