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반사율을 높이는 유전체 거울 형성 및 유전체 거울을이용한 필터 형성 방법

  • 기술번호 : KST2015174878
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 반사율을 높이는 유전체 거울 다층 반사 구조 형성 방법 및 유전체 거울을 사용한 공진모드 파장 변화가능필터(Tunable passband filter)의 변화가능 파장 범위(Tunable wavelength range)를 넓히고 공진모드(Resonant mode)의 폭(Bandwith)을 줄이는 공진기 혹은 패스밴드필터의 형성 방법에 관한 것이다. 즉, 본 발명은 1차원 광결정구조를 이용한 유전체 거울 및 유전체 거울이 사용되는 투과필터의 성능향상에 있어서, 매질의 굴절률에 따라 매질과 인접하는 최외부 유전체 계층의 굴절률 및 두께를 조정하여 유전체 거울의 반사율을 향상시킴으로써, 이를 통해 더 적은 층을 쌓아도 같은 반사율을 얻는 것이 가능하도록 한다. 또한 2개의 유전체 거울이 사용되는 공진기 혹은 패스밴드필터에서는 바깥쪽 최외부 유전체 층을 적절히 선택함을 통해 공진기 모드의 폭을 줄이며, 2개의 유전체 거울이 사용되는 파장변화가능 필터에서 안쪽 최외부 유전체 층을 적절히 선택함을 통해 변화가능한 파장의 범위를 증가시킨다.
Int. CL H01P 7/10 (2006.01)
CPC H01P 7/10(2013.01) H01P 7/10(2013.01) H01P 7/10(2013.01)
출원번호/일자 1020040011363 (2004.02.20)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자 10-0837077-0000 (2008.06.03)
공개번호/일자 10-2005-0082790 (2005.08.24) 문서열기
공고번호/일자 (20080613) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.01.08)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정일석 대한민국 광주광역시북구
2 이용탁 대한민국 광주광역시북구
3 박해용 대한민국 대전광역시유성구
4 김재은 대한민국 대전광역시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이재관 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)(특허법인이상)
2 김상철 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)(특허법인이상)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2004.02.20 수리 (Accepted) 1-1-2004-0070521-81
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.07.27 수리 (Accepted) 4-1-2004-0031183-30
3 출원심사청구서
Request for Examination		 2007.01.08 수리 (Accepted) 1-1-2007-0014530-04
4 대리인변경신고서
Agent change Notification		 2007.05.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0375633-19
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2007.11.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2007.12.05 수리 (Accepted) 9-1-2007-0074098-18
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.01.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0030645-02
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.03.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0210482-87
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.03.24 수리 (Accepted) 1-1-2008-0210489-06
10 등록결정서
Decision to grant		 2008.05.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0293445-12
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5187089-85
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
반사율을 높이는 유전체 거울 형성 방법에 있어서,(a)매질의 굴절률을 유전체 거울을 구성하는 유전체 층들의 굴절률과 비교하는 단계와,(b)상기 유전체 층들의 최외부 유전체 층에 적층될 유전체 층의 굴절률을 검사하는 단계와,(c) 상기 (a)단계 및 (b)단계의 판단에 따라,상기 매질의 굴절률이 상기 유전체 층들 중 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층의 굴절률보다 낮고, 최외부 유전체 층에 높은 굴절률을 가지는 유전체 층이 요구되는 경우에 상기 최외부 유전체 층에 높은 굴절률을 가지는 유전체 층을 1/4 파장 조건을 만족시키는 두께로 적층시키고,상기 매질의 굴절률이 상기 유전체 층들 중 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층의 굴절률보다 낮고, 최외부 유전체 층에 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층이 요구되는 경우에 상기 최외부 유전체 층에 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층을 1/4 파장 조건을 만족시키는 두께의 2배가 되도록 적층시키는 단계와,(d)상기 최외부 유전체 층 이후에는 서로 다른 굴절률의 유전체 층을 반복적으로 적층시켜 유전체 거울을 형성시키는 단계,를 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 거울 형성 방법
