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나노 스케일 패터닝 방법 및 이로부터 제조된 전자기기용 집적소자
- 기술번호 : KST2015117327
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명은 자기조립을 이용한 나노 스케일 패터닝 방법에 관한 것으로, 블록공중합체의 자기조립 성질을 이용하여 라멜라형, 실린더형 등 원하는 형태의 나노 패턴을 형성할 수 있으며, 블록공중합체의 단점인 10㎚ 이하의 구조에서 낮은 segment interaction을 극복할 수 있다. 또한 단일 포토리소그래피를 사용함에도 기존의 나노 패턴에 비해 패턴 밀도를 두 배로 증가시킬 수 있으며, 패턴의 피치 및 주기를 조절할 수 있어 반도체 소자 등 회로의 고집적화가 요구되는 전자기기에 크게 활용할 수 있을 것으로 전망된다. |
|---|---|
| Int. CL | H01L 21/027 (2006.01) |
| CPC | H01L 21/0273(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020130163898 (2013.12.26) |
| 출원인 | 한국과학기술원, 기초과학연구원 |
| 등록번호/일자 | 10-1674972-0000 (2016.11.04) |
| 공개번호/일자 | 10-2015-0075685 (2015.07.06) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20161110) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 등록 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2014.09.12) |
| 심사청구항수 | 8 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 2 | 기초과학연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 김상욱 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 2 | 문형석 | 대한민국 | 대전 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 특허법인 플러스 | 대한민국 | 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층 |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 2 | 기초과학연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2013.12.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-1189327-10 |
| 2 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination) |
2014.09.12 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0864354-54 |
| 3 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 4 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 6 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2015.01.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 7 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2015.01.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-5003826-60 |
| 8 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2015.02.04 | 불수리 (Non-acceptance) | 1-1-2015-5005367-51 |
| 9 | 서류반려이유통지서 Notice of Reason for Return of Document |
2015.02.17 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2015-0037525-17 |
| 10 | 서류반려통지서 Notice for Return of Document |
2015.02.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2015-0041498-11 |
| 11 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2015.03.13 | 수리 (Accepted) | 9-1-2015-0019102-67 |
| 12 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2015.03.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-5010392-11 |
| 13 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2016.01.03 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0001386-78 |
| 14 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2016.03.03 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-0207859-91 |
| 15 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2016.03.03 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2016-0207894-89 |
| 16 | 심사처리보류(연기)보고서 Report of Deferment (Postponement) of Processing of Examination |
2016.07.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-6-2016-0091723-73 |
| 17 | 거절결정서 Decision to Refuse a Patent |
2016.09.08 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0650739-36 |
| 18 | [명세서등 보정]보정서(재심사) Amendment to Description, etc(Reexamination) |
2016.10.07 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2016-0970990-50 |
| 19 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2016.10.07 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-0971004-46 |
| 20 | 등록결정서 Decision to Grant Registration |
2016.11.01 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0787895-18 |
| 21 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2018.01.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5013866-16 |
