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제1 베이스 기판 상에 유기금속화합물 잉크를 코팅하여 용액층을 형성하는 단계;상기 용액층이 형성된 제1 베이스 기판을 열처리하여, 상기 용액층에 미세입자를 자가 생성시키는 단계;상기 용액층이 형성된 제1 베이스 기판과 포토마스크를 정렬하는 단계;상기 포토마스크의 상부에서 레이저를 조사하는 단계;상기 포토마스크를 상기 용액층이 형성된 제1 베이스 기판과 분리하는 단계; 및상기 용액층을 세정하는 단계를 포함하는 미세금속전극 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 유기금속화합물 잉크를 코팅하는 방법은 슬롯다이(slot die) 코팅, 롤(roll) 코팅, 블레이드(blade) 코팅, 스핀(sping) 코팅, 스프레이(spray) 코팅, 잉크젯(inkjet) 코팅 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 미세금속전극 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 베이스 기판을 열처리하는 단계에서, 상기 용액층에 열을 제공하여 상기 용액층에서는 미세입자가 자가 생성되는 것을 특징으로 하는 미세금속전극 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 자가 생성되는 미세입자의 크기는 10nm 이하인 것을 특징으로 하는 미세금속전극 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 용액층에 제공되는 열은 상기 미세입자들이 서로 결합하여 금속막을 형성하기 전까지 제공되는 것을 특징으로 하는 미세금속전극 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 제1 베이스 기판을 열처리하는 단계는, 열원(heat source), 히팅 오븐(heating oven), 마이크로 오븐(microwave oven), 광원(light lamp) 중 어느 하나를 이용하여 상기 제1 베이스 기판 및 상기 용액층으로 열을 제공하는 것을 특징으로 하는 미세금속전극 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 포토마스크는 제2 베이스 기판 및 상기 제2 베이스 기판 상에 형성된 마스크 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 미세금속전극 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 레이저를 조사하는 단계에서, 상기 레이저는 상기 마스크 패턴이 형성되지 않은 부분을 관통하여 상기 용액층에 조사되는 것을 특징으로 하는 미세금속전극 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 레이저를 조사하는 단계에서 사용되는 레이저 발생기는, 라인(line) 형상의 조사면을 형성하는 레이저 어레이 발생기(laser array generator), 길이방향으로 연장된 면(surface) 형상의 조사면을 형성하는 레이저 어레이 발생기(laser array generator), 단위 면(surface) 형상의 조사면을 형성하는 단위 레이저 발생기(single laser generator) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 미세금속전극 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 레이저가 조사된 용액층의 미세 입자들은 소결되어 금속막으로 형성되는 것을 특징으로 하는 미세금속전극 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 세정하는 단계에서, 상기 레이저가 조사되지 않은 부분의 용액층은 제거되는 것을 특징으로 하는 미세금속전극 제조방법
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제11항에 있어서, 상기 제1 베이스 기판 및 상기 제1 베이스 기판 상에 잔류한 금속패턴을 열처리하는 단계를 더 포함하는 미세금속전극 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 잔류한 금속패턴을 열처리하는 단계는, 열원(heat source), 히팅 오븐(heating oven), 마이크로 오븐(microwave oven), 광원(light lamp) 중 어느 하나를 이용하여 상기 금속패턴으로 열을 제공하여 상기 금속패턴 내부의 유기물을 증발시키는 것을 특징으로 하는 미세금속전극 제조방법
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