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선이광자흡수영역의 형광을 이용한 이광자 광중합 나노제작 시스템용 자동 초점 방법

  • 기술번호 : KST2015117485
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 선이광자흡수영역의 형광을 이용한 이광자 광중합 나노제작 시스템용 자동 초점 방법에 관한 것으로, 선이광자흡수영역의 형광을 이용한 이광자 광중합 나노제작 시스템용 자동 초점 시스템에 있어서, 이광자 흡수 현상을 일으킬 수 있는 극초단 펄스 레이저광을 출력하는 레이저 소스, 상기 확장된 레이저광의 경로를 변경시켜주는 갈바노셔터, 상기 레이저 소스에 의해 출력된 레이저광을 반사하여 경로를 변경하는 미러, 상기 미러로부터 반사된 반사광의 초점을 형성하기 위한 대물렌즈, 상기 초점에 의해 제작 공정이 시작되는 기판과, 이광자 광중합을 일으켜 마이크로/나노 구조물을 형성하기 위한 기판 위의 이광자 광중합 레진을 포함하는 기판부, 상기 기판부를 X, Y, Z축으로 이동시키는 스테이지, 상기 기판부의 이광자 광중합 레진에서 발생하는 형광의 세기를 검출하는 CCD 카메라 및 상기 CCD 카메라에서 검출된 형광의 세기를 이용하여 초점의 위치를 자동으로 탐색하고, 상기 기판부의 기판을 탐색된 위치로 이동시키기 위하여 상기 3축 이동 스테이지의 위치를 자동 조절하는 제어컴퓨터를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL B29C 67/00 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC B29C 64/135(2013.01) B29C 64/135(2013.01) B29C 64/135(2013.01) B29C 64/135(2013.01) B29C 64/135(2013.01)
출원번호/일자 1020120043290 (2012.04.25)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1340386-0000 (2013.12.05)
공개번호/일자 10-2013-0121203 (2013.11.06) 문서열기
공고번호/일자 (20131211) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.04.25)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 공홍진 대한민국 대전 유성구
2 정병제 대한민국 서울 강동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인대한 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 부봉빌딩 *층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.04.25 수리 (Accepted) 1-1-2012-0330909-90
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.07.31 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.08.23 수리 (Accepted) 9-1-2013-0069668-12
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0606559-34
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.10.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0988013-30
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.10.30 수리 (Accepted) 1-1-2013-0988007-66
8 등록결정서
Decision to grant		 2013.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0803155-13
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
