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X-선 마스크 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015145754
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 X-선 마스크 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 외부로부터 조사된 X-선을 흡수하는 X-선 흡수체가 사다리꼴 형상으로 형성되도록 X-선 마스크를 제조하여 가장 자리와 각이, 휘어지거나 처지지 않고, 날카로우면서도 선명한 V-groove형상을 시편에 패터닝할 수 있도록 한다. 이를 위해 본 발명은, 기판 상부에 스트라이프 형태로 패터닝시켜 형성한 금속층인 도금 기저막을 형성하고, 이 도금 기저막 상부에 금으로 전기 도금을 시켜 제 1 X-선 흡수체와 제 2 X-선 흡수체를 순차적으로 형성하되, 제 2 X-선 흡수체는 양측면의 상부 일부가 각기 경사진 예컨대 사다리꼴 형상으로 형성하도록 한다. X-선, 마스크, V-groove, 흡수체, 사다리꼴
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 1/22(2013.01) G03F 1/22(2013.01)
출원번호/일자 1020020075635 (2002.11.30)
출원인 전자부품연구원, 엘지전자 주식회사
등록번호/일자 10-0501768-0000 (2005.07.07)
공개번호/일자 10-2004-0047417 (2004.06.05) 문서열기
공고번호/일자 (20050718) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.11.30)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정석원 대한민국 경기도오산시
2 조진우 대한민국 경기도성남시분당구
3 오현석 대한민국 경기도수원시팔달구
4 박석호 대한민국 서울특별시송파구
5 최영준 대한민국 서울특별시관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정종옥 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)
2 조담 대한민국 서울(특허법인 퇴사후 사무소변경 미신고)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 전자부품연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2002-0398512-04
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2003.10.16 수리 (Accepted) 4-1-2003-0055522-32
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2004.11.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2004.12.14 수리 (Accepted) 9-1-2004-0072967-29
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2004.12.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0531327-12
6 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2005.02.15 수리 (Accepted) 1-1-2005-0078945-46
7 의견서
Written Opinion
2005.03.11 수리 (Accepted) 1-1-2005-0131091-48
8 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2005.03.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2005-0131089-56
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2005.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2005-5036534-08
10 등록결정서
Decision to grant
2005.07.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0321119-31
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2008-5128387-76
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.04.27 수리 (Accepted) 4-1-2009-5080835-50
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.11.03 수리 (Accepted) 4-1-2009-0023850-26
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상부에 도금 기저막과 제 1 포토 레지스트층을 순차적으로 형성하는 제 1 단계; 상기 제 1 단계에 따라 형성한 제 1 포토 레지스트층을 패터닝하여 도금 기저막 일부를 노출시키는 제 2 단계;상기 노출된 도금 기저막의 상부에 금(Au)으로 이루어진 제 1 X-선 흡수체를 형성하는 제 3 단계;상기 제 2 단계에 따라 패터닝하고 남아있는 제 1 포토 레지스트층과, 상기 제 1 X-선 흡수체의 상부 전면에 제 2 포토 레지스트층을 형성하는 제 4 단계;상기 제 2 포토 레지스트층을 패터닝하여 노출된 제 1 X-선 흡수체의 상부에, 양측면의 상부 일부가 각기 경사지고, 금(Au)으로 이루어진 제 2 X-선 흡수체를 형성하는 제 5 단계;상기 남아있는 제 1 포토 레지스트층과, 상기 제 5 단계에 따라 패터닝하고 남아 있는 제 2 포토 레지스트층을 제거하여 도금 기저막의 일부를 노출시키고, 노출된 도금 기저막을 제거하는 제 6 단계로 이루어지는, X-선 마스크 제조 방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 제 5 단계의 제 2 X-선 흡수체는; 사다리꼴 형상인 것을 특징으로 하는, X-선 마스크 제조 방법
3 3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 5 단계는; 상기 기판을 수직 방향을 기준으로 일정 경사 각도만큼 일측으로 기울이고 상기 기판으로 X-선을 조사하여 노광하는 제 1 과정; 상기 제 1 과정에 따라 X-선이 조사된 기판을 수직 방향을 기준으로 일정 경사 각도만큼 타측으로 기울여 상기 기판으로 한 번 더 X-선을 조사하여, 상기 제 2 포토 레지스트층에 양측면의 상부 일부가 각기 경사진 비노광부위를 형성하는 제 2 과정; 상기 제 2 과정에 따라 형성된 비노광부위를 제거하여 노출된 상기 제 1 X-선 흡수체의 상부에 전기 도금으로 코팅하여 제 2 X-선 흡수체를 형성하는 제 3 과정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는, X-선 마스크 제조 방법
4 4
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5 5
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6 6
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7 6
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패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.