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습식 식각을 이용한 수직 구조물 제작 방법

  • 기술번호 : KST2015001677
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 습식 식각을 이용한 수직 구조물 제작 방법이 제공된다. 수직 관통형 구조물을 제작하기 위한 제1마스크를 이용하여 수직 관통형 구조물에 해당하는 패턴을 기판의 양면에 동일하게 패터닝하는 단계와, 제1마스크에 의해 패터닝된 기판을 제1용액을 이용하여 식각하는 단계와, 수직 관통형 구조물에 포함된 기판의 식각을 중지하는 단계를 포함한다.
Int. CL B81C 1/00 (2006.01.01) H01L 21/027 (2006.01.01) H01L 21/306 (2006.01.01)
CPC B81C 1/00031(2013.01) B81C 1/00031(2013.01) B81C 1/00031(2013.01)
출원번호/일자 1020120070054 (2012.06.28)
출원인 서울대학교산학협력단, 전북대학교산학협력단, 이화여자대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1361610-0000 (2014.02.05)
공개번호/일자 10-2014-0002973 (2014.01.09) 문서열기
공고번호/일자 (20140212) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.06.28)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구
2 전북대학교산학협력단 대한민국 전라북도 전주시 덕진구
3 이화여자대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김현석 대한민국 서울 서초구
2 김용권 대한민국 서울 강남구
3 방용승 대한민국 서울 구
4 김정무 대한민국 전라북도 전주시 덕진구
5 지창현 대한민국 서울 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김동진 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *** (역삼동, 신명빌딩 *층)(청우특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 서울특별시 관악구
2 전북대학교산학협력단 전라북도 전주시 덕진구
3 이화여자대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.06.28 수리 (Accepted) 1-1-2012-0518193-59
2 보정요구서
Request for Amendment		 2012.07.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0087069-01
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2012.07.23 수리 (Accepted) 1-1-2012-0585432-26
4 [공지예외적용대상(신규성, 출원시의 특례)증명서류]서류제출서
[Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)] Submission of Document		 2012.07.24 수리 (Accepted) 1-1-2012-0590751-04
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2012-5206243-46
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-5007213-54
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.04.25 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.06.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0046959-10
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.06.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0441788-13
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.08.26 수리 (Accepted) 1-1-2013-0775938-18
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.08.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0775936-16
12 등록결정서
Decision to grant		 2014.01.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0069086-88
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2016-5013206-34
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.02.27 수리 (Accepted) 4-1-2019-5038917-11
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146985-61
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146986-17
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.10.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5219602-91
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5149086-79
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판의 일부가 노출되는 패턴을 가지는 타이머-수직 관통형 구조물이 수직으로 관통하는 시점을 판단하는데 사용됨-를 상기 기판의 양면에 제1마스크를 통해 패터닝하는 단계;상기 제1마스크를 통해 패터닝하는 단계를 수행한 후, 상기 수직 관통형 구조물을 제작하기 위한 제2마스크를 이용하여 상기 수직 관통형 구조물에 해당하는 패턴을 상기 기판의 양면에 동일하게 패터닝하는 단계;상기 제1마스크와 상기 제2마스크에 의해 패터닝된 기판을 제1용액을 이용하여 식각하는 단계; 및상기 수직 관통형 구조물에 포함된 기판의 식각을 중지하는 단계;를 포함하며, 상기 기판의 식각을 중지하는 단계는, 상기 타이머에 포함된 기판이 모두 식각되는 시점에 상기 수직 관통형 구조물에 포함된 기판의 식각을 중지하는 단계인 것을 특징으로 하는 양면 식각을 이용한 수직 구조물 제작 방법
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서,상기 제1마스크를 통해 패터닝하는 단계와 상기 제2마스크를 이용하여 패터닝하는 단계 사이에 수행되는 단계로서, 상기 타이머가 형성된 기판의 양면을 동시에 식각하여 상기 타이머 중 003c#110003e# 방향에 해당하는 부분을 남겨두는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양면 식각을 이용한 수직 구조물 제작 방법
4 4
제1항에 있어서,상기 제1마스크를 통해 패터닝하는 단계 이전에 수행되는 단계로서, 상기 제2마스크가 003c#110003e# 방향에 일치하도록 상기 003c#110003e# 방향에 대한 기준 방향을 제시하는 기준 패턴을 상기 기판의 양면에 패터닝하는 단계; 및 상기 제1마스크를 통해 패터닝하는 단계와 상기 제2마스크를 이용하여 패터닝하는 단계 사이에 수행되는 단계로서, 상기 기준 패턴 중 상기 003c#110003e# 방향을 제외한 부분을 모두 식각하는 단계;를 더 포함하며,상기 제2마스크를 이용하여 패터닝하는 단계는, 상기 기준 패턴의 003c#110003e# 방향에 상기 제2마스크가 일치하도록 한 후 패터닝하는 것을 특징으로 하는 양면 식각을 이용한 수직 구조물 제작 방법
5 5
제1항에 있어서,상기 제1용액을 이용하여 식각하는 단계 이후,상기 타이머에 포함된 기판이 모두 식각되기 이전에 상기 제1용액을 제2용액으로 변경하여 상기 기판을 식각하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양면 식각을 이용한 수직 구조물 제작 방법
6 6
제1항에 있어서,상기 식각하는 단계는 습식 식각 방식을 이용하여 상기 기판의 양면을 동시에 식각하는 것을 특징으로 하는 양면 식각을 이용한 수직 구조물 제작 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.