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플렉서블 기판상의 미세 전극 간격 형성 방법

  • 기술번호 : KST2015132670
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 플렉서블 기판상의 미세 전극 간격 형성 방법은, 플렉서블 기판상의 미리 설정된 복수의 영역에 전극층을 형성하는 단계, 및 그림자 효과(shdow effect)를 이용하여 형성된 전극층들 사이의 미리 설정된 영역에 전극층들 중 일부와 연결된 연장 전극층을 증착하여 형성하는 단계를 포함한다. 그림자 효과를 이용하여 이미 형성된 전극의 일측에 연장된 전극을 추가로 형성함으로써, 공정단계가 간단하고 공정비용이 적게 들어 대량 생산이 가능하면서도, 아세톤 등을 이용한 화학 공정이 필요 없어 플렉서블 기판에도 적용 가능하게 된다.
Int. CL H01L 21/28 (2006.01) H01L 29/786 (2006.01)
CPC H01L 21/28(2013.01) H01L 21/28(2013.01)
출원번호/일자 1020100130511 (2010.12.20)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1213139-0000 (2012.12.11)
공개번호/일자 10-2012-0069107 (2012.06.28) 문서열기
공고번호/일자 (20121218) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.12.20)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김규태 대한민국 경기도 광명시 가림일로 **,
2 전대영 대한민국 서울특별시 성북구
3 박소정 대한민국 서울특별시 성북구
4 김윤정 대한민국 서울특별시 동대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인주원 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(논현동, 건설회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.12.20 수리 (Accepted) 1-1-2010-0837928-80
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.09.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.10.13 수리 (Accepted) 9-1-2011-0079986-36
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.03.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0160580-10
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.05.21 수리 (Accepted) 1-1-2012-0401499-15
6 보정요구서
Request for Amendment
2012.05.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0066576-01
7 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2012.06.20 수리 (Accepted) 1-1-2012-0432496-94
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.06.20 수리 (Accepted) 1-1-2012-0491573-28
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.06.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0509194-94
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.06.26 수리 (Accepted) 1-1-2012-0509172-90
11 등록결정서
Decision to grant
2012.11.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0703772-16
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
플렉서블 기판상의 미리 설정된 복수의 전극층 영역에 전극층을 형성하는 단계; 및그림자 효과를 이용하여 상기 전극층들 사이의 미리 설정된 연장 전극층 영역에 상기 전극층들 중 일부와 연결된 연장 전극층을 증착하여 형성하는 단계를 포함하는 플렉서블 기판상의 미세 전극 간격 형성 방법으로서,상기 연장 전극층의 형성 물질이 상기 연장 전극층 영역에만 증착되도록 하는 개구 패턴이 형성된 마스크 부재를 상기 전극층 영역상에 위치시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판상의 미세 전극 간격 형성 방법
2 2
제 1항에 있어서,상기 연장 전극층이 형성되는 영역의 크기는 상기 그림자 효과를 유발하는 증착 각도의 조절에 의해 조절되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판상의 미세 전극 간격 형성 방법
3 3
제 2항에 있어서,상기 증착 각도의 조절은 상기 기판의 기울임 각도를 조절함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판상의 미세 전극 간격 형성 방법
4 4
제 1항에 있어서,상기 연장 전극층이 형성되는 영역의 크기는 상기 연장 전극층 증착 시간의 조절에 의해 조절되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판상의 미세 전극 간격 형성 방법
5 5
제 1항에 있어서,상기 연장 전극층의 증착은 전자빔 증착을 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판상의 미세 전극 간격 형성 방법
6 6
제 1항에 있어서,상기 전극층들 사이의 미리 설정된 영역은 트랜지스터 소자의 소스 전극과 드레인 전극 사이의 영역인 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판상의 미세 전극 간격 형성 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 한국과학재단 교육과학기술부 세계적수준의연구중심대학육성사업 플렉서블 나노시스템 기반기술