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형태가 조절된 금 나노 입자 제조방법

  • 기술번호 : KST2015113908
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 형태가 조절된 다양한 결정형의 금 나노 입자의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 금염, 용매, 분산 안정제 및 반응 조절제를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 반응 조절제의 양 또는 반응시간과 같은 반응 조건을 제어함으로써 다양한 형태의 금 나노 입자를 제조할 수 있고, 제조된 금 나노 입자는 촉매, 바이오 센서, 세포 이미징, 및 광전 소자에 광범위하게 활용될 수 있다.
Int. CL B82B 3/00 (2006.01) C01G 7/00 (2006.01)
CPC B22F 1/0044(2013.01) B22F 1/0044(2013.01) B22F 1/0044(2013.01)
출원번호/일자 1020100006904 (2010.01.26)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2011-0087470 (2011.08.03) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.01.26)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박오옥 대한민국 대전광역시 유성구
2 임상혁 대한민국 대전광역시 유성구
3 김도엽 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이숙열 대한민국 경기도 성남시 분당구 백현로(리오특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.01.26 수리 (Accepted) 1-1-2010-0052826-86
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.05.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.06.17 수리 (Accepted) 9-1-2011-0052143-09
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.10.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0606735-05
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.12.20 수리 (Accepted) 1-1-2011-1013803-46
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.01.20 수리 (Accepted) 1-1-2012-0056338-79
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.01.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0056358-82
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.07.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0442168-59
9 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)
2012.08.30 수리 (Accepted) 7-1-2012-0040657-05
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
금 나노 입자의 제조방법에 있어서,(a) 금염, 분산 안정제 및 반응 조절제를 용매에 용해하여 반응 용액을 형성하는 단계; 및 (b) 상기 반응 용액을 가열하는 단계를 포함하되, 상기 반응 조절제는 반응 단계에서 염이온의 농도를 조절하여 금 나노 입자에서의 다중쌍정입자(multiply twinned particle)의 생성을 억제하는 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 금염은 HAuCl4, AuCl, AuCl3, Au4Cl8, KAuCl4, NaAuCl4, NaAuBr4, AuBr3, AuBr, AuF3, AuF5, AuI, AuI3, KAu(CN)2, Au2O3, Au2S, Au2S3, AuSe, Au2Se3, AuTe2 에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
3 3
제1항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 금염은 8 μM 이상 2
4 4
제1항에 있어서, 상기 분산 안정제는 폴리비닐피롤리돈, 폴리에틸렌글리콜, 셀룰로우즈, 폴리아크릴아마이드, 폴리아크릴산, 폴리비닐알콜, 셀룰로우즈 및 이들의 유도체에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
5 5
제1항 또는 제 4항에 있어서, 상기 분산 안정제는 9 μM 이상 3 mM 이하의 범위에서 제어되는 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
6 6
제 1항에 있어서, 상기 반응 조절제는 Cl, Br, I, F, CN, S, Se 및 Te기를 가진 무기염 또는 유기염 중에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
7 7
제 4 항에 있어서, 상기 무기염은 NaCl, NaBr, NaF, NaI, KCl, KBr, KF, KI, Na2S, K2S 및 Na2SeSO3 중에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
8 8
제4항에 있어서, 상기 유기염은 NaCN, KCN, CuSCN, CTAB(cethyl trimethyl ammonium bromide) 및 CTAC (cethyl trimethyl ammonium chloride) 중에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
9 9
제 1항에 있어서, 상기 반응 조절제는 산소인 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
10 10
제 1항에 있어서, 상기 반응 조절제는 용매에 용해되어 수소 양이온을 나타내는 물질인 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
11 11
제 10 항에 있어서, 상기 수소 양이온을 나타내는 물질은 HCl, HBr, HF, HI, HNO3, H2SO4, H3PO4, acetic acid, formic acid, citric acid, lactic acid, acrylic acid 및 poly acrylic acid 중에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
12 12
제 1 항 또는 제 6 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반응 조절제는 5 μM 이상 10 mM 이하의 범위에서 제어되는 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
13 13
제 1항에 있어서, 상기 반응 조절제는 H2O, 에틸렌글리콜, 프로판디올, 부탄디올, 펜탄디올, 글리세롤, 에틸셀로솔브, NMP 및 알코올에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
14 14
제 1항 또는 제 13항에 있어서, 상기 반응 조절제는 용매 대비 부피비로 1/100 이상 1/2 이하의 범위에서 제어되는 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
15 15
제 1항에 있어서, 상기 용매는 포름아마이드, 아세트아마이드, 노말-메틸포름아마이드, 디메틸포름아마이드에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
16 16
제 1항에 있어서, 상기 가열과정에서의 반응 온도를 40 oC 이상 상기 용매의 끓는점 미만에서 실시하는 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
17 17
제16항에 있어서, 상기 가열과정은 상압 또는 가압 하에서 실시하는 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
18 18
제1항에 있어서, 제조되는 금 나노 입자는 tetrahedron, cube, octahedron, dodecahedron, icosahedron, truncated tetrahedron, cuboctahedron, truncated cube, truncated octahedron, rhombicuboctahedron, truncated cuboctahedron, snub hexahedron, snub cuboctahedron, icosidodecahedron, truncated dodecahedron, truncated icosahedron, rhombicosidodecahedron, truncated icosidodecahedron, snub dodecahedron, snub icosidodecahedron, triakis tetrahedron, rhombic dodecahedron, triakis octahedron, tetrakis hexahedron, deltoidal icositetrahedron, disdyakis dodecahedron, pentagonal icositetrahedron, rhombic triacontahedron, triakis icosahedron, pentakis dodecahedron, deltoidal hexecontahedron, disdyakis triacontahedron, pentagonal hexecontahedron, decahedron과 truncated decahedron, plate 및 별 모양에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
19 19
제1항에 있어서, 상기 반응 용액을 가열 후 급속 냉각하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 금 나노 입자 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.