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초소수성 표면을 포함하는 펩타이드 나노구조체의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015113680
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 펩타이드의 자기조립을 이용한 초소수성 표면을 포함하는 펩타이드 나노구조체의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 기판상에 비정질 펩타이드 박막을 대면적 또는 선택적으로 형성시킨 다음, 고온에서 상기 형성된 비정질 펩타이드 박막에 펜타플루오로아닐린 증기를 접촉시킴으로써 펩타이드 나노구조체를 대면적 또는 선택적으로 고체상에서 자기조립시키는 초소수성 표면을 포함하는 펩타이드 나노구조체의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 펩타이드 자기조립 원리를 이용하여 간단한 공정으로 초소수성 물질을 제조할 수 있고, 제조공정 중 소수성 특성을 제어할 수 있어 용도에 따라 적합한 초소수성 물질을 제조할 수 있다.초소수성, 펜타플루오로아닐린, 펩타이드, 다이페닐알라닌, 자기조립, 나노구조체
Int. CL B82B 1/00 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC B01J 2/30(2013.01)B01J 2/30(2013.01)B01J 2/30(2013.01)B01J 2/30(2013.01)B01J 2/30(2013.01)B01J 2/30(2013.01)
출원번호/일자 1020090120646 (2009.12.07)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1136504-0000 (2012.04.06)
공개번호/일자 10-2011-0064160 (2011.06.15) 문서열기
공고번호/일자 (20120417) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.12.07)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박찬범 대한민국 대전광역시 유성구
2 이준석 대한민국 인천광역시 계양구
3 유정기 대한민국 강원도 철원군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이처영 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, **층 (역삼동, 윤익빌딩)(*T국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.12.07 수리 (Accepted) 1-1-2009-0754692-17
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.04.19 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.05.17 수리 (Accepted) 9-1-2011-0042103-04
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.08.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0446488-13
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.09.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0735025-42
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.09.21 수리 (Accepted) 1-1-2011-0735026-98
7 등록결정서
Decision to grant
2012.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0192636-73
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다음 단계를 포함하는, 초소수성 표면을 포함하는 펩타이드 나노구조체의 제조방법:(a) 휘발성 유기용매에 자기조립을 유발하는 펩타이드를 용해시킨 다음, 기판에 도포하여 비정질 펩타이드 박막을 형성시키는 단계; 및(b) 상기 비정질 펩타이드 박막을 펩타이드의 열분해온도 이하의 온도에서 펜타플루오로아닐린(pentafluoroaniline) 증기로 처리하여, 상기 펩타이드의 자기조립을 통해 초소수성 표면을 포함하는 펩타이드 나노구조체로 성장되도록 하는 단계
2 2
다음 단계를 포함하는, 자가세정형 초소수성 표면을 포함하는 펩타이드 나노구조체의 제조방법:(a) 휘발성 유기용매에 자기조립을 유발하는 펩타이드를 용해시킨 다음, 기판에 도포하여 비정질 펩타이드 박막을 형성시키는 단계;(b) 상기 비정질 펩타이드 박막을 펩타이드의 열분해온도 이하의 온도에서 펜타플루오로아닐린(pentafluoroaniline) 증기로 처리하여, 상기 펩타이드의 자기조립을 통해 초소수성 표면을 포함하는 펩타이드 나노구조체로 성장되도록 하는 단계; 및(c) 상기 초소수성 표면을 포함하는 펩타이드 나노구조체를 급속 냉각시켜 계층적 구조(hierarchical nano/microstructures)를 형성함으로써, 자가세정형 초소수성 표면을 포함하는 펩타이드 나노구조체를 제조하는 단계
3 3
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 휘발성 유기용매는 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, HFIP), 트리플루오로아세트산(trifluoroacetic acid) 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
4 4
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 펩타이드는 소수성 디펩타이드 또는 그의 유도체인 것을 특징으로 하는 방법
5 5
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 기판은 결정질 또는 비정질의 금속 및 세라믹으로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
6 6
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 (a) 단계에서 펩타이드는 휘발성 유기용매 100중량부에 대하여, 0
7 7
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 (a) 단계는 선택적 영역에 비정질 펩타이드 박막을 형성하기 위해 소프트 리소그라피(soft lithography) 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 소프트 리소그라피(soft lithography) 단계는 마이크로 컨택프린팅(microcontact printing)방식 또는 용매 보조 마이크로몰딩(solvent assisted micro molding, SAMIM)방식을 이용하는 것을 특징으로 하는 방법
9 9
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 (b) 단계의 온도는 100℃~250℃인 것을 특징으로 하는 방법
10 10
제2항에 있어서, 상기 급속 냉각시 온도는 50℃~80℃인 것을 특징으로 하는 방법
11 11
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 펜타플루오로아닐린(pentafluoroaniline) 증기로 처리하는 방식은 펜타플루오로아닐린 증기를 비정질 펩타이드 박막에 접촉시키는 것을 특징으로 하는 방법
12 12
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 비정질 펩타이드 박막의 두께는 0
13 13
다음 단계를 포함하는, 초소수성 표면을 포함하는 다이페닐알라닌 나노구조체의 제조방법:(a) 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올에 다이페닐알라닌을 용해시킨 다음, 기판에 도포하여 비정질 다이페닐알라닌 박막을 형성시키는 단계; 및(b) 상기 비정질 다이페닐알라닌 박막을 100~250℃에서 펜타플루오로아닐린 증기로 처리하여 상기 다이페닐알라닌의 자기조립을 통해 대면적 영역에서 초소수성 표면을 포함하는 다이페닐알라닌 나노구조체로 성장되도록 하는 단계
14 14
다음 단계를 포함하는, 자가세정형 초소수성 표면을 포함하는 다이페닐알라닌 나노구조체의 제조방법:(a) 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올에 다이페닐알라닌을 용해시킨 다음, 기판에 도포하여 비정질 다이페닐알라닌 박막을 형성시키는 단계;(b) 상기 비정질 다이페닐알라닌 박막을 100~250℃에서 펜타플루오로아닐린 증기로 처리하여 상기 다이페닐알라닌의 자기조립을 통해 대면적 영역에서 초소수성 표면을 포함하는 다이페닐알라닌 나노구조체로 성장되도록 하는 단계; 및 (c) 상기 초소수성 표면을 포함하는 다이페닐알라닌 나노구조체를 50~80℃로 급속 냉각시켜 계층적 구조를 형성함으로써, 자가세정형 초소수성 표면을 포함하는 다이페닐알라닌 나노구조체를 제조하는 단계
15 15
제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 기판은 결정질 또는 비정질의 금속 및 세라믹으로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
16 16
제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 (a) 단계에서 다이페닐알라닌은 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올 100중량부에 대하여, 0
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1 한국과학재단 한국과학기술원 국가지정연구실사업 전기 및 광화학적 보조인자 재생을 이용한 고효율 산화환원 효소공정개발