요약 | 본 발명은 발광소자에 관한 발명으로서, 보다 구체적으로 이중 게이트로 조절되는 다이오드 구조를 이용한 발광소자에 관한 발명이다. 본 발명의 일측면은 P형 반도체; N형 반도체; 상기 P형 반도체 및 상기 N형 반도체 사이에 연결된 반도체 필름; 상기 반도체 필름의 위에 위치하여, 상기 반도체 필름에 전기장을 인가하기 위한 제1 전극; 및 상기 반도체 필름의 아래에 위치하여, 상기 반도체 필름에 추가적인 전기장을 인가하기 위한 제2 전극을 구비하는 발광 소자를 제공한다. |
---|---|
Int. CL | H01L 33/02 (2010.01.01) H01L 33/00 (2010.01.01) H01L 33/36 (2010.01.01) |
CPC | H01L 33/02(2013.01) H01L 33/02(2013.01) H01L 33/02(2013.01) H01L 33/02(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020080003994 (2008.01.14) |
출원인 | 서울대학교산학협력단 |
등록번호/일자 | 10-0971716-0000 (2010.07.15) |
공개번호/일자 | 10-2009-0078177 (2009.07.17) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20100721) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2008.01.14) |
심사청구항수 | 18 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 서울대학교산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 박영준 | 대한민국 | 서울 관악구 |
2 | 이강무 | 대한민국 | 경기 성남시 수정구 |
3 | 김헌석 | 대한민국 | 서울 양천구 |
4 | 천준호 | 대한민국 | 서울 서초구 |
5 | 권성훈 | 대한민국 | 서울 관악구 |
6 | 박찬형 | 대한민국 | 서울 송파구 |
7 | 정인영 | 대한민국 | 경기 수원시 권선구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 남정길 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 인화빌딩 *층 (삼성동)(특허법인(유한)아이시스) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 서울대학교산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2008.01.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0029494-22 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2008.01.29 | 수리 (Accepted) | 4-1-2008-5015497-73 |
3 | [출원인변경]권리관계변경신고서 [Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status |
2009.02.09 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0077289-73 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2009.11.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0491117-86 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2010.01.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0055329-10 |
6 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2010.01.27 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0055328-75 |
7 | 등록결정서 Decision to grant |
2010.04.15 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0158056-35 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.09.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5195109-43 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.01.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5007213-54 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.03.17 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5033829-92 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5062924-01 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5093546-10 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.05.23 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5101798-31 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.08.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5154561-59 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 P형 반도체; N형 반도체; 상기 P형 반도체 및 상기 N형 반도체 사이에 연결된 반도체 필름; 상기 반도체 필름의 위에 위치하여, 상기 반도체 필름에 전기장을 인가하기 위한 제1 전극; 및 상기 반도체 필름의 아래에 위치하여, 상기 반도체 필름에 추가적인 전기장을 인가하기 위한 제2 전극을 구비하되, 상기 제1 전극에는 상기 반도체 필름의 상부에 반전 및 축적 중 어느 하나가 일어나도록 하는 제1 전압이 인가되고, 상기 제2 전극에는 상기 반도체 필름의 하부에 상기 반전 및 상기 축적 중 나머지 하나가 일어나도록 하는 제2 전압이 인가되며, 상기 반도체 필름의 상기 상부 및 상기 하부 사이의 터널링 현상으로 인하여 일어나는 전자-홀 재결합에 의하여 발광이 제어되는 발광 소자 |
2 |
2 제1 항에 있어서, 상기 제1 전극과 상기 반도체 필름 사이에 위치한 제1 절연체; 및 상기 제2 전극과 상기 반도체 필름 사이에 위치한 제2 절연체를 더 포함하는 발광 소자 |
3 |
3 삭제 |
4 |
4 삭제 |
5 |
5 제1 항에 있어서, 상기 제1 전극에 인가되는 제1 전압 및 상기 제2 전극에 인가되는 제2 전압은 서로 다른 값을 가지는 발광 소자 |
6 |
6 제1 항에 있어서, 상기 반도체 필름은 P형 또는 N형으로 도핑된 발광 소자 |
7 |
7 제1 항에 있어서, 상기 P형 반도체 및 상기 N형 반도체에는 순방향 전류가 흐르도록 하는 전압이 인가된 발광 소자 |
8 |
8 제1 항에 있어서, 상기 P형 반도체, 상기 N형 반도체 및 상기 반도체 필름은 실리콘인 발광 소자 |
9 |
9 제1 항에 있어서, 상기 P형 반도체 및 상기 N형 반도체 각각은 상기 반도체 필름의 측면에 연결된 발광 소자 |
10 |
10 (a) P형 반도체, N형 반도체 및 반도체 필름-상기 반도체 필름은 상기 P형 반도체 및 상기 N형 반도체 사이에 연결됨-을 제공하는 단계; 및 (b) 상기 P형 반도체 및 상기 N형 반도체에 순방향 전류가 흐르도록 하는 전압을 인가하고, 상기 반도체 필름의 상부에는 반전 및 축적 중 어느 하나가 일어나도록 하고, 상기 반도체 필름의 하부에는 상기 반전 및 상기 축적 중 나머지 하나가 일어나도록 하는 단계를 포함하고, 상기 반도체 필름의 상기 상부 및 상기 하부 사이의 터널링 현상으로 인하여 일어나는 전자-홀 재결합에 의하여 상기 반도체 필름의 발광이 제어되는 발광 방법 |
11 |
11 삭제 |
12 |
12 제10 항에 있어서, 상기 (b) 단계에서, 제1 절연체를 사이에 두고 상기 반도체 필름과 이격된 제1 전극에 인가된 제1 전압에 의하여 상기 반도체 필름의 상기 상부에 상기 반전 및 상기 축적 중 상기 어느 하나가 일어나고, 제2 절연체를 사이에 두고 상기 반도체 필름과 이격된 제2 전극에 인가된 제2 전압에 의하여 상기 반도체 필름의 상기 하부에 상기 반전 및 상기 축적 중 상기 나머지 하나가 일어나도록 하는 발광 방법 |
