| 1 |
1
기판상에 도전성 금속 분말을 포함하는 감광성 금속 페이스트를 코팅한 후 건조하여 도막을 형성하는 단계와,
상기 기판의 도막 상면에 소정의 패턴을 갖는 X-선 마스크를 정렬한 후 다수개의 X-선 튜브를 이용하여 상기 X-선 마스크 표면을 스캔하면서 대면적으로 X-선을 조사하는 단계와,
상기 X-선이 조사된 도막을 현상하여 전극패턴을 형성하는 단계,
현상하여 형성된 상기 전극패턴을 소성(firing)하여 소결된 전극패턴을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 X-선을 이용한 금속 전극패턴의 제조방법
|
| 2 |
2
청구항 1에 있어서, 상기 X-선은 0
|
| 3 |
3
청구항 1에 있어서,
상기 X-선의 조사는 전자 충격형(x-ray tube), 플라즈마형 또는 싱크로트론 이용하여 조사하는 것을 특징으로 하는 X-선을 이용한 금속 전극패턴의 제조방법
|
| 4 |
4
삭제
|
| 5 |
5
삭제
|
| 6 |
6
청구항 1에 있어서, 상기 X-선의 조사량은 10 내지 1000mJ/㎤인 것을 특징으로 하는 X-선을 이용한 금속 전극패턴의 제조방법
|
| 7 |
7
청구항 1에 있어서, 상기 도전성 금속분말은 은(Ag), 금(Au), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 니켈(Ni), 크롬(Cr) 및 은-팔라듐 합금(Ag-Pd)으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 X-선을 이용한 금속 전극패턴의 제조방법
|
| 8 |
8
청구항 1에 있어서, 상기 X-선 마스크는 투과막과 흡수체를 포함하여 이루어지며, 상기 흡수체는 금(Au), 텅스텐(W), 몰리브데늄(Mo), 탄탈륨(Ta) 및 납(Pb)으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 X-선을 이용한 금속 전극패턴의 제조방법
|
| 9 |
9
청구항 1 내지 3 및 6 내지 8 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 것을 특징으로 하는 금속 전극패턴
|
| 10 |
10
청구항 9의 금속 전극패턴을 포함함을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널
|
