요약 | 본 발명은 공간 광변조기를 이용한 리소그라피 장치를 이용한 리소그라피 방법에 관한 것으로, 대상물에 일정 간격으로 빔을 조사하고, 일정 간격들의 사이 공간들에 추가로 빔을 조사하는 단계를 구비하며, 조사된 빔들이 임계 치를 넘는 부분만 전사되는 방식으로 광의 분해능의 한계 보다 미세한 패턴을 형성할 수 있는 리소그라피 방법을 제공한다. |
---|---|
Int. CL | H01L 21/027 (2006.01) |
CPC | H01L 21/0275(2013.01) H01L 21/0275(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020100025301 (2010.03.22) |
출원인 | 한국과학기술원 |
등록번호/일자 | 10-1250446-0000 (2013.03.28) |
공개번호/일자 | 10-2011-0106079 (2011.09.28) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20130408) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2010.03.22) |
심사청구항수 | 2 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 조용훈 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
2 | Isnaeni | 인도네시아 | (***-***)대전 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 정태훈 | 대한민국 | 서울특별시 송파구 법원로 ***, A동 ****호(문정동, 엠스테이트)(특허법인 티앤아이) |
2 | 진수정 | 대한민국 | 서울특별시 송파구 법원로 ***, A동 ****호(문정동, 엠스테이트)(특허법인 티앤아이) |
3 | 배성호 | 대한민국 | 경상북도 경산시 박물관로*길**, ***호(사동, 태화타워팰리스)(특허법인 티앤아이(경상북도분사무소)) |
4 | 오용수 | 대한민국 | 서울특별시 송파구 법원로 ***, A동 ****호(문정동, 엠스테이트)(특허법인 티앤아이) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술원 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2010.03.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0179846-88 |
2 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2011.07.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0416622-98 |
3 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2011.09.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0754272-03 |
4 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2011.10.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0843731-13 |
5 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2011.10.27 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0843732-69 |
6 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2012.03.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0181818-28 |
7 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2012.05.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0428547-85 |
8 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2012.06.28 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0517841-69 |
9 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2012.06.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0517839-77 |
10 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2012.11.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0732643-15 |
11 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2013.01.31 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2013-0094360-99 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
13 | 등록결정서 Decision to grant |
2013.03.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0203850-20 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
15 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
16 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
17 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
18 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
19 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 삭제 |
2 |
2 삭제 |
3 |
3 공간 광변조기를 이용한 리소그라피 방법에 있어서,대상물의 제1 영역에 공간 광변조된 빔을 조사하는 단계;추가로, 상기 대상물의 제2 영역에 공간 광변조된 빔을 조사하는 단계로서, 상기 제1 영역과 제2 영역은 적어도 일부분이 입체적으로 연결되어 있는 단계; 및 빔이 조사된 상기 대상물의 상기 제1 및 제2 영역 이외의 영역을 제거함으로써, 상기 대상물에 입체적인 형상을 전사하는 단계를 구비하는 공간 광변조기를 이용한 리소그라피 방법 |
4 |
4 제3 항에 있어서,상기 대상물은 폴리머 계열 수지이고, 빔에 의해 조사된 상기 대상물의 상기 제1 및 제2 영역은 경화되는 공간 광변조기를 이용한 리소그라피 방법 |
5 |
5 삭제 |
6 |
6 삭제 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
패밀리정보가 없습니다 |
---|