| 22 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 23 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 24 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 a) 기판 상에 리소그래피를 이용하여 유기물 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계;b) 상기 유기물 포토레지스트 패턴이 포함된 기판 상에 두 종류 이상의 단위체 블록을 포함하는 블록공중합체 박막을 형성하는 단계;c) 상기 블록공중합체 중 어느 하나의 단위체 블록을 선택적으로 제거하는 단계;d) 상기 c) 단계의 블록공중합체 박막 표면에 무기 스페이서층을 형성하는 단계; 및e) 상기 d) 단계의 나머지 블록공중합체 박막 및 유기물 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계;를 포함하며, 상기 블록공중합체는 하나 이상의 친수성 단위체 블록과 하나 이상의 소수성 단위체 블록이 서로 중합되어 이루어진 것을 포함하며, 전체 블록공중합체 분자량 100을 기준으로, 친수성 단위체 블록 : 소수성 단위체 블록의 분자량비는 20 내지 80 : 80 내지 20인 자기조립을 이용한 나노 스케일 패터닝 방법 |
| 2 |
2 제 1항에 있어서,상기 b) 단계는,b1) 유기물 포토레지스트 패턴을 통해 노출된 영역에 블록공중합체 박막을 형성하는 단계; 및b2) 상기 블록공중합체 박막을 열처리하여 상기 유기물 포토레지스트 패턴을 통해 노출된 영역에 자기조립 나노구조체를 형성시키는 단계;를 포함하는 나노 스케일 패터닝 방법 |
| 3 |
3 제 1항에 있어서,상기 e) 단계는,e1) 상기 무기 스페이서층 중 제 1방향과 평행한 면에 형성된 부분을 제거하는 단계; 및e2) 나머지 블록공중합체 박막을 제거하는 단계;를 포함하는 나노 스케일 패터닝 방법 |
| 4 |
4 제 1항에 있어서,상기 무기 스페이서층 형성은 저항 가열증착, 전자빔 가열증착, 고주파 가열증착, 레이저빔 가열증착, DC 스퍼터, RF 스퍼터, 바이어스 스퍼터, 이온 플레이팅, 에피택시얼, 상압 CVD법, 감압 CVD법, 플라즈마 CVD, 광 CVD 법 및 atomic layer deposition(ALD) 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 방법으로 형성하는 것인 나노 스케일 패터닝 방법 |
| 5 |
5 제 1항에 있어서,상기 유기물 포토레지스트는 노볼락 고분자, 폴리비닐페놀, 아크릴레이트, 노보닌 고분자, 폴리테트라플루오르에틸렌, 실세스퀴옥산 고분자, 폴리메틸메타크릴레이트, 터폴리머, 폴리-1-부텐 술폰, 노볼락계 포지티브 전자 레지스트, 폴리(메틸-알파클로로아크릴레이트-알파메틸스티렌 공중합체, 폴리(글리시딜 메타크릴레이트-에틸아크릴레이트 공중합체 및 폴리클로로메틸스티렌으로 구성된 군에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 고분자 수지를 포함하는 나노 스케일 패터닝 방법 |
| 6 |
6 제 1항에 있어서,상기 리소그래피는 광리소그래피, 소프트리소그래피, 나노임프린트 및 스캐닝 프로브 리소그래피로 구성된 군에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인 나노 스케일 패터닝 방법 |
| 7 |
7 제 1항에 있어서,상기 블록공중합체는 폴리스티렌-블록-폴리메틸메타크릴레이트, 폴리부타디엔-폴리부틸메타크릴레이트, 폴리부타디엔-블록-폴리디메틸실록산, 폴리부타디엔-블록-폴리메틸메타크릴레이트, 폴리부타디엔-블록-폴리비닐피리딘, 폴리부틸아크릴레이트-블록-폴리메틸메타크릴레이트, 폴리부틸아크릴레이트-블록-폴리비닐피리딘, 폴리이소프렌-블록-폴리비닐피리딘, 폴리이소프렌-블록-폴리메틸메타크릴레이트, 폴리헥실아클리레이트-블록-폴리비닐피리딘, 폴리이소부틸렌-블록-폴리부틸메타크릴레이트, 폴리이소부틸렌-블록-폴리메틸메타크릴레이트, 폴리이소부틸렌-블록-폴리부틸메타크릴레이트, 폴리이소부틸렌-블록-폴리디메틸실록산, 폴리부틸메타크릴레이트-블록-폴리부틸아크릴레이트, 폴리에틸에틸렌-블록-폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌-블록-폴리부틸메타크릴레이트, 폴리스티렌-블록-폴리부타디엔, 폴리스티렌-블록-폴리이소프렌, 폴리스티렌-블록-폴리디메틸실록산, 폴리스티렌-블록-폴리비닐피리딘, 폴리에틸에틸렌-블록-폴리비닐피리딘, 폴리에틸렌-블록-폴리비닐피리딘, 폴리비닐피리딘-블록-폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌옥사이드-블록-폴리이소프렌, 폴리에틸렌옥사이드-블록-폴리부타디엔, 폴리에틸렌옥사이드-블록-폴리스티렌, 폴리에틸렌옥사이드-블록-폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌옥사이드-블록-폴리디메틸실록산, 폴리스티렌-블록-폴리에틸렌옥사이드, 폴리스티렌-블록-폴리메틸메타크릴레이트-블록-폴리스티렌, 폴리부타디엔-블록-폴리부틸메타크릴레이트-블록-폴리부타디엔, 폴리부타디엔-블록-폴리디메틸실록산-블록-폴리부타디엔, 폴리부타디엔-블록-폴리메틸메타크릴레이트-블록-폴리부타디엔 폴리부타디엔-블록-폴리비닐피리딘-블록-폴리부타디엔, 폴리부틸아크릴레이트-블록-폴리메틸메타크릴레이트-블록-폴리부틸아크릴레이트, 폴리부틸아크릴레이트-블록-폴리비닐피리딘-블록-폴리부틸아크릴레이트, 폴리이소프렌-블록-폴리비닐피리딘-블록-폴리이소프렌, 폴리이소프렌-블록-폴리메틸메타크릴레이트-블록-폴리이소프렌, 폴리헥실아크릴레이트-블록-폴리비닐피리딘-블록-폴리헥실아크릴레이트, 폴리이소부틸렌-블록-폴리부틸메타크릴레이트-블록-폴리이소부틸렌, 폴리이소부틸렌-블록-폴리메틸메타크릴레이트-블록-폴리이소부틸렌, 폴리이소부틸렌-블록-폴리부틸메타크릴레이트-블록-폴리이소부틸렌, 폴리이소부틸렌-블록-폴리디메틸실록산-블록-폴리이소부틸렌, 폴리부틸메타크릴레이트-블록-폴리부틸아크릴레이트-블록-폴리부틸메타크릴레이트, 폴리에틸에틸렌-블록-폴리메틸메타크릴레이트-블록-폴리에틸에틸렌, 폴리스티렌-블록-폴리부틸메타크릴레이트-블록-폴리스티렌, 폴리스티렌-블록-폴리부타디엔-블록-폴리스티렌, 폴리스티렌-블록-폴리이소프렌-블록-폴리스티렌, 폴리스티렌-블록-폴리디메틸실록산-블록-폴리스티렌, 폴리스티렌-블록-폴리비닐피리딘-블록-폴리스티렌, 폴리에틸에틸렌-블록-폴리비닐피리딘-블록-폴리에틸에틸렌, 폴리에틸렌-블록-폴리비닐피리딘-블록-폴리에틸렌, 폴리비닐피리딘-블록-폴리메틸메타크릴레이트-블록-폴리비닐피리딘, 폴리에틸렌옥사이드-블록-폴리이소프렌-블록-폴리에틸렌옥사이드, 폴리에틸렌옥사이드-블록-폴리부타디엔-블록-폴리에틸렌옥사이드, 폴리에틸렌옥사이드-블록-폴리스티렌-블록-폴리에틸렌옥사이드, 폴리에틸렌옥사이드-블록-폴리메틸메타크릴레이트-블록-폴리에틸렌옥사이드, 폴리에틸렌옥사이드-블록-폴리디메틸실록산-블록-폴리에틸렌옥사이드 및 폴리스티렌-블록-폴리에틸렌옥사이드-블록-폴리스티렌로 구성된 군에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인 나노 스케일 패터닝 방법 |
| 8 |
8 제 1항에 있어서,f) 상기 e) 단계 기판에서 무기 스페이서층을 에칭 마스크로 이용하여 기판 표면을 에칭하는 단계;를 더 포함하는 나노 스케일 패터닝 방법 |
| 9 |
9 삭제 |
| 10 |
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| 11 |
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| 12 |
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| 13 |
