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유화중합법에 의해 고분자/실리케이트 나노복합체를 제조함에 있어서, 층상 실리케이트와, 고분자 중합반응에 제공될 소정의 단량체로부터 상기 층상 실리케이트와 친화력을 가지는 작용기를 보유한 반응형 유화제를 매개하여 초기입자를 형성하는 단계와, 상기 단계에 의해 형성된 초기 입자와 추가적으로 공급되는 단량체로부터 상기 형성된 입자의 안정화제를 이용하여 유화중합하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 박리형 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
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제 1항에 있어서, 층상 실리케이트는 평균적인 층간 간격이 7∼12Å 임을 특징으로 하는 박리형 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
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제 1항에 있어서, 층상 실리케이트는 몬모릴로나이트, 헥토라이트, 사포나이트, 플로오로헥토라이트의 군에서 선택된 적어도 1종을 포함함을 특징으로 하는 박리형 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
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제 1항에 있어서, 유화중합에 사용되는 개시제는 암모늄퍼설페이트, 포타슘퍼설페이트, 아조비스아이소니트릴, 벤질퍼옥사이드의 군에서 선택된 적어도 1종을 포함함을 특징으로 하는 박리형 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기에서 단량체는 스티렌 또는 스티렌 공중합체 임을 특징으로 하는 박리형 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
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제 1항에 있어서, 반응형 유화제는 중합을 매개하기 위한 비닐기를 구비함을 특징으로 하는 박리형 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
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제 1항 또는 제 6항에 있어서, 반응형 유화제는 아마이드기, 술폰기에서 선택된 적어도 1종의 작용기를 구비함을 특징으로 하는 박리형 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
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제 7항에 있어서, 상기 반응형 유화제는 2-아크릴아미도-2-메틸-1-프로판 술포닉산, (3-아크릴아미도프로필)트리메틸암모니움 클로라이드, [2-(아크릴로이록시)에틸]트리메틸암모니움 메틸 설페이트, 비닐벤질트리메틸암모니움 클로라이트, 3-아크릴아미도-3-메틸부틸트리메틸-암모니움 클로라이드, N,N-디알킬아미노에틸 아크릴레이트, N,N-디알킬아미노에틸 메타크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸 아크릴레이트, N,N-디메틸아미토에틸 메타크릴레이트, N,N-디메틸아미노메틸 아크릴아미드, N,N-디메틸아미노프로필 메타크릴아미드, 2-메타크릴아미도프로필트리메틸암모니움 클로라이드의 군에서 선택된 적어도 1종을 포함함을 특징으로 하는 박리형 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 안정화제는 주쇄가 알킬기 또는 에틸렌옥사이드로 구성되는 선형 알킬벤젠 설포네이트 계열의 음이온 유화제, 비이온성 유화제, 로진비누, 지방비누의 군에서 선택된 적어도 1종을 포함함을 특징으로 하는 박리형 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
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제 5항에 있어서, 상기 스티렌 공중합체는 스티렌과 메틸 메타크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 부타디엔, 이소부틸 아크릴레이트, 이소프렌, 하이드록시에틸메틸아크릴레이트의 군에서 선택된 적어도 1종의 단량체와 혼합된 공중합체임을 특징으로 하는 박리형 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
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제 9항에 있어서, 상기 음이온 유화제는 도데실 벤젠술포닉에시드 소듐염, 라우릴에시드 소듐염, 데실술포닉에시드 소듐염, 도데실술포닉에시드 소듐염, 로진의 군에서 선택된 적어도 1종을 포함함을 특징으로 하는 박리형 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
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제 9항에 있어서, 상기 비이온성 유화제는 N-트리에톡시레이티드노난아마이드, 데실메틸설폭사이드, 베타-도데실말토사이드의 군에서 선택된 적어도 1종을 포함함을 특징으로 하는 박리형 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
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