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
특허 등록번호 | 10-1250446-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20100322 출원 번호 : 1020100025301 공고 연월일 : 20130408 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20130326 청구범위의 항수 : 2 유별 : H01L 21/027 발명의 명칭 : 공간 광변조기를 이용한 리소그라피 방법 존속기간(예정)만료일 : 20170329 |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 61,500 원 | 2013년 03월 29일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 58,800 원 | 2016년 02월 25일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2010.03.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0179846-88 |
2 | 의견제출통지서 | 2011.07.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0416622-98 |
3 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2011.09.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0754272-03 |
4 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2011.10.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0843731-13 |
5 | [명세서등 보정]보정서 | 2011.10.27 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0843732-69 |
6 | 의견제출통지서 | 2012.03.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0181818-28 |
7 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2012.05.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0428547-85 |
8 | [명세서등 보정]보정서 | 2012.06.28 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0517841-69 |
9 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2012.06.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0517839-77 |
10 | 의견제출통지서 | 2012.11.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0732643-15 |
11 | [명세서등 보정]보정서 | 2013.01.31 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2013-0094360-99 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
13 | 등록결정서 | 2013.03.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0203850-20 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
15 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
16 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
17 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
18 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
19 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
기술정보가 없습니다 |
---|
과제고유번호 | 1345099518 |
---|---|
세부과제번호 | 2005-0052409 |
연구과제명 | 나노-바이오-포토닉스기술및응용 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
성과제출연도 | 2009 |
연구기간 | 200504~201003 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1345120853 |
---|---|
세부과제번호 | 2008-2002981 |
연구과제명 | 나노양자점을 이용한 단광자 방출기 특성 연구 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
성과제출연도 | 2010 |
연구기간 | 200806~201105 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1711005593 |
---|---|
세부과제번호 | KINC01 |
연구과제명 | 그래핀 합성, 물성제어 및 응용 소자 원천기술 연구 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 미래창조과학부 |
연구관리전문기관명 | |
연구주관기관명 | |
성과제출연도 | 2013 |
연구기간 | 201201~201612 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1711005615 |
---|---|
세부과제번호 | N01130026 |
연구과제명 | InGaN 나노구조를 이용한 고효율 무형광체 백색 발광다이오드 개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 미래창조과학부 |
연구관리전문기관명 | |
연구주관기관명 | |
성과제출연도 | 2013 |
연구기간 | 201201~201312 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
[1020130137848] | 양자광 소자 및 이의 제조방법 | 새창보기 |
---|---|---|
[1020130127275] | 고품질 그래핀 양자점 및 이의 제조방법 | 새창보기 |
[1020130122447] | 2차원 구조 물질층 전사 방법 | 새창보기 |
[1020130119295] | 양자구조를 포함하는 나노구조체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 광자 방출 소자 | 새창보기 |
[1020130104777] | 2차원 구조를 갖는 전이금속 칼코게나이드의 발광특성 제어방법 | 새창보기 |
[1020130103267] | 저항형 메모리 장치 및 그 형성 방법 | 새창보기 |
