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폴리머 후막 저항체 형성 방법

  • 기술번호 : KST2015145399
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 폴리머 후막 저항체 형성 방법에 관한 것으로, 전도성부가 형성된 기판 위에 감광성 저항용 페이스트를 도포시 종래와 같은 스크린 인쇄 방식을 이용하지 않고, 감광성 저항용 페이스트가 구비된 핸드 롤러 또는 롤 코터 등을 이용한 롤 코팅 방식으로 상기 감광성 저항용 페이스트를 도포함으로써 기판 내 두께 편차를 줄이고, 최종 경화 후 저항치의 허용편차가 작은 폴리머 후막 저항체를 형성하는 방법에 대한 것이다. 감광, 저항체, 페이스트, 편차
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01)
출원번호/일자 1020070076705 (2007.07.31)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-0903967-0000 (2009.06.15)
공개번호/일자 10-2009-0012682 (2009.02.04) 문서열기
공고번호/일자 (20090625) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.07.31)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박성대 대한민국 서울특별시 송파구
2 박세훈 대한민국 경기도 성남시 분당구
3 유명재 대한민국 서울특별시 광진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정종옥 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)
2 조현동 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 (도곡동, 덕영빌딩)(노벨국제특허법률사무소)
3 진천웅 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 전자부품연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.07.31 수리 (Accepted) 1-1-2007-0558135-86
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.05.02 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.06.10 수리 (Accepted) 9-1-2008-0034258-35
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.06.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0334262-60
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.08.25 수리 (Accepted) 1-1-2008-0602382-58
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.08.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0602407-12
7 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2008.12.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0640535-74
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.02.19 수리 (Accepted) 1-1-2009-0103549-05
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.02.19 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2009-0103550-41
10 등록결정서
Decision to grant
2009.06.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0251153-57
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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지지부 상부에 상호 이격되어 있는 한 쌍의 전도성부를 형성하는 단계와; 감광성 저항용 페이스트가 구비된 핸드 롤러 또는 롤 코터를 회전시켜서, 상기 전도성부가 형성된 지지부 상에 상기 감광성 저항용 페이스트를 도포하는 단계와; 및 상기 도포된 감광성 저항용 페이스트를 노광시켜서 저항체 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 폴리머 후막 저항체 형성 방법으로서, 하기의 식으로 표현되는 허용편차(%)가 8% 이내인 저항체를 형성하는 것을 특징으로 하는 폴리머 후막 저항체 형성방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 형성된 저항체 패턴 상에 보호막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 후막 저항체 형성 방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 감광성 저항용 페이스트를 도포하는 것은 2회 또는 3회 반복 도포하는 것을 특징으로 하는 폴리머 후막 저항체 형성 방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 감광성 저항용 페이스트는 전도성 필러, 포토 솔더 레지스트, 분산제 및 솔벤트로 이루어지고, 상기 전도성 필러는 카본 블랙, 그라파이트(흑연) 및 은(Ag)으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 폴리머 후막 저항체 형성 방법
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패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업자원부 삼성전기,대주전자재료 부품소재기술개발사업 Organic System Module용 Embedded 기판 개발