선이광자흡수영역의 형광을 이용한 이광자 광중합 나노제작 시스템용 자동 초점 시스템에 있어서,이광자 흡수 현상을 일으킬 수 있는 극초단 펄스 레이저광을 출력하는 레이저 소스;상기 레이저광의 경로를 변경시켜주는 갈바노셔터; 상기 레이저 소스에 의해 출력된 레이저광을 반사하여 경로를 변경하는 미러;상기 미러로부터 반사된 반사광의 초점을 형성하기 위한 대물렌즈; 상기 초점에 의해 제작 공정이 시작되는 기판과, 이광자 광중합을 일으켜 마이크로 또는 나노 구조물을 형성하기 위한 기판 위의 이광자 광중합 레진을 포함하는 기판부; 상기 기판부를 X, Y, Z축으로 이동시키는 스테이지; 상기 기판부의 이광자 광중합 레진에서 발생하는 형광의 세기를 검출하는 CCD 카메라; 및상기 CCD 카메라에서 검출된 형광의 세기를 이용하여 초점의 위치를 자동으로 탐색하고, 상기 기판부의 기판을 탐색된 위치로 이동시키기 위하여 상기 3축 이동 스테이지의 위치를 자동 조절하는 제어컴퓨터;를 포함하며,상기 제어컴퓨터는 기 설정된 형광 영상의 문턱값을 가지며, 획득한 형광 영상의 중첩된 영상에서 문턱값 이상의 픽셀수를 합산하도록 제어하는 선이광자흡수영역의 형광을 이용한 이광자 광중합 나노제작 시스템
2 2
제 1항에 있어서, 상기 레이저 소스는,펄스폭이 fs(펨토초) ~ ps(피코초) 수준을 갖는 레이저 소스인 것을 특징으로 하는 선이광자흡수영역의 형광을 이용한 이광자 광중합 나노제작 시스템
3 3
삭제
4 4
선이광자흡수영역의 형광을 이용한 이광자 광중합 나노제작 시스템용 자동 초점 시스템에 있어서,스테이지를 통해 기판을 Z축 방향(광축 방향)으로 단계적으로 이동시키며, 각 위치의 형광 영상을 CCD 카메라를 통해 검출하는 제 1단계;검출된 형광 영상의 신호대 잡음비를 높이기 위하여 각 위치에서 형광 영상을 다수회 연속적으로 검출하여 하나의 영상으로 중첩시키는 제 2단계;문턱값을 설정하고 상기 제 2단계에서 중첩된 영상에서 문턱값 이상이 되는 픽셀의 개수를 합산하는 제 3단계;자동 초점 과정이 선이광자흡수영역에서 끝나도록 픽셀값을 설정하여 상기 픽셀의 합산값이 상기 픽셀값 이상이 될 때 기판의 이동을 멈추고 동시에 셔터를 닫는 제 4단계; 및기판의 Z축의 위치에 따른 각각의 픽셀 합산값을 그래프화하고, 기판의 이동이 멈춘 위치에 보정값을 합산하여 초점의 위치를 찾고 그 위치로 기판을 이동시키는 제 5단계;를 포함하는 선이광자흡수영역의 형광을 이용한 이광자 광중합 나노제작 시스템용 자동 초점 방법
5 5
제 4항에 있어서, 상기 제 2단계는,상기 형광 영상을 10회 이상 획득하는 것을 특징으로 하는 이광자 광중합 나노제작 시스템용 자동 초점 방법
6 6
이광자 흡수 현상을 일으킬 수 있는 극초단 펄스 레이저광을 출력하는 레이저 소스;상기 레이저광의 경로를 변경시켜주는 갈바노셔터; 상기 레이저 소스에 의해 출력된 레이저광을 반사하여 경로를 변경하는 미러;상기 미러로부터 반사된 반사광의 초점을 형성하기 위한 대물렌즈; 상기 초점에 의해 제작 공정이 시작되는 기판과, 이광자 광중합을 일으켜 마이크로 또는 나노 구조물을 형성하기 위한 기판 위의 이광자 광중합 레진을 포함하는 기판부;상기 기판부를 X, Y, Z축으로 이동시키는 스테이지; 상기 기판부의 이광자 광중합 레진에서 발생하는 형광의 세기를 검출하는 CCD 카메라; 및상기 CCD 카메라에서 검출된 형광의 세기를 이용하여 초점의 위치를 자동으로 탐색하고, 상기 기판부의 기판을 탐색된 위치로 이동시키기 위하여 상기 3축 이동 스테이지의 위치를 자동 조절하는 제어컴퓨터;를 포함하며,상기 제어컴퓨터는 기 설정된 형광 영상의 문턱값을 가지며, 획득한 형광 영상의 중첩된 영상에서 문턱값 이상의 픽셀수를 합산하도록 제어하는 선이광자흡수영역의 형광을 이용한 이광자 광중합 나노제작 시스템
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삭제
8 8
스테이지를 통해 기판을 Z축 방향(광축 방향)으로 단계적으로 이동시키며, 각 위치의 형광 영상을 CCD 카메라를 통해 검출하는 제 1단계;검출된 형광 영상의 신호대 잡음비를 높이기 위하여 각 위치에서 형광 영상을 다수회 연속적으로 검출하여 하나의 영상으로 중첩시키는 제 2단계;문턱값을 설정하고 상기 제 2단계에서 중첩된 영상에서 문턱값 이상이 되는 픽셀의 개수를 합산하는 제 3단계;자동 초점 과정이 선이광자흡수영역에서 끝나도록 픽셀값을 설정하여 상기 픽셀의 합산값이 상기 픽셀값 이상이 될 때 기판의 이동을 멈추고 동시에 셔터를 닫는 제 4단계; 및기판의 Z축의 위치에 따른 각각의 픽셀 합산값을 그래프화하고, 기판의 이동이 멈춘 위치에 보정값을 합산하여 초점의 위치를 찾고 그 위치로 기판을 이동시키는 제 5단계;를 포함하는 선이광자흡수영역의 형광을 이용한 이광자 광중합 나노제작 시스템용 자동 초점 방법
9 9
제 8항에 있어서, 상기 제 2단계는,상기 형광 영상을 10회 이상 획득하는 것을 특징으로 하는 이광자 광중합 나노제작 시스템용 자동 초점 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.