13 삭제 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | US09812333 | US | 미국 | FAMILY |
| 2 | US20150187602 | US | 미국 | FAMILY |
DOCDB 패밀리 정보
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | US2015187602 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
| 2 | US9812333 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
| 순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 미래창조과학부 | 기초과학연구원 | 캠퍼스 연구단 연구사업 | 나노물질의 조립 및 제작 |
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1674972-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20131226 출원 번호 : 1020130163898 공고 연월일 : 20161110 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20161101 청구범위의 항수 : 8 유별 : H01L 21/027 발명의 명칭 : 나노 스케일 패터닝 방법 및 이로부터 제조된 전자기기용 집적소자 존속기간(예정)만료일 : |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 기초과학연구원 대전광역시 유성구... |
| 1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 178,500 원 | 2016년 11월 07일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 108,000 원 | 2019년 11월 05일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 108,000 원 | 2020년 11월 05일 | 납입 |
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| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2013.12.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-1189327-10 |
| 2 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 | 2014.09.12 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0864354-54 |
| 3 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 4 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 6 | 선행기술조사의뢰서 | 2015.01.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 7 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2015.01.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-5003826-60 |
| 8 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2015.02.04 | 불수리 (Non-acceptance) | 1-1-2015-5005367-51 |
| 9 | 서류반려이유통지서 | 2015.02.17 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2015-0037525-17 |
| 10 | 서류반려통지서 | 2015.02.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2015-0041498-11 |
| 11 | 선행기술조사보고서 | 2015.03.13 | 수리 (Accepted) | 9-1-2015-0019102-67 |
| 12 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2015.03.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-5010392-11 |
| 13 | 의견제출통지서 | 2016.01.03 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0001386-78 |
| 14 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2016.03.03 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-0207859-91 |
| 15 | [명세서등 보정]보정서 | 2016.03.03 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2016-0207894-89 |
| 16 | 심사처리보류(연기)보고서 | 2016.07.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-6-2016-0091723-73 |
| 17 | 거절결정서 | 2016.09.08 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0650739-36 |
| 18 | [명세서등 보정]보정서(재심사) | 2016.10.07 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2016-0970990-50 |
| 19 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2016.10.07 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-0971004-46 |
| 20 | 등록결정서 | 2016.11.01 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0787895-18 |
| 21 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2018.01.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5013866-16 |
| 22 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 23 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 24 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1711006309 |
|---|---|
| 세부과제번호 | IBS CA1301 |
| 연구과제명 | 나노물질 및 화학반응 연구 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 미래창조과학부 |
| 연구관리전문기관명 | |
| 연구주관기관명 | |
| 성과제출연도 | 2013 |
| 연구기간 | 201207~201612 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
특허성과
| [1020130164218] | 메조기공을 갖는 금속 산화물 및 그의 제조 방법 | 새창보기 |
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