[1020130101520] | 박편화된 몰리브덴 칼코게나이드 및 이의 제조방법 | 새창보기 |
[1020130096902] | 은 나노와이어 제조방법 | 새창보기 |
[1020130080847] | 탄소기반 자기조립층의 열처리를 통한 고품질 그래핀의 제조 방법 | 새창보기 |
[1020130066687] | 금속 나노와이어 분산용액의 제조방법 및 이를 이용한 투명도전체의 제조방법 | 새창보기 |
[1020130064491] | 발광 소자 | 새창보기 |
[1020130031246] | 고효율과 고명암비를 갖는 유기 발광 소자 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 | 새창보기 |
[1020130022743] | 그래핀을 포함하는 다층구조체 및 이의 제조방법 | 새창보기 |
[1020120036867] | 태양 전지의 전력 변환 효율 증가를 위한 집광기 일체형 빛 가둠 장치 | 새창보기 |
[1020110136214] | 발광 다이오드를 이용한 디스플레이 패널 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[1020110131467] | 고명암비 유기 발광 소자 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 | 새창보기 |
[1020110110151] | 이온성 고분자 작동기 및 그 제조 방법 | 새창보기 |
[1020110108341] | 생체적합성 바이오 고분자 작동기 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[1020110103674] | 전기방사 장치, 전기방사 장치를 지지하는 지지대, 정렬된 나노 섬유 및 그의 제조 방법 | 새창보기 |
[1020110067847] | 유기 발광 소자 및 유기 발광 소자를 포함하는 디스플레이 장치 | 새창보기 |
[1020110024538] | 투명 디스플레이 장치 | 새창보기 |
[1020100101466] | 유기 발광 소자, 유기 발광 소자를 포함하는 조명 장치, 및 유기 발광 소자를 포함하는 디스플레이 장치 | 새창보기 |
[1020100025301] | 공간 광변조기를 이용한 리소그라피 방법 | 새창보기 |
[1020090040943] | 발광체가 포함된 광대역광 발생장치, 이를 이용한 광대역 광원 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014046962][한국과학기술원] | 헤테로다인 광간섭 노광 | 새창보기 |
---|---|---|
[KST2014046966][한국과학기술원] | 패턴 제조 방법 및 패턴 전사 장치, 이를 적용한 플렉서블 디스플레이 패널, 플렉서블 태양전지, 전자책, 박막 트랜지스터, 전자파 차폐시트, 플렉서블 인쇄회로기판 | 새창보기 |
[KST2015112289][한국과학기술원] | 스크린 마스크와 연성몰드를 이용한 다중 미세 형상제조방법 | 새창보기 |
[KST2014046882][한국과학기술원] | 레이저를 이용한 그래핀 반도체 소자 제조방법, 이에 의하여 제조된 그래핀 반도체 소자, 및 그래핀 반도체 소자를 포함하는 그래핀 트랜지스터 | 새창보기 |
[KST2014047235][한국과학기술원] | LCP를 이용한 플렉서블 전자소자 제조방법 및 이를 이용한 플렉서블 메모리 소자 제조방법 | 새창보기 |
[KST2015112161][한국과학기술원] | 나노 트랜스퍼 몰딩 및 마스터 기판을 이용한리소그래피의 방법과 나노 트랜스퍼 몰드 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2015112954][한국과학기술원] | 진동부가 충진을 통한 고종횡비 미세 패턴제작방법 | 새창보기 |
[KST2014012437][한국과학기술원] | 고분자 몰드를 이용하여 다양한 미세 패턴을 형성하는 방법 | 새창보기 |
[KST2014044817][한국과학기술원] | 폴리머 또는 레지스트 패턴 및 이를 이용한 금속 박막 패턴, 금속 패턴, 플라스틱 몰드 및 이들의 형성방법 | 새창보기 |
[KST2015113030][한국과학기술원] | 잉크젯 프린터를 이용한 세라믹 박막 제조 방법 및 그시스템 | 새창보기 |
[KST2014046902][한국과학기술원] | 대규모 폴리곤의 래스터화를 통한 마스크리스 노광 | 새창보기 |
[KST2014046918][한국과학기술원] | 패턴전사방법 | 새창보기 |
[KST2014046919][한국과학기술원] | 패턴형성방법 | 새창보기 |
[KST2015112087][한국과학기술원] | 나노미터 수준으로 패턴화된 고분자 박막의 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2015112691][한국과학기술원] | 대면적 고하중을 위한 틸트 스테이지 | 새창보기 |
[KST2015112982][한국과학기술원] | 노광 장치, 노광 방법 및 그에 따른 패턴 형성방법 | 새창보기 |
[KST2015113136][한국과학기술원] | 3차원 집적회로 집적화 시 상부 층 실리콘의 품질을 유지하기 위한 웨이퍼 가공 방법 | 새창보기 |
[KST2014047250][한국과학기술원] | 저온 비젖음 현상과 극미세 패턴을 갖는 템플렛을 이용한 표면증강라만분광측정용대면적금속나노섬형성 방법. | 새창보기 |
[KST2014067219][한국과학기술원] | [차세대 디스플레이]UV 레이저를 사용한 미세 금속배선 형성 방법 | 새창보기 |
[KST2015113053][한국과학기술원] | 초소수성 및 초발수성 표면을 갖는 패턴 및 그 형성방법 | 새창보기 |
[KST2015113114][한국과학기술원] | 3차원 IC 집적화 시 두께 및 하부 층 구조에 무관한 웨이퍼 얼라인먼트 방법 | 새창보기 |
[KST2014007800][한국과학기술원] | 폴리머 패턴 및 이를 이요한 금속 박막 패턴, 금속 패턴, 플라스틱 몰드 구조 및 이들의 형성방법 | 새창보기 |
[KST2014046968][한국과학기술원] | 소수성 코팅층 선택적 제거 방법 | 새창보기 |
[KST2015112086][한국과학기술원] | 미세전자 및 광학소자제작에 유용한 규칙적인 양각 패턴의형성방법 | 새창보기 |
[KST2015112266][한국과학기술원] | 스핀 코팅 장치 및 방법 | 새창보기 |
[KST2015113051][한국과학기술원] | 진동부가를 통한 패턴제작방법 | 새창보기 |
[KST2014046568][한국과학기술원] | 폴리머 주형, 그 제조방법, 이를 이용한 미세유체 채널 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014047049][한국과학기술원] | 스트럭처드 주문형 반도체의 레이어 리소그래피 방법, 설계 방법 및 이에 사용되는 타일 마스크 셋 | 새창보기 |
[KST2015112994][한국과학기술원] | 3차원 미세패턴 형성장치 | 새창보기 |
[KST2015112549][한국과학기술원] | 반사형 표시소자 및 광도파로의 응용을 위한 픽셀화된 광결정 필름 및 그의 제조방법 | 새창보기 |
심판사항 정보가 없습니다 |
---|