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채널막을 포함하는 소자 제조 방법 및 그를 이용하여 제조된 센서 소자

  • 기술번호 : KST2015131914
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 기술은 전기 잡음을 감소시키는 채널막 형성 방법 및 그를 이용하여 제조된 센서 소자에 관한 것이다. 본 기술은 채널막 형성 방법에 있어서, 복수의 나노 구조의 네트워크로 이루어지는 채널막을 포함하는 소자 제조 방법에 있어서, 기판 상에, 전극과 교차하는 영역에서 폭이 증가하는 형상을 갖는 채널막을 형성하는 단계; 및 상기 채널막이 형성된 결과물 상에, 상기 채널막과 교차하는 전극을 형성하는 단계를 포함한다. 본 기술에 따르면, 채널막과 전극의 접촉 면적을 증가시킴으로써, 전기 잡음을 감소시켜 소자의 특성을 향상시킬 수 있다. 특히, 센서 소자의 경우, 채널막과 전극의 접촉 면적 즉, 검지부의 면적을 증가시킴으로써, 센서 소자의 동작을 향상시킬 수 있다. 나노 와이어, 나노 튜브
Int. CL B82B 3/00 (2017.01.01) H01L 21/027 (2006.01.01) B82Y 15/00 (2017.01.01)
CPC B82B 3/0009(2013.01) B82B 3/0009(2013.01) B82B 3/0009(2013.01) B82B 3/0009(2013.01)
출원번호/일자 1020090052411 (2009.06.12)
출원인 서울대학교산학협력단, 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1042012-0000 (2011.06.09)
공개번호/일자 10-2009-0129965 (2009.12.17) 문서열기
공고번호/일자 (20110617) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020080055633   |   2008.06.13
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.06.12)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구
2 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍승훈 대한민국 서울특별시 송파구
2 이형우 대한민국 경기도 안양시 동안구
3 남궁선 대한민국 서울특별시 마포구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신성특허법인(유한) 대한민국 서울특별시 송파구 중대로 ***, ID타워 ***호 (가락동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구
2 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.06.12 수리 (Accepted) 1-1-2009-0356741-21
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.12 수리 (Accepted) 4-1-2010-5149278-93
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.12.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.01.17 수리 (Accepted) 9-1-2011-0003688-21
5 등록결정서
Decision to grant
2011.03.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0132662-20
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.09.27 수리 (Accepted) 4-1-2011-5195109-43
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-5007213-54
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
복수의 나노 구조의 네트워크로 이루어지는 채널막을 포함하는 소자 제조 방법에 있어서, 기판 상에, 전극과 교차하는 영역에서 폭이 증가하는 형상을 갖는 채널막을 형성하는 단계; 및 상기 채널막이 형성된 결과물 상에, 상기 채널막과 교차하는 전극을 형성하는 단계 를 포함하는 소자 제조 방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 채널막은, 소정 폭의 라인형을 갖되, 전극과 교차하는 영역에서 폭이 증가하는 형상을 갖는 소자 제조 방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 채널막은, 소정 폭의 라인형을 갖되, 말단의 폭이 증가된 덤벨 형상인 소자 제조 방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 나노 구조는, 나노입자, 나노튜브 또는 나노선 를 포함하는 소자 제조 방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 채널막 형성 단계는, 상기 기판의 채널 영역 외의 영역에 비흡착성 물질막을 형성하는 단계; 및 상기 비흡착성 물질막이 형성된 기판을 나노 구조 용액에 넣어 상기 채널 영역에 채널막을 형성하는 단계 를 포함하는 소자 제조 방법
6 6
제 5 항에 있어서, 상기 비흡착성 물질막 형성 단계는, 상기 기판의 채널 영역에 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 포토레지스트 패턴이 형성된 기판을 소수성 분자를 포함하는 용액에 넣어, 상기 채널 영역 외의 영역에 소수성 분자막을 형성하는 단계; 및 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계 를 포함하는 소자 제조 방법
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 채널막 형성 단계는, 상기 나노 구조 용액에 포함된 복수의 나노 구조가 상기 채널 영역에 흡착되어 상호 네트워크를 형성함으로써, 상기 채널막을 형성하는 소자 제조 방법
8 8
제 1 항에 있어서, 상기 기판은, 표면에 SiO2, Al2O3, ZrO2 또는 HfO2로 이루어지는 산화막이 형성된 소자 제조 방법
9 9
복수의 나노 구조의 네트워크로 이루어지는 채널막을 포함하는 센서 소자에 있어서, 전극과 교차하는 영역에서 폭이 증가하는 형상을 갖는 채널막; 및 상기 채널막과 교차하는 전극 을 포함하는 센서 소자
10 10
제 9 항에 있어서, 상기 채널막은, 소정 폭의 라인형을 갖되, 전극과 교차하는 영역에서 폭이 증가하는 형상을 갖는 센서 소자
11 11
제 9 항에 있어서, 상기 채널막은, 소정 폭의 라인형을 갖되, 말단의 폭이 증가된 덤벨 형상인 센서 소자
12 12
제 9 항에 있어서, 상기 나노 구조는, 나노입자, 나노튜브 또는 나노선 를 포함하는 센서 소자
13 13
제 9 항에 있어서, 상기 채널막과 전극의 교차 영역은, 소정 물질을 감지하는 검지부인 센서 소자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 서울특별시 고려대학교 산학협력단 서울시 산학연 협력사업 안전한 식수확보를 위한 신속 정확한 휴대형 유해물질 검출시스템 개발