13 |
13 제10 항에 있어서, 상기 (b) 단계에서, 면 발광이 일어나는 발광 방법 |
14 |
14 제10 항에 있어서, 상기 반도체 필름은 P형 또는 N형으로 도핑된 발광 방법 |
15 |
15 제10 항에 있어서, 상기 P형 반도체, 상기 N형 반도체 및 상기 반도체 필름은 실리콘인 발광 방법 |
16 |
16 제10 항에 있어서, 상기 P형 반도체 및 상기 N형 반도체 각각은 상기 반도체 필름의 측면에 연결된 발광 방법 |
17 |
17 (a) P형 반도체, N형 반도체 및 반도체 필름-상기 반도체 필름은 상기 P형 반도체 및 상기 N형 반도체 사이에 연결됨-을 제공하는 단계; 및 (b) 상기 P형 반도체 및 상기 N형 반도체에 순방향 전류가 흐르도록 하는 전압을 인가하고, 상기 반도체 필름의 상부 및 하부 사이의 터널링 현상이 일어나도록 함으로써, 상기 터널링 현상으로 인하여 일어나는 전자-홀 재결합에 의하여 상기 반도체 필름이 발광하도록 하는 단계 를 포함하는 발광 방법 |
18 |
18 제17 항에 있어서, 상기 (b) 단계에서, 면 발광이 일어나는 발광 방법 |
19 |
19 제17 항에 있어서, 상기 반도체 필름은 P형 또는 N형으로 도핑된 발광 방법 |
20 |
20 제17 항에 있어서, 상기 P형 반도체, 상기 N형 반도체 및 상기 반도체 필름은 실리콘인 발광 방법 |
21 |
21 제17 항에 있어서, 상기 P형 반도체 및 상기 N형 반도체 각각은 상기 반도체 필름의 측면에 연결된 발광 방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | KR101442800 | KR | 대한민국 | FAMILY |
2 | US20110050121 | US | 미국 | FAMILY |
3 | WO2009091176 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
4 | WO2009091176 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US2011050121 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
특허 등록번호 | 10-0971716-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20080114 출원 번호 : 1020080003994 공고 연월일 : 20100721 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20100415 청구범위의 항수 : 18 유별 : H01L 33/02 발명의 명칭 : 이중 게이트로 조절되는 다이오드 구조를 이용한 발광소자 존속기간(예정)만료일 : 20190716 |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 서울대학교산학협력단 서울특별시 관악구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 373,500 원 | 2010년 07월 15일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 436,000 원 | 2013년 07월 10일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 436,000 원 | 2014년 07월 07일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 305,200 원 | 2015년 06월 29일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 784,000 원 | 2016년 02월 04일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 548,800 원 | 2017년 06월 26일 | 납입 |
제 9 년분 | 금 액 | 392,000 원 | 2018년 06월 20일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2008.01.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0029494-22 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2008.01.29 | 수리 (Accepted) | 4-1-2008-5015497-73 |
3 | [출원인변경]권리관계변경신고서 | 2009.02.09 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0077289-73 |
4 | 의견제출통지서 | 2009.11.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0491117-86 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2010.01.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0055329-10 |
6 | [명세서등 보정]보정서 | 2010.01.27 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0055328-75 |
7 | 등록결정서 | 2010.04.15 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0158056-35 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.09.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5195109-43 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.01.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5007213-54 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.03.17 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5033829-92 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5062924-01 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5093546-10 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.05.23 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5101798-31 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.08.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5154561-59 |
기술정보가 없습니다 |
---|
과제고유번호 | 1345102053 |
---|---|
세부과제번호 | 2007-0056573 |
연구과제명 | C로봇의기술개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 서울대학교 |
성과제출연도 | 2009 |
연구기간 | 200312~201008 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1415109192 |
---|---|
세부과제번호 | 10030573 |
연구과제명 | Photonic CMOS 기반의 Intelligent Silicon Bead 기술개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
연구주관기관명 | 서울대학교산학협력단 |
성과제출연도 | 2010 |
연구기간 | 200709~201108 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | BT(생명공학기술) |
과제고유번호 | 1345075762 |
---|---|
세부과제번호 | R15-2003-032-03001-0 |
연구과제명 | C로봇의기술개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국과학재단 |
연구주관기관명 | 서울대학교 |
성과제출연도 | 2008 |
연구기간 | 200709~201008 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
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