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스크린 마스크와 연성몰드를 이용한 다중 미세 형상제조방법

  • 기술번호 : KST2015112289
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 스크린 마스크와 연성몰드를 이용한 다중 미세 형상을 제조하는 방법에 관한 것으로서 보다 상세하게는 다양한 형상을 지닌 스크린 마스크를 다양한 모양을 지닌 연성몰드에 접합시킨 복합몰드를 이용하여 한번의 공정으로 반도체 집적회로, 전기전자 소자, 마이크로 머시닝, 미세 센서 등의 제조에 사용할 수 있는 다중 미세 형상을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 다중 미세 형상의 제조방법은 다중 미세 형상을 제조함에 있어서, 기판 위에 광경화 고분자를 도포한 후 광을 조사하여 광경화 고분자가 흐름성을 가지도록 하는 단계, 흐름성을 가진 광경화 고분자 위에 복합몰드를 접촉시켜 모세관 현상에 의해 광경화 고분자를 복합몰드로 확산시켜 미세 형상을 형성하는 단계, 광경화 고분자가 복합몰드로 확산된 후 광을 조사하여 고분자를 경화시킨 다음 복합몰드를 제거하는 단계를 포함한다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 7/0002(2013.01)
출원번호/일자 1020040074734 (2004.09.17)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0636363-0000 (2006.10.12)
공개번호/일자 10-2006-0025877 (2006.03.22) 문서열기
공고번호/일자 (20061019) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.09.17)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최원묵 대한민국 대전광역시 유성구
2 박오옥 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 황이남 대한민국 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2004.09.17 수리 (Accepted) 1-1-2004-0423725-78
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.03.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0158737-92
3 의견서
Written Opinion
2006.05.22 수리 (Accepted) 1-1-2006-0356490-52
4 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.05.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0356489-16
5 등록결정서
Decision to grant
2006.07.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0432759-46
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다중 미세형상을 제조하는 방법에 있어서,기판 위에 광경화 고분자를 도포한 후 광을 조사하여 광경화 고분자가 흐름성을 가지도록 하는 단계;흐름성을 가진 광경화 고분자 위에 연성몰드 하부에 원하는 형상을 얻을 수 있도록 스크린 마스크가 구비된 복합몰드를 접촉시켜 모세관 현상에 의해 광경화 고분자를 상기 복합몰드로 확산시켜 미세형상을 형성하는 단계;광경화 고분자가 복합몰드로 확산된 후 광을 조사하여 고분자를 경화시킨 다음 복합몰드를 제거하는 단계를 포함하는 다중 미세 형상의 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 기판은 실리콘, 반도체, 금속, 금속산화물, 유기물 중에서 선택된 어느 1종의 물질 임을 특징으로 하는 다중 미세 형상의 제조방법
3 3
제1항에 있어서, 광경화 고분자는 광개시제를 1
4 4
제1항에 있어서, 광경화 고분자는 폴리스티렌, 폴리알파메틸스티렌, 폴리메틸메티크릴레이트, 폴리벤질메타크릴레이트, 폴리페닐메타크릴레이트, 폴리헥사네디올디아크릴레이트, 폴리우레탄 중에서 선택된 어느 하나 임을 특징으로 하는 다중 미세 형상의 제조방법
5 5
제1항에 있어서, 광경화 고분자는 메틸메타크릴레이트-벤질메타크릴레이트 공중합체, 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체, 메틸메타크릴레이트-2,2,2트리플루오로에틸메타크릴레이트 공중합체, 메틸메타크릴레이트-2,2,3,3,3펜타플루오로프로필메타크릴레이트 공중합체, 2,2,2트리플루오로에틸메타크릴레이트-2,2,3,3,3펜타플루오로프로필메타크릴레이트 공중합체, 2,2,2트리플루오로에틸메타크릴레이트-(헥사플루오로이소메타크릴레이트) 공중합체, 스티렌-메틸메타크릴레이트 공중합체, 2,2,2트리플루오로에틸메타크릴레이트-(헵타플루오로부틸메타크릴레이트) 공중합체 중에서 선택된 어느 하나 임을 특징으로 하는 다중 미세 형상의 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 광경화 고분자는 점도를 2000cP∼4000cP으로 유지하여 흐름성을 갖도록 함을 특징으로 하는 다중 미세 형상의 제조방법
7 7
제1항에 있어서, 복합몰드는 연성몰드와 스크린 마스크로 이루어진 것임을 특징으로 하는 다중 미세 형상의 제조방법
8 8
제1항에 있어서, 연성몰드 하부에 스크린 마스크가 구비된 복합몰드를 광경화 고분자 위에 접촉시킴을 특징으로 하는 다중 미세 형상의 제조방법
9 9
제1항에 있어서, 복합몰드 중 스크린 마스크의 형상 크기는 연성몰드의 형상 크기 보다 큰 것을 특징으로 하는 다중 미세 형상의 제조방법
10 10
제1항에 있어서, 복합몰드 중 스크린 마스크의 형상 크기는 1∼200㎛ 임을 특징으로 하는 다중 미세 형상의 제조방법
11 11
제1항에 있어서, 복합몰드 중 연성몰드의 형상 크기는 100nm∼20㎛ 임을 특징으로 하는 다중 미세 형상의 제조방법
12 12
제7항에 있어서, 연성몰드의 재질은 폴리디메틸실록산, 폴리디헥실실록산, 폴리디페닐실록산, 폴리디프로필실록산, 폴리메틸페닐실록산, 폴리우레탄 중에서 선택된 어느 하나 임을 특징으로 하는 다중 미세 형상의 제조방법
13 13
제7항에 있어서, 스크린 마스크의 재질은 금속 또는 고분자 임을 특징으로 하는 다중 미세 형상의 제조방법
14 14
다중 미세 형상을 기판에 전사하는 방법에 있어서, 특허청구범위 제1항의 방법에 의해 제조한 다중 미세 형상을 마스크로 사용함을 특징으로 하는 다중 미세 형상을 기판에 전사하는 방법
15 14
다중 미세 형상을 기판에 전사하는 방법에 있어서, 특허청구범위 제1항의 방법에 의해 제조한 다중 미세 형상을 마스크로 사용함을 특징으로 하는 다중 미세 형상을 기판에 전사하는 방법
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