요약 | 본 발명의 일 실시예에 따른 은 나노와이어 제조방법은, 폴리올에 분산안정제를 첨가하고 교반하여 제1 용액을 형성하는 단계; 폴리올에 분산 안정제, 은 전구체, 할로겐 이온 공여체 및 초순수(deionized water)를 첨가하여 제2 용액을 형성하는 단계; 상기 제1 용액에 상기 제2 용액을 첨가하여 제3 용액을 형성하고, 상기 제3 용액을 제1 온도에서 제2 온도로 승온시키는 단계; 및 상기 제2 온도에서 상기 제3 용액을 반응시켜 은 나노와이어를 형성하는 단계;를 제공할 수 있다. |
---|---|
Int. CL | B82B 3/00 (2017.01.01) B22F 9/18 (2006.01.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020130096902 (2013.08.14) |
출원인 | 삼성디스플레이 주식회사, 한국과학기술원 |
등록번호/일자 | 10-2147841-0000 (2020.08.19) |
공개번호/일자 | 10-2015-0020452 (2015.02.26) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20200826) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2018.08.14) |
심사청구항수 | 19 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 삼성디스플레이 주식회사 | 대한민국 | 경기 용인시 기흥구 |
2 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 구현우 | 대한민국 | 경기도 용인시 기흥구 |
2 | 김태웅 | 대한민국 | 경기도 용인시 기흥구 |
3 | 이정용 | 미국 | 대전광역시 유성구 |
4 | 이재민 | 대한민국 | 충청남도 연기군 |
5 | 정선주 | 대한민국 | 대전 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 리앤목특허법인 | 대한민국 | 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술원 | 대전광역시 유성구 | |
2 | 삼성디스플레이 주식회사 | 경기 용인시 기흥구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2013.08.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0740261-08 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
3 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
4 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
5 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.08.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5104722-59 |
6 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination) |
2018.08.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2018-0802760-95 |
7 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.01.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5016605-77 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
9 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2019.05.14 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
10 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2019.07.08 | 수리 (Accepted) | 9-1-2019-0030566-80 |
11 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2019.12.16 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2019-0909420-99 |
12 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2020.02.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2020-0155650-20 |
13 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2020.02.13 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2020-0155651-76 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
15 | 등록결정서 Decision to grant |
2020.05.21 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2020-0350143-15 |
16 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 폴리올에 분산안정제를 첨가하고 교반하여 제1 용액을 형성하는 단계;폴리올에 분산 안정제, 은 전구체, 할로겐 이온 공여체 및 초순수(deionized water)를 첨가하여 제2 용액을 형성하는 단계;상기 제1 용액에 상기 제2 용액을 첨가하여 제3 용액을 형성하는 단계;상기 제3 용액을 제1 시간대 동안 제1 온도에서 제2 온도로 승온시키는 단계; 및상기 제2 온도에서 상기 제3 용액을 반응시켜 은 나노와이어를 형성하는 단계;를 포함하고,상기 승온시키는 단계는, 상기 제1 시간대의 초반 및 종반보다 중반에서 더 급격하게 승온시키는 단계를 포함하는, 은 나노와이어 제조방법 |
2 |
2 제1항에 있어서,상기 제1 온도는 섭씨 50도 내지 60도 이며, 상기 제2 온도는 섭씨 145도 내지 170도인 것을 특징으로 하는 은 나노와이어 제조방법 |
3 |
3 제1항에 있어서,상기 은 나노와이어를 형성하는 단계 후에,소정의 포어 사이즈(pore size)를 갖는 필터를 이용하여 상기 형성된 은 나노와이어를 필터링 하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 은 나노와이어 제조방법 |
4 |
4 제3항에 있어서,상기 포어 사이즈는 10 내지 40μm 인 것을 특징으로 하는 은 나노와이어 제조방법 |
5 |
5 제1항에 있어서,상기 제1 용액을 형성하는 단계는,섭씨 90도 내지 110도에서 교반하여 상기 폴리올에 상기 분산안정제를 용해시키는 단계; 및상기 제1 용액을 섭씨 50도 내지 60도로 식히는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 은 나노와이어 제조방법 |
6 |
6 제1항에 있어서,상기 제1 시간대는 10분 내지 40분인 것을 특징으로 하는 은 나노와이어 제조방법 |
7 |
7 삭제 |
8 |
8 제6항에 있어서,상기 제1 시간대에 따라서 은 나노와이어의 평균 직경 및 평균 길이가 달라지는 것을 특징으로 은 나노와이어 제조방법 |
9 |
9 제1항에 있어서,상기 은 나노와이어는,평균 직경이 40 내지 80nm 이며, 평균 길이가 20 내지 100μm 인 것을 특징으로 하는 은 나노와이어 제조방법 |
10 |
10 제1항에 있어서,상기 제2 온도에서 상기 제3 용액을 반응시켜 은 나노와이어를 형성하는 단계는,섭씨 145도 내지 170도에서 10분 내지 30분 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 은 나노와이어 제조방법 |
11 |
