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블록 공중합체의 자기조립에 의해 형성된 나노패턴; 및상기 나노패턴 상에 형성된 금속층;을 포함하는 나노구조체로서,상기 나노구조체는 금속층이 형성된 단위구조체가 간격을 갖고 주기적으로 배열됨으로써 형성된, 금속 나노갭 어레이를 포함하는 것인, 나노구조체
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제1항에 있어서, 상기 나노패턴은 육각조밀패턴(hexagonal-close pattern)인, 나노구조체
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제1항에 있어서, 상기 블록 공중합체는 폴리우레탄, 에폭시 중합체, 폴리아릴렌, 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리설폰, 폴리실록산, 폴리실라잔, 폴리에테르, 폴리우레아, 폴리올레핀, 비닐계 부가 중합체 및 아크릴계 중합체에서 선택되는 둘 이상의 서로 다른 반복단위를 포함하는 것인, 나노구조체
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제1항에 있어서, 상기 금속층의 금속은 금(gold), 백금, 은(silver), 팔라듐, 알루미늄, 크롬, 티타늄 및 구리에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인, 나노구조체
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제1항에 있어서, 기재를 더 포함하는, 나노구조체
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제6항에 있어서, 상기 기재는 상기 블록 공중합체를 구성하는 구조단위들을 함유하는 랜덤 공중합체를 포함하는 중성층을 더 포함하는, 나노구조체
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제6항에 있어서, 상기 기재는 실리콘, 산화그래핀, 탄소나노튜브, 그래핀, 비정질탄소, 세라믹, 금속, 금속산화물, 및 전이금속 칼코게나이드에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상을 포함하는, 나노구조체
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제1항에 있어서, 상기 금속층이 형성된 단위 구조체의 반복 주기는 200 nm 미만인, 나노구조체
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제1항에 있어서, 상기 금속층의 두께는 100 nm 이하인, 나노구조체
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제1항에 있어서, 상기 금속층이 형성된 단위 구조체 사이의 간격은 50 nm 이하인, 나노구조체
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제11항에 있어서, 직경 2인치 이상의 원에 상당하는 면적에서, 상기 간격의 상대표준편차는 20% 이하인, 나노구조체
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제1항에 있어서, 상기 금속층이 형성된 단위 구조체의 패턴 밀도는 108 mm-2 이상인, 나노구조체
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제1항에 있어서, 상기 금속층이 형성된 단위 구조체 사이의 핫-스팟의 밀도는 108 mm-2 이상인, 나노구조체
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블록 공중합체를 자기조립하여 나노패턴을 형성하는 단계; 및 상기 나노패턴 상에 금속층을 형성하는 단계;를 포함하는 나노구조체 제조방법으로서,상기 나노구조체는 금속층이 형성된 단위구조체가 간격을 갖고 주기적으로 배열됨으로써 형성된, 금속 나노갭 어레이를 포함하는 것인, 나노구조체 제조방법
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제15항에 있어서, 상기 나노패턴 형성 단계는,두 종류 이상의 단위체 블록을 포함하는 블록 공중합체 박막 형성 단계; 및상기 블록 공중합체 중 어느 하나의 단위체 블록을 선택적으로 제거하는 단계;를 포함하는, 나노구조체 제조방법
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제16항에 있어서, 상기 나노패턴 형성 단계는,단위체 블록이 선택적으로 제거된 후 잔류한 단위체 블록을 가교하는 단계;를 더 포함하는, 나노구조체 제조방법
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제15항에 있어서, 상기 나노패턴 형성 단계는,기판 표면을 개질하는 단계;를 더 포함하고,상기 기판 표면에 상기 블록 공중합체 패턴이 형성되는, 나노구조체 제조방법
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제18항에 있어서, 상기 개질 단계는,상기 기판에, 상기 블록 공중합체를 구성하는 구조단위들을 함유하는 랜덤 공중합체를 코팅하는 단계;를 포함하는, 나노구조체 제조방법
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제16항에 있어서, 단위체 블록을 선택적으로 제거하는 단계는,O2/Ar 플라즈마 반응 이온 에칭(RIE)에 의해 선택적으로 에칭하는 단계;를 포함하는, 나노구조체 제조방법
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제15항에 있어서, 상기 금속층을 형성하는 단계는 금속을 증착하는 단계를 포함하는, 나노구조체 제조방법
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제15항 내지 제21항 중 어느 한 항의 제조방법에 의해 제조된 나노구조체
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제22항에 기재된 나노구조체의 상기 금속층이 형성된 단위 구조체 사이의 간격 조절 방법으로서, 상기 금속층의 두께를 증가시켜서 상기 간격을 감소시키는, 나노구조체의 단위 구조체 사이의 간격 조절 방법
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제1항, 제2항 및 제4항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 나노구조체는 표면 증강 라만 분광법(surface-enhanced Raman spectroscopy, SERS)에 사용되는, 나노구조체
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제22항에 있어서, 상기 나노구조체는 SERS에 사용되는, 나노구조체
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제27항에 있어서, SERS 증강 인자(EF)가 108 이상인, 나노구조체
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제28항에 있어서, SERS 증강 인자(EF)가 108 이상인, 나노구조체
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제29항에 있어서, 직경 2인치 이상의 원에 상당하는 면적에서의 상기 증강 인자(EF)의 상대표준편차(relative standard deviation)가 15% 이하인, 나노구조체
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제30항에 있어서, 직경 2인치 이상의 원에 상당하는 면적에서의 상기 증강 인자(EF)의 상대표준편차가 15% 이하인, 나노구조체
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