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제1항에 있어서, 상기 (c)단계에서, 상기 매질의 굴절률이 상기 유전체 층들 중 높은 굴절률을 가지는 유전체 층의 굴절률보다 높고, 최외부 유전체 층에는 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층이 요구되는 경우, (g)상기 최외부 유전체 층에 1/4 파장 조건을 만족시키는 두께의 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층을 적층시키는 단계와, (h)상기 최외부 유전체 층 이후에는 서로 다른 굴절률의 유전체 층을 반복적으로 적층시켜 유전체 거울을 형성시키는 단계, 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 거울 형성 방법
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제1항에 있어서, 상기 (c)단계에서, 상기 매질의 굴절률이 상기 유전체 층들 중 높은 굴절률을 가지는 유전체 층의 굴절률보다 높고, 최외부 유전체 층에는 높은 굴절률을 가지는 유전체 층이 요구되는 경우, (i)상기 최외부 유전체 층에 1/4 파장 조건을 만족시키는 두께의 2배가 되도록 높은 굴절률을 가지는 유전체 층을 적층시키는 단계와, (j)상기 최외부 유전체 층 이후에는 서로 다른 굴절률의 유전체 층을 반복적으로 적층시켜 유전체 거울을 형성시키는 단계, 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 거울 형성 방법
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공진모드의 폭이 작은 패스밴드필터의 형성 방법에 있어서, (a')바깥쪽 최외부 유전체 층과 접하는 매질의 굴절률을 유전체 거울을 형성하는 두 가지 유전체 층들의 굴절률과 비교하는 단계와, (b')상기 바깥쪽 최외부 유전체 층에 적층될 유전체 층의 굴절률을 검사하는 단계와, (c')상기 매질의 굴절률이 상기 유전체 거울을 형성하는 유전체 층들 중 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층의 굴절률보다 낮고, 최외부 유전체 층에는 높은 굴절률을 가지는 유전체 층이 요구되는 경우, 바깥쪽 최외부 유전체 층에 높은 굴절률을 가지는 유전체 층을 적층시키는 단계와, (d')상기 바깥쪽 최외부 유전체 층 이후에는 서로 다른 굴절률의 유전체 층을 반복적으로 적층시켜 유전체 거울을 이용한 패스밴드필터를 형성시키는 단계, 를 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 거울을 사용하는 패스밴드 필터 형성 방법
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제7항에 있어서, 상기 (c')단계에서의 최외부 유전체 층에 적층되는 높은 굴절률의 유전체 층은, 1/4 파장 조건을 만족시키는 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체 거울을 사용하는 패스밴드 필터 형성 방법
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제7항에 있어서, 상기 (c')단계에서, 상기 바깥쪽 최외부 유전체 층에 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층이 요구되는 경우, (e')상기 바깥쪽 최외부 유전체 층에 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층을 적층시키는 단계와, (f')상기 바깥쪽 최외부 유전체 층 이후에는 서로 다른 굴절률의 유전체 층을 반복적으로 적층시켜 유전체 거울을 이용한 패스밴드필터를 형성시키는 단계, 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 거울을 사용하는 패스밴드 필터 형성 방법
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제9항에 있어서, 상기 (e')단계에서의 최외부 유전체 층에 적층되는 낮은 굴절률의 유전체 층은, 1/4 파장 조건을 만족시키는 두께의 2배가 되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체 거울을 사용하는 패스밴드 필터 형성 방법
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제7항에 있어서, 상기 (c')단계에서, 상기 매질의 굴절률이 상기 유전체 층들 중 높은 굴절률을 가지는 유전체 층의 굴절률보다 높고, 바깥쪽 최외부 유전체 층에는 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층이 요구되는 경우, (g')상기 바깥쪽 최외부 유전체 층에 1/4 파장 조건을 만족시키는 두께의 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층을 적층시키는 단계와, (h')상기 바깥쪽 최외부 유전체 층 이후에는 서로 다른 굴절률의 유전체 층을 반복적으로 적층시켜 유전체 거울을 형성시키는 단계, 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 거울을 사용하는 패스밴드 필터 형성 방법
