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센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판의 제조방법 및 이를 포함하는 전자 소자

  • 기술번호 : KST2022008315
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 유연성 고분자 기판 상에 배치된 집적 회로부 상에 보호층을 형성하는 단계; 상기 유연성 고분자 기판 상에 제 1 금속을 증착하여 시드층을 형성하는 단계; 상기 시드층을 패터닝하여 제 1 금속층을 형성하는 단계; 및 상기 제 1 금속층 상에 제 2 금속층을 증착하여 센서 전극부를 형성하는 단계를 포함하는, 센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판의 제조 방법.
Int. CL H05K 3/14 (2006.01.01) H05K 3/24 (2006.01.01) H05K 3/28 (2006.01.01) H05K 3/02 (2006.01.01)
CPC H05K 3/146(2013.01) H05K 3/24(2013.01) H05K 3/28(2013.01) H05K 3/027(2013.01) H05K 2201/0145(2013.01) H05K 2201/0154(2013.01) H05K 2201/0158(2013.01)
출원번호/일자 1020200170177 (2020.12.08)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0080903 (2022.06.15) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.12.08)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김선국 경기도 수원시 장안구
2 스리니바스 경기도 수원시 장안구
3 백승호 경기도 수원시 장안구
4 강선주 경기도 수원시 장안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 한선희 대한민국 서울시 강남구 논현로 *** 여산빌딩 *층 ***호(온유특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2020-1327490-80
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.07.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2022.02.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2022-0022614-06
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2022.02.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2022-0116067-89
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2022.03.21 수리 (Accepted) 1-1-2022-0299963-17
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2022.03.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2022-0299959-34
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번호 청구항
1 1
유연성 고분자 기판 상에 배치된 집적 회로부 상에 보호층을 형성하는 단계;상기 유연성 고분자 기판 상에 제 1 금속을 증착하여 시드층을 형성하는 단계;상기 시드층을 패터닝하여 제 1 금속층을 형성하는 단계; 및상기 제 1 금속층 상에 제 2 금속층을 증착하여 센서 전극부를 형성하는 단계;를 포함하는,센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판의 제조 방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 금속층이 노출되지 않도록 상기 제 2 금속층이 증착되는 것인, 센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판의 제조 방법
3 3
제 2 항에 있어서,상기 제 2 금속층이 상기 제 1 금속층의 산화를 방지하여 상기 센서 전극부의 내구도가 향상되는 것인, 센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판의 제조 방법
4 4
제 1 항에 있어서,상기 보호층을 제거하는 단계를 추가 포함하는 것인, 센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판의 제조 방법
5 5
제 1 항에 있어서,상기 제 1 금속은 Ti, Cu, Ag, Pt 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 것인, 센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판의 제조 방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 제 2 금속은 Pt, Au, Cu, Ag 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 것인, 센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판의 제조 방법
7 7
제 1 항에 있어서,상기 패터닝에 의해 상기 센서 전극부로 사용될 시드층을 제외한 나머지 시드층이 제거되는 것인, 센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판의 제조 방법
8 8
제 1 항에 있어서,상기 패터닝은 레이저 공정에 의해 수행되는 것인, 센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판의 제조 방법
9 9
제 1 항에 있어서,상기 시드층을 형성하는 단계에서 상기 보호층에 의해 상기 집적 회로부가 보호되는 것인, 센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판의 제조 방법
10 10
제 1 항에 있어서,상기 보호층은 고분자 물질을 포함하는 것인, 센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판의 제조 방법
11 11
제 10 항에 있어서,상기 고분자 물질은 폴리이미드, 아세탈 고분자, 생분해성 고분자, 셀룰로오스 고분자, 플루오로 고분자, 나일론, 폴리아크릴로니트릴 고분자, 폴리아미드-이미드 고분자, 폴리아릴레이트, 폴리벤즈이미다졸, 폴리부틸렌, 폴리카보네이트, 폴리에스터, 폴리에테르이미드, 폴리에틸렌, 폴리에틸렌 공중합체 및 변형된 폴리에틸렌, 폴리케톤, 폴리(메틸 메타크릴레이트), 폴리메틸펜텐, 폴리페닐렌 옥사이드 및 폴리페닐렌 설파이드, 폴리프탈아미드, 폴리프로필렌, 폴리우레탄, 스티렌계 수지, 설폰 기반 수지, 비닐 기반의 수지, 고무(rubber) (천연 고무, 스티렌-부타디엔, 폴리부타디엔, 네오프렌, 에틸렌-프로필렌, 부틸, 니트릴, 실리콘을 포함하는), 아크릴, 나일론, 폴리카보네이트, 폴리에스터, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리비닐 클로라이드, 폴리올레핀 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인,센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판의 제조 방법
12 12
제 1 항에 있어서,상기 유연성 고분자 기판은 방향족 탄화 수소를 포함하는 것인, 센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판의 제조 방법
13 13
제 1 항에 있어서,상기 유연성 고분자 기판은 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리노르보넨, 폴리아크릴레이트, 폴리비닐알콜, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르설폰, 폴리스타일렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리염화비닐, 폴리아미드, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리디메틸실록산, 폴리페닐설파이드, 폴리에테르에테르케톤, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인,센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판의 제조 방법
14 14
유연성 고분자 기판;상기 유연성 고분자 기판 상에 형성된 집적 회로부; 및상기 유연성 고분자 기판 상에 형성된 패터닝된 센서 전극부;를 포함하고, 상기 센서 전극부는 제 1 금속층 상에 형성된 제 2 금속층을 포함하며, 상기 집적 회로부 및 상기 센서 전극부가 일체형인 것인,센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판
15 15
제 14 항에 있어서,상기 집적 회로부 및 상기 센서 전극부는 동일한 면에 배치되는 것인, 센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판
16 16
제 14 항에 있어서,상기 제 2 금속층에 의해 상기 제 1 금속층의 산화가 방지되는 것인, 센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판
17 17
제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 따른 센서 및 집적 회로 일체형 연성회로기판을 포함하는, 전자 소자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 성균관대학교 산학협력단 중견연구(총연구비3억초과~5억이하) 오감증강형 2차원 나노센서 시스템 개발
2 산업통상자원부 한국전자기술연구원 웨어러블스마트디바이스용핵심부품요소기술개발 생체신호의 초감도 감지를 위한 저차원 소재기반 플렉시블/웨어러블 기기 개발