11 제1항에 있어서,상기 폴리올은,에틸렌글리콜, 프로판디올, 부탄디올, 펜탄디올, 헥산디올, 글리세롤 및 폴리에틸렌글리콜로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 은 나노와이어 제조방법 |
12 |
12 제1항에 있어서,상기 분산 안정제는,폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴아마이드, 폴리아크릴산, 폴리(디알릴디메틸암모늄클로라이드) 및 녹말로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 은 나노와이어 제조방법 |
13 |
13 제1항에 있어서,상기 은 전구체는,질산은, 실버아세테이트, 염화은, 브롬화은, 요오드화은 및 불소화은 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 은 나노와이어 제조방법 |
14 |
14 제1항에 있어서,상기 할로겐 이온 공여체는, NaCl, NaBr, KCl, KBr, NH4Cl 및 ZnCl2로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 은 나노와이어 제조방법 |
15 |
15 폴리올에 분산안정제를 용해시켜 제1 용액을 형성하고, 상기 제1 용액을 제1 온도로 식히는 단계;폴리올에 분산 안정제, 은 전구체, 할로겐 이온 공여체 및 초순수(deionized water)를 첨가하여 제2 용액을 형성하는 단계;상기 제1 용액에 상기 제2 용액을 첨가하여 제3 용액을 형성하는 단계;상기 제3 용액을 제1 시간대 동안 제1 온도에서 제2 온도로 승온하여 반응시키는 단계; 및상기 제2 온도에서 제1 시간 동안 반응시켜 은 나노와이어를 형성하는 단계;를 포함하고,상기 승온하여 반응시키는 단계는, 상기 제1 시간대의 초반 및 종반보다 중반에서 더 급격하게 승온시키는 단계를 포함하는, 은 나노와이어 제조방법 |
16 |
16 제15항에 있어서,상기 제1 온도는 섭씨 50도 내지 60도 이며, 상기 제2 온도는 섭씨 145도 내지 170도 인 것을 특징으로 하는 은 나노와이어 제조방법 |
17 |
17 제15항에 있어서,상기 제1 시간은 10분 내지 30분 인 것을 특징으로 하는 은 나노와이어 제조방법 |
18 |
18 제15항에 있어서,상기 제1 시간대는 10분 내지 40분이며,상기 제1 시간대에 따라 은 나노와이어의 평균 직경 및 평균 길이가 달라지는 것을 특징으로 은 나노와이어 제조방법 |
19 |
19 제15항에 있어서,상기 은 나노와이어를 형성하는 단계 후에,10 내지 40μm의 포어 사이즈(pore size)를 갖는 필터를 이용하여 상기 형성된 은 나노와이어를 필터링 하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 은 나노와이어 제조방법 |
20 |
20 제15항에 있어서,상기 폴리올은 글리세롤 이며, 상기 분산 안정제는 폴리비닐비폴리돈 이며, 상기 은 전구체는 질산은 이며, 상기 할로겐 이온 공여체는 NaCl 인 것을 특징으로 하는 은 나노와이어 제조방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US09662710 | US | 미국 | FAMILY |
2 | US20150047468 | US | 미국 | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US2015047468 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
2 | US9662710 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
특허 등록번호 | 10-2147841-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20130814 출원 번호 : 1020130096902 공고 연월일 : 20200826 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20200521 청구범위의 항수 : 19 유별 : B82B 3/00 발명의 명칭 : 은 나노와이어 제조방법 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
1 |
(권리자) 삼성디스플레이 주식회사 경기 용인시 기흥구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 776,000 원 | 2020년 08월 20일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2013.08.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0740261-08 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
3 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
4 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
5 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.08.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5104722-59 |
6 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 | 2018.08.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2018-0802760-95 |
7 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.01.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5016605-77 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
9 | 선행기술조사의뢰서 | 2019.05.14 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
10 | 선행기술조사보고서 | 2019.07.08 | 수리 (Accepted) | 9-1-2019-0030566-80 |
11 | 의견제출통지서 | 2019.12.16 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2019-0909420-99 |
12 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2020.02.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2020-0155650-20 |
13 | [명세서등 보정]보정서 | 2020.02.13 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2020-0155651-76 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
15 | 등록결정서 | 2020.05.21 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2020-0350143-15 |
16 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
기술정보가 없습니다 |
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과제고유번호 | 1711005593 |
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세부과제번호 | KINC01 |
연구과제명 | 그래핀 합성, 물성제어 및 응용 소자 원천기술 연구 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 미래창조과학부 |
연구관리전문기관명 | |
연구주관기관명 | |
성과제출연도 | 2013 |
연구기간 | 201201~201612 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
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