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응력 집중 구조를 이용한 박막 균열 제어를 통해 스트레인 센서를 제조하는 방법 및 이를 이용하여 제조된 스트레인 센서

  • 기술번호 : KST2022013823
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 응력 집중 구조를 이용한 박막 균열 제어를 통해 스트레인 센서를 제조하는 방법은, 스트레인 센서의 전도성 박막 물질로 사용될 용액과 스트레인 센서를 형성할 유연 기판을 준비하는 단계; 유연 기판 상에 2차원 평면(xy 평면)으로 경계를 가지는 구조 또는 평면에 수직한 방향(z 방향)으로 경계를 가지는 3차원 구조로 형성되는 마이크로 노치(MN; micro notch)를 반복적으로 증착하여 응력 집중 구조를 형성하는 단계; 및 응력 집중 구조의 적어도 일부와 중첩되도록 유연 기판 상에 전도성 박막을 증착하여 스트레인 센서를 형성하는 단계;를 포함한다. 이에 따라, 패터닝을 통해 원하는 위치에 응력 집중 구조의 제작이 가능하며, 구조의 배열 및 전도성 박막 두께를 조절하여 민감도 및 선형성을 조절하여 다양한 목적에 맞게 응용할 수 있다.
Int. CL G01L 1/22 (2006.01.01) G01L 5/161 (2020.01.01) G01L 9/00 (2006.01.01) C23C 14/34 (2006.01.01)
CPC G01L 1/2287(2013.01) G01L 5/161(2013.01) G01L 9/0002(2013.01) C23C 14/34(2013.01)
출원번호/일자 1020220007229 (2022.01.18)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0104654 (2022.07.26) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020210006673   |   2021.01.18
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.01.18)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍용택 서울특별시 강남구
2 김태훈 서울특별시 관악구
3 김대식 서울특별시 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김 순 영 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)
2 김영철 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 (수송동, 석탄회관빌딩)(케이씨엘특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.01.18 수리 (Accepted) 1-1-2022-0064012-89
2 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2022.04.04 수리 (Accepted) 4-1-2022-5079741-71
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번호 청구항
1 1
스트레인 센서의 전도성 박막 물질로 사용될 용액과 스트레인 센서를 형성할 유연 기판을 준비하는 단계;유연 기판 상에 2차원 평면(xy 평면)으로 경계를 가지는 구조 또는 평면에 수직한 방향(z 방향)으로 경계를 가지는 3차원 구조로 형성되는 마이크로 노치(MN; micro notch)를 반복적으로 증착하여 응력 집중 구조를 형성하는 단계; 및응력 집중 구조의 적어도 일부와 중첩되도록 유연 기판 상에 전도성 박막을 증착하여 스트레인 센서를 형성하는 단계;를 포함하는, 응력 집중 구조를 이용한 박막 균열 제어를 통해 스트레인 센서를 제조하는 방법
2 2
제1항에 있어서, 응력 집중 구조를 형성하는 단계는,바(bar) 형태의 일정한 간격을 갖는 어레이 구조로 패터닝하는, 응력 집중 구조를 이용한 박막 균열 제어를 통해 스트레인 센서를 제조하는 방법
3 3
제1항에 있어서, 응력 집중 구조를 형성하는 단계는,마이크로 노치의 배열을 통해 유연 기판 상에 형성되는 균열을 조절하여, 유연 기판을 통해 흐르는 전류의 전도 경로를 조절하는, 응력 집중 구조를 이용한 박막 균열 제어를 통해 스트레인 센서를 제조하는 방법
4 4
제3항에 있어서, 응력 집중 구조를 형성하는 단계는,마이크로 노치 간의 간격이 가까워짐에 따라, 응력 집중 구조 경계의 균열끼리 병합되어 균열의 성장 길이를 결정하고, 균열이 전도 경로를 차단하여 전류의 흐름을 감소시키는, 응력 집중 구조를 이용한 박막 균열 제어를 통해 스트레인 센서를 제조하는 방법
5 5
제1항에 있어서, 응력 집중 구조를 형성하는 단계는,예리한 경계를 갖는 마이크로 노치를 프린팅, 몰딩, 증착 및 포토공정 중 적어도 하나를 이용하여 형성하는, 응력 집중 구조를 이용한 박막 균열 제어를 통해 스트레인 센서를 제조하는 방법
6 6
제1항에 있어서, 전도성 박막을 증착하여 스트레인 센서를 형성하는 단계는,전도성 박막의 응력에 따른 저항 변화를 조절하는, 응력 집중 구조를 이용한 박막 균열 제어를 통해 스트레인 센서를 제조하는 방법
7 7
제6항에 있어서, 전도성 박막을 증착하여 스트레인 센서를 형성하는 단계는,마이크로 노치의 개수 및 길이와 전도성 박막의 두께를 조절하여 전도성 박막 상 균열의 길이 및 성장 속도를 조절하는, 응력 집중 구조를 이용한 박막 균열 제어를 통해 스트레인 센서를 제조하는 방법
8 8
제7항에 있어서, 전도성 박막을 증착하여 스트레인 센서를 형성하는 단계는,전도성 박막 상 균열의 길이 및 성장 속도를 조절하여 전도성 박막의 전도 경로를 조절하는, 응력 집중 구조를 이용한 박막 균열 제어를 통해 스트레인 센서를 제조하는 방법
9 9
제1항에 있어서, 단일벽탄소나노튜브 잉크(SWCNT ink)를 사용한 경우, DI 워터(Deionized water)로 세정(rinsing)하는 단계; 및핫 플레이트를 통해 건조(dry)하는 단계;를 더 포함하는, 응력 집중 구조를 이용한 박막 균열 제어를 통해 스트레인 센서를 제조하는 방법
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제1항에 있어서, 전도성 박막 물질은,Silver Nanowires(AgNWs), Single-Walled CarbonNanotubes(SWCNT), Multi-Walled CarbonNanotubes(MWCNT), Zinc-Oxide Nanowires(ZnONWs), 은, 알루미늄 및 구리 중 적어도 하나를 포함하는, 응력 집중 구조를 이용한 박막 균열 제어를 통해 스트레인 센서를 제조하는 방법
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제1항에 있어서, 유연 기판은,PDMS, 실리콘 루버(Silicon rubber), 폴리우레탄(poly-urethane), 에코플렉스(ecoflex), 드래곤스킨(Dragon-Skin), 및 신축성 테입(stretchable tape) 중 적어도 하나를 포함하는, 응력 집중 구조를 이용한 박막 균열 제어를 통해 스트레인 센서를 제조하는 방법
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제1항 내지 제11항 중 어느 하나의 항에 따른 응력 집중 구조를 이용한 박막 균열 제어를 통해 스트레인 센서를 제조하는 방법을 이용하여 제조된 스트레인 센서
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.