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ＰＲＡＭ에 사용하기 위한 ＧＳＴ막의 화학적 기계적 연마 방법 및 장치

  • 기술번호 : KST2015134638
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 GST막의 화학적 기계적 연마 방법에 관한 것으로서, 가열 수단을 이용하여 화학적 기계적 연마 중에 연마 패드의 온도를 35 ℃이상 38 ℃이하로 조절하고, 연마 패드 상부에 슬러리를 주입한 다음, 연마 패드 상부에 위치한 홀더에 홀딩되어 있는 GST 막을 연마하는 것을 특징으로 하며, 산화제인 과산화수소를 사용하지 않으면서도 연마 패드를 특정 온도로 조절함으로써, GST막의 표면조도와 연마량을 향상시킬 수 있다.
Int. CL H01L 21/8247 (2006.01) H01L 27/115 (2006.01) H01L 21/304 (2006.01)
CPC H01L 21/30604(2013.01)
출원번호/일자 1020110118433 (2011.11.14)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1284553-0000 (2013.07.04)
공개번호/일자 10-2013-0053004 (2013.05.23) 문서열기
공고번호/일자 (20130711) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.11.14)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임대순 대한민국 서울특별시 강남구
2 신동희 대한민국 경기도 고양시 덕양구
3 이동현 대한민국 서울특별시 양천구
4 이양복 대한민국 서울특별시 은평구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.11.14 수리 (Accepted) 1-1-2011-0897741-79
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.10.23 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.11.15 수리 (Accepted) 9-1-2012-0084986-99
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.11.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0710389-07
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.01.22 수리 (Accepted) 1-1-2013-0062017-59
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.02.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0168047-71
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.02.25 수리 (Accepted) 1-1-2013-0168002-27
8 등록결정서
Decision to grant		 2013.07.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0456900-82
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
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번호 청구항
1 1
가열 수단을 이용하여 화학적 기계적 연마 중에 연마 패드의 온도를 35 ℃이상 38 ℃이하로 조절하는 단계;상기 연마 패드 상부에 슬러리를 주입하는 단계; 및상기 연마 패드 상부에 위치한 홀더에 홀딩되어 있는 GST 막을 연마하는 단계를 포함하는 GST막의 화학적 기계적 연마 방법
2 2
제1 항에 있어서,상기 슬러리의 온도는 상기 연마 패드의 온도와 동일한 35 ℃이상 38 ℃이하로 조절되는 것을 특징으로 하는 GST막의 화학적 기계적 연마 방법
3 3
제1 항에 있어서,상기 가열 수단은 할로겐 램프 또는 전기 히터를 포함하는 것을 특징으로 하는 GST막의 화학적 기계적 연마 방법
4 4
화학적 기계적 연마 중에 연마 패드의 온도를 35 ℃이상 38 ℃이하로 조절하는 가열 수단;상기 연마 패드 상부에 슬러리를 주입하는 슬러리 공급부; 및상기 연마 패드 상부에 위치한 홀더에 홀딩되어 있는 GST 막을 연마하는 연마 패드를 포함하는 GST막의 화학적 기계적 연마 장치
5 5
제4 항에 있어서,상기 슬러리의 온도는 상기 연마 패드의 온도와 동일한 35 ℃이상 38 ℃이하로 조절되는 것을 특징으로 하는 GST막의 화학적 기계적 연마 장치
6 6
제4 항에 있어서,상기 가열 수단은 할로겐 램프 또는 전기 히터를 포함하는 것을 특징으로 하는 GST막의 화학적 기계적 연마 장치
7 7
제4 항에 있어서,상기 연마 패드의 온도를 센싱하는 온도 센서부; 및상기 온도 센서부로부터 상기 연마 패드의 온도를 수신하고, 상기 가열 수단을 제어하여 상기 연마 패드의 온도를 35 ℃이상 38 ℃이하로 조절하도록 하는 온도 컨트롤러부를 더 포함하는 GST막의 화학적 기계적 연마 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.