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폴리머 주형, 그 제조방법, 이를 이용한 미세유체 채널 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2014046568
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 폴리머 주형, 그 제조방법, 이를 이용한 미세유체 채널 및 그 제조방법이 제공된다. 본 발명에 따른 폴리머 주형 제조방법은 곡면 구조의 폴리머 주형 제조방법으로, 기판에 포토레지스트를 도포하는 단계; 상기 포토레지스트를 제 1 열처리하는 단계; 상기 포토레지스트를 패터닝하여, 수직 구조의 폴리머 주형을 형성하는 단계; 상기 수직 구조의 폴리머 주형을 제 2 열처리하여, 상기 주형의 표면을 곡면으로 전환시키는 단계를 포함하며, 본 발명에 따른 폴리머 주형의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 폴리머 주형은 폴리머 내부에 존재하는 기포를 소정의 열처리를 통하여 제거시킴으로써 전체적으로 일정한 강도를 가지며, 우수한 곡면 구조를 갖는다. 더 나아가, 폴리머 주형 위에 금속 박막을 적층시킴으로써 폴리머-폴리머간 접착 문제를 제거할 수 있으며, 더 나아가 반응성 식각 공정에 의하여 위-아래가 연통하는 곡면 형상의 미세유체 채널을 제조할 수 있다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC H01L 21/0273(2013.01) H01L 21/0273(2013.01) H01L 21/0273(2013.01) H01L 21/0273(2013.01)
출원번호/일자 1020120030069 (2012.03.23)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1218486-0000 (2012.12.27)
공개번호/일자 10-2012-0034097 (2012.04.09) 문서열기
공고번호/일자 (20130121) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2010-0033293 (2010.04.12)
관련 출원번호 1020100033293
심사청구여부/일자 Y (2012.03.23)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 서태석 대한민국 대전 유성구
2 최종섭 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 다해 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로***, *층(삼성동,고운빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2012.03.23 수리 (Accepted) 1-1-2012-0236569-86
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.06.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0332366-91
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.06.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0460281-86
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.06.11 수리 (Accepted) 1-1-2012-0460280-30
5 등록결정서
Decision to grant
2012.12.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0770487-68
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
상부, 하부가 유체 연통하는 실린더 구조의 미세유체 채널 제조방법에 있어서, 상기 방법은(a) 포토레지스트층을 기판상에 도포하는 단계;(b) 상기 포토레지스트층을 단계별로 온도를 상승시키며 제 1 열처리하는 단계;(c) 상기 포토레지스트층을 노광한 후, 현상하여 수직 구조의 폴리머 주형을 제조하는 단계;(d) 상기 폴리머 주형을 제 2 열처리하여 상기 폴리머 주형의 수직 단면을 곡면 형태로 전환하여 실린더 구조의 폴리머 주형을 제조하는 단계;(e) 실린더 구조의 상기 폴리머 주형에 상기 폴리머 주형 높이 이상의 두께로 폴리머 전사층을 적층시키는 단계;(f) 상기 폴리머 전사층을 상기 폴리머 주형 높이 미만의 두께를 갖도록 식각하는 단계; 및(g) 상기 식각된 폴리머 전사층을 상기 폴리머 주형으로부터 분리시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세유체 채널 제조방법
2 2
삭제
3 3
제 1항에 있어서, 상기 제 1 열처리는 플레이트로 가열시키는 방식으로 수행되며, 상기 기판과 가열된 플레이트 사이의 이격거리를 순차적으로 감소시키는 것을 특징으로 하는 미세유체 채널 제조방법
4 4
제 1항에 있어서, 상기 포토레지스트는 양성 포토레지스트인 것을 특징으로 하는 미세유체 채널 제조방법
5 5
제 1항에 있어서, (f) 단계의 상기 식각은 반응성 이온 식각인 것을 특징으로 하는 미세유체 채널 제조방법
6 6
제 1항에 있어서,상기 (d) 단계 후 상기 실린더 구조의 폴리머 주형상에 금속 박막을 적층시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세유체 채널 제조방법
7 7
제 6항에 있어서,상기 금속 박막은 금을 포함하는 것을 특징으로 하는, 미세유체 채널 제조방법
8 8
제 1항에 있어서, 상기 포토레지스트층은 상기 기판에 스핀 코팅 방식으로 도포되는 것을 특징으로 하는, 미세유체 채널 제조방법
9 9
제 1항, 제 3항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의하여 제조되며, 상부, 하부가 유체 연통하는 실린더 구조의 미세유체 채널
10 10
제 9항에 따른 미세유체 채널에 소정 물질을 함유하는 유체를 흘림으로써, 상기 유체에 포함된 상기 물질만을 상기 채널 내에 가두는 것을 특징으로 하는 물질 분리방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR101187463 KR 대한민국 FAMILY

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