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제7항에 있어서, 상기 (c')단계에서, 상기 매질의 굴절률이 상기 유전체 층들 중 높은 굴절률을 가지는 유전체 층의 굴절률보다 높고, 바깥쪽 최외부 유전체 층에는 높은 굴절률을 가지는 유전체 층이 요구되는 경우, (i')상기 바깥쪽 최외부 유전체 층에 1/4 파장 조건을 만족시키는 두께의 2배가 되도록 높은 굴절률을 가지는 유전체 층을 적층시키는 단계와, (j')상기 바깥쪽 최외부 유전체 층 이후에는 서로 다른 굴절률의 유전체 층을 반복적으로 적층시켜 유전체 거울을 형성시키는 단계, 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 거울을 사용하는 패스밴드 필터 형성 방법
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공진모드의 주파수 변화폭이 넓은 주파수 변화 가능 필터의 형성 방법에 있어서, (a")안쪽 최외부 유전체 층과 접하는 매질의 굴절률을 유전체 거울을 형성하는 두 가지 유전체 층들의 굴절률과 비교하는 단계와, (b")상기 안쪽 최외부 유전체 층에 적층될 유전체 층의 굴절률을 검사하는 단계와, (c")상기 매질의 굴절률이 상기 유전체 거울을 형성하는 유전체 층들 중 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층의 굴절률보다 낮고, 최외부 유전체 층에는 높은 굴절률을 가지는 유전체 층이 요구되는 경우, 안쪽 최외부 유전체 층에 높은 굴절률을 가지는 유전체 층을 적층시키는 단계와, (d")상기 안쪽 최외부 유전체 층 이후에는 서로 다른 굴절률의 유전체 층을 반복적으로 적층시켜 유전체 거울을 형성시키는 단계, 를 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 거울을 사용하는 주파수 변화폭이 넓은 주파수 변화 가능 필터 형성 방법
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제13항에 있어서, 상기 (c")단계에서의 안쪽 최외부 유전체 층에 적층되는 높은 굴절률의 유전체 층은, 1/4 파장 조건을 만족시키는 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체 거울을 사용하는 주파수 변화폭이 넓은 주파수 변화 가능 필터 형성 방법
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제13항에 있어서, 상기 (c")단계에서, 상기 안쪽 최외부 유전체 층에 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층이 요구되는 경우, (e")상기 안쪽 최외부 유전체 층에 낮을 굴절률을 가지는 유전체 층을 적층시키는 단계와, (f")상기 안쪽 최외부 유전체 층 이후에는 서로 다른 굴절률의 유전체 층을 반복적으로 적층시켜 유전체 거울을 형성시키는 단계, 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 거울을 사용하는 주파수 변화폭이 넓은 주파수 변화 가능 필터 형성 방법
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제15항에 있어서, 상기 (e")단계에서의 최외부 유전체 층에 적층되는 낮은 굴절률의 유전체 층은, 1/4 파장 조건을 만족시키는 두께의 2배가 되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체 거울을 사용하는 주파수 변화폭이 넓은 주파수 변화 가능 필터 형성 방법
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제13항에 있어서, 상기 (c")단계에서, 상기 매질의 굴절률이 상기 유전체 층들 중 높은 굴절률을 가지는 유전체 층의 굴절률보다 높고, 안쪽 최외부 유전체 층에는 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층이 요구되는 경우, (g")상기 안쪽 최외부 유전체 층에 1/4 파장 조건을 만족시키는 두께의 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층을 적층시키는 단계와, (h")상기 안쪽 최외부 유전체 층 이후에는 서로 다른 굴절률의 유전체 층을 반복적으로 적층시켜 유전체 거울을 형성시키는 단계, 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 거울을 사용하는 주파수 변화폭이 넓은 주파수 변화 가능 필터 형성 방법
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제13항에 있어서, 상기 (c")단계에서, 상기 매질의 굴절률이 상기 유전체 층들 중 높은 굴절률을 가지는 유전체 층의 굴절률보다 높고, 안쪽 최외부 유전체 층에는 높은 굴절률을 가지는 유전체 층이 요구되는 경우, (i")상기 안쪽 최외부 유전체 층에 1/4 파장 조건을 만족시키는 두께의 2배가 되도록 높은 굴절률을 가지는 유전체 층을 적층시키는 단계와, (j")상기 안쪽 최외부 유전체 층 이후에는 서로 다른 굴절률의 유전체 층을 반복적으로 적층시켜 유전체 거울을 형성시키는 단계, 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 거울을 사용하는 주파수 변화폭이 넓은 주파수 변화 가능 필터 형성 방법
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제13항에 있어서, 상기 (c")단계에서, 상기 매질의 굴절률이 상기 유전체 층들 중 높은 굴절률을 가지는 유전체 층의 굴절률보다 높고, 안쪽 최외부 유전체 층에는 높은 굴절률을 가지는 유전체 층이 요구되는 경우, (i")상기 안쪽 최외부 유전체 층에 1/4 파장 조건을 만족시키는 두께의 2배가 되도록 높은 굴절률을 가지는 유전체 층을 적층시키는 단계와, (j")상기 안쪽 최외부 유전체 층 이후에는 서로 다른 굴절률의 유전체 층을 반복적으로 적층시켜 유전체 거울을 형성시키는 단계, 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 거울을 사용하는 주파수 변화폭이 넓은 주파수 변화 가능 필터 형성 방법
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