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할로겐화귀금속을 선구물질로 하여, 상기 선구물질을 반응로 전단부에 위치시키고, 단결정 기판을 반응로 후단에 위치시켜, 일정한 압력하에 상기 반응로 전단부에서 상기 반응로 후단부로 불활성 기체가 흐르는 조건에서 열처리하여 상기 단결정 기판상에 상기 단결정 기판과 에피텍샬 관계를 갖는 귀금속 나노와이어가 제조되며, 상기 선구물질의 온도를 제어하여 상기 기판 표면을 기준으로 한 상기 귀금속 나노와이어의 장축 방향이 제어되는 것을 특징으로 하는 귀금속 나노와이어의 제조방법
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제 1항에 있어서,
상기 할로겐화귀금속은 염화귀금속, 브롬화귀금속, 요오드화귀금속 또는 플루오르화귀금속인 것을 특징으로 하는 귀금속 나노와이어의 제조방법
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3
제 1항에 있어서,
상기 압력은 0
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4
제 3항에 있어서,
상기 불활성 기체 유량은 200 내지 300 sccm 인 것을 특징으로 하는 귀금속 나노와이어의 제조방법
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5
제 4항에 있어서,
상기 기판의 온도는 제조 대상인 귀금속 나노와이어의 귀금속 물질 Tm(melting point(℃))을 기준으로 0
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6
제 5항에 있어서,
상기 선구물질의 온도는 상기 선구물질의 녹는점(melting point(℃)) 또는 분해점(decomposition point(℃)) 중 낮은 온도를 기준으로 0
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7
제 5항에 있어서,
상기 선구물질의 온도는 상기 선구물질의 녹는점(melting point(℃)) 또는 분해점(decomposition point(℃)) 중 낮은 온도를 기준으로 1
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8
제 1항에 있어서,
상기 기판은 제조하고자 하는 귀금속 나노와이어의 귀금속 물질과 에피텍샬을 형성하는 기판인 것을 특징으로 하는 귀금속 나노와이어의 제조방법
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9
제 5항 내지 제 7항에서 선택된 어느 한 항에 있어서,
상기 선구물질은 염화플래티늄, 브롬화플래티늄, 요오드화플래티늄 또는 플루오르화플래티늄이며, 상기 귀금속 나노와이어는 Pt 나노와이어인 것을 특징으로 하는 귀금속 나노와이어의 제조방법
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10
제 9항에 있어서,
상기 기판의 온도는 850 내지 1000℃인 것을 특징으로 하는 귀금속 나노와이어의 제조방법
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11
제 10항에 있어서,
상기 선구물질은 염화플래티늄이며, 상기 선구물질의 온도가 400 내지 500℃로 제어되어 Pt 나노와이어의 장축 방향이 상기 기판의 표면과 수직인 수직 Pt 나노와이어가 형성되는 것을 특징으로 하는 귀금속 나노와이어의 제조방법
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12
제 10항에 있어서,
상기 선구물질은 염화플래티늄이며, 상기 선구물질의 온도가 800 내지 900℃로 제어되어 Pt 나노와이어의 장축 방향이 상기 기판의 표면과 평행한 수평 Pt 나노와이어가 형성되는 것을 특징으로 하는 귀금속 나노와이어의 제조방법
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13
제 9항에 있어서,
상기 기판은 c면을 표면으로 갖는 사파이어 단결정 기판인 것을 특징으로 하는 귀금속 나노와이어의 제조방법
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14
무-촉매, 무-템플레이트(template)로, 단결정 기판의 표면과 에피텍샬 관계(epitaxial relation)를 가지고, 나노와이어의 장축이 상기 기판 표면에 대해 수직 또는 수평의 관계를 가지며 상기 기판 표면에 버팀 없이 서 있는(free standing) 단결정체의 Pt 나노와이어
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15
제 14항에 있어서,
상기 Pt 나노와이어는 트윈(twin)을 포함하는 면결함이 없는 단결정체인 것을 특징으로 하는 Pt 나노와이어
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16
제 14항에 있어서,
상기 Pt 나노와이어의 장축은 [110] 방향인 것을 특징으로 하는 Pt 나노와이어
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