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정전기 방전 구조를 갖는 발광 다이오드의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2014013720
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 정전기 방전 구조를 갖는 발광 다이오드의 제조방법에 관하여 개시한다. 본 발명의 방법은, 발광 다이오드용 구성요소의 일부가 형성된 발광 다이오드용 기판과 전극층이 형성되어 있는 다이오드 역할을 하는 전도성 기판을 웨이퍼 본딩하여 back to back 구조를 형성한 후 발광 다이오드용 기판을 제거하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 다이오드 특성의 전도성 기판과 전극에 와이어 본딩함으로써 정전기 방전 특성과 광학적 특성, 전기적 특성 및 열적 특성의 향상을 꾀할 수 있으며, 2번의 와이어 본딩만으로 정전기 방전 특성을 갖는 발광 다이오드를 제조할 수 있으므로 공정이 간단하여 경제적인 측면에서도 우수하다.발광 다이오드, 정전기 방전 구조, 전도성 기판, 와이어 본딩
Int. CL H01L 33/36 (2014.01)
CPC H01L 33/36(2013.01) H01L 33/36(2013.01) H01L 33/36(2013.01) H01L 33/36(2013.01) H01L 33/36(2013.01) H01L 33/36(2013.01) H01L 33/36(2013.01)
출원번호/일자 1020060065877 (2006.07.13)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자 10-0809822-0000 (2008.02.26)
공개번호/일자 10-2008-0006753 (2008.01.17) 문서열기
공고번호/일자 (20080304) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.07.13)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박성주 대한민국 광주 북구
2 박태영 대한민국 광주 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김삼용 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길**, *층(대치동, 동산빌딩) (인비전 특허법인)
2 김상철 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)(특허법인이상)
3 이재관 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)(특허법인이상)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 에이치씨 세미테크 코퍼레이션 중국 ****** 우한 이스트 레이크 하이 테크놀러지 디벨롭먼트 존 빈후 로드 넘
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.07.13 수리 (Accepted) 1-1-2006-0501299-06
2 대리인변경신고서
Agent change Notification
2007.06.21 수리 (Accepted) 1-1-2007-0448738-05
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0419029-19
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2007.09.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0701356-81
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2007.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2007-0701390-23
6 등록결정서
Decision to grant
2008.01.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0050022-36
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5187089-85
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
발광 다이오드용 기판 상에 n형 반도체층, 발광 활성층, p형 반도체층, 반사전극층 및 접합층을 순차적으로 형성하는 단계와;다이오드 역할을 하는 전도성 기판을 마련하는 단계와;상기 전도성 기판 상에 다이오드용 전극층을 형성하는 단계와;상기 다이오드용 전극층을 상기 접합층에 접합시키는 단계와;상기 발광 다이오드용 기판을 제거하는 단계와;상기 반사전극층의 소정영역이 노출되도록 상기 n형 반도체층, 상기 발광 활성층 및 상기 p형 반도체층을 메사 식각하는 단계와;상기 n형 반도체 상의 소정영역에는 n형 전극을 형성하고 상기 반사전극층에 있어서 노출된 영역에는 p형 전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정전기 방전 구조를 갖는 발광 다이오드의 제조방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 다이오드는 p-n 다이오드, Schottky 다이오드 및 Zener 다이오드 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 정전기 방전 구조를 갖는 발광 다이오드의 제조방법
3 3
제 1항에 있어서, 상기 반사전극층은 Ag, Al, Ni, Pt, Pd, Ag 합금, Al 합금, Ni 합금, Pt 합금, 및 Pd 합금 중에서 선택된 어느 하나를 이용하여 30nm~5㎛ 두께로 형성하는 것을 특징으로 하는 정전기 방전 구조를 갖는 발광 다이오드의 제조방법
4 4
제 1항에 있어서, 상기 다이오드가 p-n 다이오드 또는 Zener 다이오드이면 상기 다이오드용 전극층은 일함수가 그 다이오드들의 일함수보다 큰 물질을 사용하고,상기 다이오드가 Schottky 다이오드이면 상기 다이오드용 전극층은 일함수가 그 다이오드의 일함수보다 작은 물질을 사용하는 것을 특징으로 하는 정전기 방전 구조를 갖는 발광 다이오드의 제조방법
5 5
제 4항에 있어서, 상기 다이오드용 전극층은 Al, Ta, Ag, Ti, Fe, Mo, Sn, W, Cr, Cu, Ru, Rh, Co, Pd, Ni, Re, Au 및 Pt 중에서 선택된 어느 하나가 포함된 합금을 이용하여 30nm~5㎛ 두께로 형성하는 것을 특징으로 하는 정전기 방전 구조를 갖는 발광 다이오드의 제조방법
6 6
제 1항에 있어서, 상기 다이오드용 전극층을 상기 접합층에 접합시키는 단계는 10~1200℃의 온도와 10kgf/㎠~500kgf/㎠의 압력으로 실시하는 것을 정전기 방전 구조를 갖는 발광 다이오드의 제조방법
7 7
제 6항에 있어서, 상기 접합층은 상기 다이오드용 전극층과 공정 반응이 일어나는 물질을 사용하여 10nm~1㎝ 두께로 형성하는 것을 특징으로 하는 정전기 방전 구조를 갖는 발광 다이오드의 제조방법
8 8
제 1항에 있어서, 상기 다이오드용 전극층 상에 제2 접합층을 10nm~1㎝ 두께로 형성하며, 상기 다이오드용 전극층을 상기 접합층에 접합시키는 단계는 상기 접합층과 상기 제2 접합층을 접합시킴으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 정전기 방전 구조를 갖는 발광 다이오드의 제조방법
9 9
제 8항에 있어서, 상기 접합층과 상기 제2 접합층으로는 서로 공정 반응이 일어날 수 있는 물질이 각각 사용되는 것을 특징으로 하는 정전기 방전 구조를 갖는 발광 다이오드의 제조방법
10 10
제 1항에 있어서, 상기 발광 다이오드용 기판은 레이저 리프트 오프 방법, 기계적 연마 방법 및 화학적 에칭 중에서 선택된 어느 하나의 방법으로 제거하는 것을 특징으로 하는 정전기 방전 구조를 갖는 발광 다이오드의 제조방법
11 11
제 1항에 있어서, 상기 발광 다이오드용 기판의 두께가 100㎛~1nm 될 때 까지 기계적 연마 방법으로 연마한 화학적 에칭으로 제거하는 것을 특징으로 하는 정전기 방전 구조를 갖는 발광 다이오드의 제조방법
12 12
제 10항 또는 제 11항에 있어서, 상기 화학적 에칭 방법은 상기 발광 다이오드용 기판을 100℃ 이상의 강산용액에 담금으로써 상기 발광 다이오드용 기판을 제거하는 것임을 특징으로 하는 정전기 방전 구조를 갖는 발광 다이오드의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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