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아조벤젠기를 함유하는 고분자의 국부적인 광유체화 현상을 이용한 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체의 제조방법

  • 기술번호 : KST2021015935
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체의 제조방법에 관한 것으로서, 아조벤젠기를 함유하는 고분자의 국부적인 광유체화 현상을 이용하여 원기둥 패턴에 원형편광을 가지는 두 개의 간섭 빛을 조사하여 상부에 리블렛(riblet)형 미세돌기가 형성된 덴티클 표면체를 제조함으로써 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항 특성을 띄게 할 뿐만 아니라, 덴티클 구조체의 제작 공정의 효율성, 구부러진 표면에서의 발수특성 및 유체 저항 특성 구현, 물질의 경제성 등 높은 발수 특성/유체 저항성 표면의 상용화가 가능한 효과가 있어 얼룩 방지 섬유 또는 외장재, 생물오손방지 의료용 튜브, 저항력 감소효과가 있는 수로 파이프 또는 배의 갑판 등에 유용하게 적용할 수 있는 저가의 대면적 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체를 제조하는 방법에 관한 것이다.
Int. CL B82B 3/00 (2017.01.01) B05D 5/08 (2006.01.01) B82Y 30/00 (2017.01.01)
CPC B82B 3/0038(2013.01) B05D 5/08(2013.01) B81C 1/0038(2013.01) B82Y 30/00(2013.01)
출원번호/일자 1020200093620 (2020.07.28)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-2338152-0000 (2021.12.07)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20211214) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.07.28)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김희탁 대전광역시 유성구
2 조원희 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장제환 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, **층 (역삼동, 윤익빌딩)(*T국제특허법률사무소)
2 이처영 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, **층 (역삼동, 윤익빌딩)(*T국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.07.28 수리 (Accepted) 1-1-2020-0788303-72
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2020.12.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2021.02.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2021-0134490-34
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2021.07.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0584562-32
5 [공지예외적용 보완 증명서류]서류제출서
2021.08.23 수리 (Accepted) 1-1-2021-0966724-45
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2021.08.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2021-0966726-36
7 [출원서 등 보완]보정서
2021.08.23 수리 (Accepted) 1-1-2021-0966723-00
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2021.08.23 수리 (Accepted) 1-1-2021-0966725-91
9 등록결정서
Decision to grant
2021.12.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0954066-21
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번호 청구항
1 1
다음 단계를 포함한 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체의 제조방법:(a) 기판 상에서 아조벤젠기를 포함하는 물질을 몰딩시켜 아조물질 원기둥 패턴을 형성하는 단계; 및(b) 상기 원기둥 패턴에 상기 아조벤젠기를 포함하는 물질의 광흡수 영역의 파장대의 원형편광을 가지는 두 개의 간섭 빛을 조사하여 상부에 리블렛(riblet)형 미세돌기를 갖는 덴티클 구조체(denticle structure)를 형성하는 단계
2 2
제1항에 있어서, 상기 아조벤젠기를 포함하는 물질은 아조벤젠기를 포함하는 고분자, 글래스 또는 덴드리머인 것을 특징으로 하는 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체의 제조방법
3 3
제2항에 있어서, 상기 아조벤젠기를 포함하는 고분자는 화학식 1 내지 화학식 10으로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체의 제조방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 (a) 단계에서 기판 상에 아조벤젠기를 포함하는 고분자를 용해시킨 용액으로 도포시키고 그 위를 탄성체 몰드로 덮은 다음 건조시키는 것을 특징으로 하는 하는 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체의 제조방법
5 5
제4항에 있어서, 상기 탄성체 몰드는 폴리디메틸실록산 및 PUA으로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체의 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 아조물질 원기둥 패턴은 3~100㎛의 지름 및 3~200㎛의 높이를 가진 원기둥 각각이 3~200㎛의 거리를 두고 형성된 것은 특징으로 하는 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체의 제조방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 (b) 단계는 아조벤젠기를 포함하는 물질의 흡수영역 파장 대의 원형 편광된 빛의 입사각(incidence angle)은 0~90°인 것을 특징으로 하는 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체의 제조방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 빛의 조사량은 1~500 Jcm-2이고, 빛의 세기는 1~1000 mWcm-2인 것을 특징으로 하는 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체의 제조방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 (b) 단계에서 원형편광을 가지는 두 개의 간섭 빛의 조사 시간에 따라 리블렛형 미세돌기의 깊이가 조절되는 것을 특징으로 하는 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체의 제조방법
10 10
제1항에 있어서, 상기 (b) 단계에서 원형편광을 가지는 두 개의 간섭 빛의 간섭 각도에 따라 리블렛형 미세돌기의 기하학적 구조의 형태가 조절되는 것을 특징으로 하는 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체의 제조방법
11 11
제1항에 있어서, 상기 (b) 단계에서 원형편광을 가지는 두 개의 간섭 빛의 조사 각도에 따라 리블렛형 미세돌기의 위치가 조절되는 것을 특징으로 하는 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체의 제조방법
12 12
제1항에 있어서, 상기 (b) 단계 이후에, (c) 상기 덴티클 구조체를 플루오로 계열의 기체로 표면처리하여 소수층이 코팅되는 단계를 추가로 포함하는 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체의 제조방법
13 13
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 것을 특징으로 하는 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체
14 14
제13항의 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체를 포함하는 섬유
15 15
제13항의 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체를 포함하는 외장재
16 16
제13항의 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체를 포함하는 의료용 튜브
17 17
제13항의 높은 발수특성 및 낮은 유체 저항성 표면체를 포함하는 수로 파이프
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.